六方晶BN粉末の紫外発光に対する熱処理の効果(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
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概要
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六方晶窒化ホウ素(h-BN)の粉末蛍光体応用に着目し,発光制御に関する知見を得ることを目的として,紫外発光に対する真空中および各種ガス(N_2,H_2,NH_3およびO_2)雰囲気中での熱処理の効果について調べた.カソードルミネッセンスにより評価を行った結果,熱処理を行わない試料の発光は,320nm付近を中心とする発光バンドが支配的であった.この発光の強度は,真空中では1200℃を超える熱処理により著しく減少した.また,H_2およびNH_3雰囲気中1200℃の熱処理によっても,この発光は減少した.一方,O_2雰囲気中では,900℃の熱処理により大幅に増加した.以上の結果より,320nm帯の発光には酸素が関与していると推測される.
- 2009-01-29
著者
-
小南 裕子
静岡大学
-
中西 洋一郎
静岡大学
-
原 和彦
静岡大学
-
小南 裕子
静岡大学電子工学研究所
-
中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
-
原 和彦
静岡大学電子工学研究所
-
劉 〓
静岡大学電子工学研究所
-
原 和彦
静岡大学 電子工学研究所
-
中西 洋一郎
静岡大
-
中西 洋一郎
静大電子研
-
Nakanishi Yoshiki
Department Of Materials Science And Engineering Iwate University
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