横山 侑子 | 産総研エレクトロニクス
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概要
関連著者
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横山 侑子
産総研エレクトロニクス
-
横山 侑子
電総研
-
鈴木 義茂
電総研
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新庄 輝也
京大化研
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安藤 功兒
電総研
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重藤 訓志
理研
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湯浅 新治
電総研
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川越 毅
大阪教育大
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片山 利一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
重藤 訓志
京大化研
-
小野 輝男
阪大基礎工
-
川越 毅
Jrcat-atp
-
川越 毅
Jrcat
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鈴木 義茂
産総研
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壬生 攻
京大化研
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片山 利一
電総研
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横山 侑子
電子技術総合研究所
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臼倉 将司
明治大
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横山 侑子
産総研
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奥野 拓也
京大化研
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鈴木 義茂
阪大院基礎工
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安藤 功兒
電子技術総合研究所
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三宅 耕作
京大化研
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新庄 輝也
大阪大学大学院基礎工学研究科
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Miltat J.
CNRS-パリ南大
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Thiaville A.
CNRS-パリ南大
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鈴木 義茂
電総研:jrcat-融合研
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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三宅 耕作
東北大工
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奥野 拓也
京大低物セ
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荒井 祓彦
明治大
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安藤 功見
電子技術総合研究所
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新庄 輝也
京大 化研
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湯浅 新治
電子技術総合研究所
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鈴木 義茂
JRCAT
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鈴木 義茂
Jrcat-融合研
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長浜 太郎
産総研エレクトロニクス
-
鈴木 義茂
産総研エレクトロニクス
-
重藤 訓志
京大
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Gogol P.
CNRS-パリ南大
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安藤 功児
電総研
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田村 英一
産経研
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湯浅 新治
産総研エレ
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相浦 義弘
産総研
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湯浅 新治
産総研
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湯浅 新治
産総研エレクトロニクス
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長濱 太郎
産総研
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田村 英一
JRCAT融合研
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相浦 義弘
電子技術総合研究所
-
長浜 太郎
産総研
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片山 利一
電子技術総合研究所
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吉田 貞史
電総研
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臼倉 将司
明治大学理工学部
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荻原 忠意
明治大学理工学部
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吉田 貞史
電子技術総合研究所
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湯浅 新治
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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久保 知也
明大理工
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小野 輝男
慶應大
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田村 英一
産総研エレクトロニクス
-
田村 英一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
平野 敬祥
明治大学理工学部
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鈴木 義茂
大阪大 大学院
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田村 英一
Jrcat-atp
-
田村 英一
Jrcat
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蓑 陽一
筑波大
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壬生 攻
京大低物セ
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大成 誠之助
筑波大院数物
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福島 章雄
産総研
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福島 章雄
産総研エレクトロニクス
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安藤 功兒
産業技術総合研究所
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腰塚 直己
超伝導工研
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中川 愛彦
電総研
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相浦 義弘
電総研
-
相浦 義弘
電子技術総合研究所電子基礎部
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小野 輝男
慶大理工
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小原 春彦
産総研
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梅田 政一
産総研
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鈴木 義茂
融合研
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宮島 英紀
慶大理工
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小原 春彦
電総研
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松畑 洋文
電総研
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鈴本 義茂
電総研
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千葉 淳弘
筑波大
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千葉 淳弘
筑波大学物理工学系
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大成 誠之助
筑波大学物理工学系
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宮島 英紀
慶應義塾大学理工学部物理学科
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大成 誠之助
筑波大 物工
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荒井 祓彦
明治大学理工学部
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新庄 輝也
京都大学化学研究所
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鈴木 義茂
電子技術総合研究所, JRCAT-産業技術融合領域研究所
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鈴木 義茂
電子技術総合研究所
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小野 輝男
慶應義塾大学
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バジム ザエツ
キエフ大学
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松畑 洋文
電子技術総合研究所
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梅田 政一
電総研
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ザエツ バジム
キエフ大学
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重藤 訓志
京都大学化学研究所
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Nyvlt Miroslav
Max-Planck-Institut
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横山 侑子
JRCAT-ATP
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GOGOL P.
CNRA-パリ南大
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MILTAT J.
CNRA-パリ南大
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THIAVILLE A.
