吉田 貞史 | 電子技術総合研究所
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概要
関連著者
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吉田 貞史
電子技術総合研究所
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吉田 貞史
電総研
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三沢 俊司
日本真空超材研
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鈴木 義茂
電総研
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三沢 俊司
電総研
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片山 利一
電総研
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村上 寛
電子技術総合研究所
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片山 利一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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原 史朗
産業技術総合研究所
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遠藤 和弘
電子技術総合研究所
著作論文
- 2p-B-8 C^+ビームで作製した非晶質炭素膜のELSによる解析
- 宇宙での超伝導薄膜の作製(地上での予備実験)
- 酸素圧制御による超伝導薄膜の作製(II)
- 酸素圧制御による超伝導薄膜の作製
- 25p-Q-12 Y系超伝導焼結体の磁束密度分布と臨界電流密度
- 2p-YF-5 3C-SiC(001)-c(2×2)炭素終端表面の原子配列構造
- 30a-N-13 CdTe/Cd_Mn_xTe多重量子井戸構造の強磁場吸収スペクトル
- 4元混晶のバンド不連続の予測 (超格子素子基礎技術) -- (超格子設計)
- 28a-ZL-9 磁性体の磁気光学効果を用いた超伝導薄膜の磁束密度分布の観察
- ワイドギャップ半導体 : ハードエレクトロニクスと青色発光を目指して