冨岡 雄吾 | 静岡大学電子工学研究所
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概要
関連著者
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山口 十六夫
静岡大学電子工学研究所
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斎藤 順雄
静岡大学電子工学研究所
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冨岡 雄吾
静岡大学電子工学研究所
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河村 和彦
新日本製鉄株式会社 エレクトロニクス研究所
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中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
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後藤 智弘
静岡大学電子工学研究所
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芝山 宗昭
四国総合研究所
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河村 和彦
新日本製鉄株式会社エレクトロニクス研究所
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河村 和彦
新日本製鉄株式会社中央研究本部第一技術研究所
著作論文
- 窒素導入マグネトロンスパッタa-SiC:H薄膜の特性 (第31回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- Co-sputter法によるAl及びB添加a-SiC:H薄膜の電気的特性
- Co-sputter法によるa-SixCyAlz:H薄膜の作製と特性 (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- Co-sputter法によるB添加a-SiC:H薄膜の作製と光学的特性 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)