河村 和彦 | 新日本製鉄株式会社 エレクトロニクス研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• 新日本製鉄株式会社 エレクトロニクス研究所の論文著者

関連著者

• 山口 十六夫

  静岡大学電子工学研究所

• 斎藤 順雄

  静岡大学電子工学研究所

• 冨岡 雄吾

  静岡大学電子工学研究所

• 河村 和彦

  新日本製鉄株式会社 エレクトロニクス研究所

• 中西 洋一郎

  静岡大学電子工学研究所

• 河村 和彦

  新日本製鉄株式会社エレクトロニクス研究所

• 河村 和彦

  新日本製鉄株式会社中央研究本部第一技術研究所

著作論文

• Co-sputter法によるAl及びB添加a-SiC:H薄膜の電気的特性
• Co-sputter法によるa-SixCyAlz:H薄膜の作製と特性 (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
• Co-sputter法によるB添加a-SiC:H薄膜の作製と光学的特性 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)

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