寺田 享右 | 静岡大学電子工学研究所
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概要
関連著者
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山崎 貴久
静岡大学
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清野 俊明
日本製鋼所
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畑中 義式
愛知工科大学
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原 和彦
静岡大学
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小南 裕子
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
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寺田 享右
静岡大学電子工学研究所
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山崎 貴久
静岡大学電子工学研究所
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畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
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畑中 義式
静岡大
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寺田 享右
静岡大学 電子工学研究所
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中西 洋一郎
静大電子研
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Nakanishi Yoshiki
Department Of Materials Science And Engineering Iwate University
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畑中 義式
浜松ホトニクスKK静岡大学電子工学研究所
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小南 裕子
静岡大学
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原 和彦
静岡大学電子工学研究所
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原 和彦
静岡大学 電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学
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小南 裕子
静岡大学 電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学 電子科学研究科
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山崎 貴久
静岡大学 電子工学研究所
著作論文
- レーザアニールによるSrGa_2S_4:Eu^薄膜蛍光体作製プロセスの低温化(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- レーザアニールによるSrGa_2S_4:Eu^薄膜蛍光体作製プロセスの低温化(ディスプレイに関する技術全般,LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品・材料及び応用技術,発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- レーザアニールによるSrGa_2S_4:Eu^薄膜蛍光体作製プロセスの低温化