CNRA-パリ南大
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川越 毅
JPCAT-ATP
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井野 和正
明大工
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黒崎 義成
産総研エレクトロニクス
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壬生 攻
京大 化研
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ZAETS W.
産総研
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小野 輝男
阪大基工
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Nyvlt M.
電総研
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ZAETS W.
電子技術総合研究所
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平野 敬祥
明大理工
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黒崎 義成
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門:筑波大学数理物質科学研究科
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宮島 英紀
慶應義塾大学
-
井野 和正
明大理工
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小野 輝男
慶応大
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村田 康司
東邦大理
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臼倉 将司
明大理工
-
大成 誠之助
筑波大物理工
-
鈴本 義茂
電総研:jrcat-融合研
-
蓑 陽一
筑波大物理工
-
蓑 陽一
筑波大学物理工学
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湯浅 新治
産総研エレクトロニクス:CREST-JST
-
長浜 太郎
産総研エレクトロニクス:CREST-JST
著作論文
- 高真空レーザ蒸着によるFePt合金薄膜の成長
- レーザーアブレーション法によるバリウムフェライト薄膜の作製
- レーザーアブレーション法によるBaフェライト薄膜の作製
- 25p-Q-12 Y系超伝導焼結体の磁束密度分布と臨界電流密度
- サブミクロン磁性細線の反転磁場分布
- 29pYB-15 パッド付きNiFe細線において観測される反転磁場分布の温度依存性
- 24pPSB-30 交換結合Fe/FeRh(001)膜の磁区観察
- 微細加工された強磁性細線の偏光顕微鏡による観察
- 23pE-9 微細加工された強磁性細線の偏光顕微鏡による観察
- 微細加工された強磁性細線の磁区と磁壁の運動II マイクロマグネティックスシミュレーション
- 微細加工された強磁性細線の磁区と磁壁の運動1 偏光顕微鏡による観察
- 超薄Fe(100)強磁性電極によるトンネル磁気抵抗効果の増大
- 22pWA-11 層状反強磁性 Cr (001) 挿入層による TMR 効果の振動
- レーザー蒸着法により作製したLa-Bi-Sr-Mn-O薄膜の磁気光学効果および電気伝導
- レーザー蒸着法によるLa-Bi-Sr-Mn-O薄膜の電気伝導特性
- 28a-ZL-9 磁性体の磁気光学効果を用いた超伝導薄膜の磁束密度分布の観察
- 18pWA-9 NiFe細線間に作製した微小接合に注入した磁壁の磁化配置
- 18aWA-5 磁性体ドットにおけるボルテックスコアの外部磁場中の挙動
- 23pE-7 くびれを持つ強磁性細線における磁壁のトラップとトンネリング
- 2a-X-7 反強磁性Fe-Rh-lr 合金単結晶薄膜の作製と磁気特性
- 磁気光学法による超電導特性評価 (特集:高温超電導) -- (高温超電導材料の探索)
- FeRh系合金の磁区構造と磁気光学特性 (磁気光学・光磁気記録)
- 28p-W-4 エピタキシャルFeRh合金薄膜の作製と交換磁気異方性
- FeRh系合金の磁区構造と磁気光学特性
- 液相エピタキシャル磁気光学ガ-ネット膜の光吸収に及ぼす不純物効果
- レーザーアブレーション法によるCd_Mn_xTe微粒子の作製
- レーザーアブレーション法によるCd_Mn_xTe微粒子の作製
- レーザアニール処理された磁性ガーネット薄膜の走査型プローブ顕微鏡による評価
- 8aWA-1 Cr(001)超薄膜を挿入した強磁性トンネル接合のTMR効果(トンネル磁気抵抗・メゾスコピック伝導,領域3)
- 25pPSA-41 磁性体ドットにおけるボルテックスコアの反転磁場のサイズ依存性(25pPSA 薄膜・人工格子磁性,微小領域磁性,表面・界面磁性,スピングラス・ランダム系,アモルファス系,領域3(磁性,磁気共鳴分野))
- 25pPSA-39 NiFe細線間のナノ接合に形成された磁壁の磁気構造の変化(25pPSA 薄膜・人工格子磁性,微小領域磁性,表面・界面磁性,スピングラス・ランダム系,アモルファス系,領域3(磁性,磁気共鳴分野))