湯浅 新治 | 電総研

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概要

• 同名の論文著者
• 電総研の論文著者

関連著者

• 湯浅 新治

  電総研

• 鈴木 義茂

  電総研

• 湯浅 新治

  産総研

• 福島 章雄

  産総研

• 片山 利一

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 久保田 均

  産総研

• 久保田 均

  産業技術総合研究所

• 片山 利一

  電総研

• 久保田 均

  産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 田村 英一

  JRCAT融合研

• 湯浅 新治

  産業技術総合研究所

• 安藤 功兒

  産業技術総合研究所

• 柳原 英人

  筑波大物工

• 喜多 英治

  筑波大物工

• 福島 章雄

  産業技術総合研究所

• 長浜 太郎

  産総研

• 前原 大樹

  キャノンアネルバ

• 安藤 功兒

  電総研

• 鈴木 義茂

  JRCAT

• 鈴木 義茂

  Jrcat-融合研

• 深道 和明

  東北大工

• 片山 利一

  東邦大理

• 恒川 孝二

  キャノンアネルバ

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  アネルバ株式会社

• 大谷 義近

  東北大学大学院工学研究科

• 横山 侑子

  電総研

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  キャノンアネルバ

• ジャヤプラウィラ ダビッドd.

  キャノンアネルバ

• 薬師寺 啓

  産業技術総合研究所

• 長浜 太郎

  JRCAT-融合研

• 小出 常晴

  高エ研PF

• 鈴木 義茂

  阪大院基礎工

• 渡辺 直樹

  キャノンアネルバ

• 前原 大樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 恒川 孝二

  キヤノンアネルバ株式会社

• 鈴木 義茂

  阪大基礎工

• 水口 将輝

  東北大金研

• 水口 将輝

  東北大学金属材料研究所

• 片山 利一

  東邦大学

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 小野 輝男

  京大化研

• 永峰 佳紀

  キャノンアネルバ

• 長濱 太郎

  産総研

• 川越 毅

  大阪教育大

• 佐藤 俊彦

  Jrcat

• 野崎 隆行

  阪大院基礎工:jstさきがけ

• 鈴木 義茂

  大阪大学基礎工

• 冨田 博之

  阪大院基礎工

• ジャヤプラウィラ ダビッド

  キヤノンアネルバ株式会社

• 渡辺 直樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 水口 将輝

  阪大院基礎工

• 設楽 哲夫

  高エ研PF

• 小野 輝男

  慶大理工

• 川越 毅

  Jrcat-atp

• 川越 毅

  Jrcat

• 萩原 潤弥

  筑波大物工

• 宮島 英紀

  慶大理工

• 金 承九

  東北大工

• 鈴木 勝敏

  筑波大物工

• 伊藤 秀毅

  筑波大物工

• 安藤 功兒

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 荒川 智紀

  京大化研

• 関口 康爾

  京大化研

• 知田 健作

  京大化研

• 千葉 大地

  京大化研

• 小林 研介

  京大化研

• 中村 秀司

  京大化研

• 新庄 輝也

  京大化研

• 角田 乃亜

  東邦大理

• 白石 誠司

  阪大院基礎工

• 升方 康智

  阪大院基礎工

• 永峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• 秋永 広幸

  JRCAT

• 島田 和明

  筑波大物工

• 関根 武俊

  高エ研PF

• 片山 利一

  東邦大薬

• 設楽 哲夫

  KEK-PF

• 眞砂 卓史

  JRCAT

• 眞砂 卓史

  Jrcat:オングストロームテクノロジ研究機構

• 鈴木 義茂

  融合研

• 斉藤 敏明

  東邦大理

• 神田 哲典

  日立マクセル

• 新庄 輝也

  京大 化研

• 白石 誠司

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 臼倉 将司

  明治大

• 齋藤 秀和

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 藤森 淳

  東大理

• 三代川 廣野

  東邦大理

• 浅野 裕司

  東邦大理

• 江村 藍

  東邦大理

• 齊藤 敏明

  東邦大理

• 小出 常晴

  高エネ研

• 関剛 斎

  阪大院基礎工

• 和田 朋之

  阪大院基礎工

• 山根 健量

  阪大院基礎工

• 鈴木 義茂

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 久保田 均

  産総研エレクトロニクス

• 福島 章雄

  産総研エレクトロニクス

• 湯浅 新治

  産総研エレクトロニクス

• 田中 勝

  筑波大物工

• 宮内 洋司

  高エ研PF

• 竹下 弘人

  日大理工

• 設楽 哲夫

  高エネ研PF

• 小出 常晴

  高エネルギー物理学研究所放射光実験施設

• 小出 常晴

  高エネルギー物理学研究所

• 豊田 雄太

  神戸大工

• 荒井 祓彦

  明治大

• 豊田 雄太

  筑波大物工

• 山口 明啓

  慶大理工

• 江村 藍

  東邦大・理

• 山口 明啓

  慶大理工:jstさきがけ

• 宮島 英紀

  慶應義塾大学理工学部物理学科

• 宮内 洋司

  高エネ研pf

• 朝倉 大輔

  産総研

• 仲谷 栄伸

  電通大情報

• 松岡 七絵

  東邦大理

• 朝倉 大輔

  高エネ研

• 野崎 隆行

  阪大院基礎工

• 新庄 輝也

  阪大院基礎工

• 中島 伸夫

  広大院理

• TULAPURKAR A.

  阪大院基礎工

• DJAYAPRAWIRA D.

  キャノンアネルバ

• 和田 朋之

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 山根 健量

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 関 剛斎

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 野崎 隆行

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 久保田 均

  産業技街総合研究所

• 福島 章雄

  産業技街総合研究所

• 湯浅 新治

  産業技街総合研究所

• 水口 将輝

  阪大基礎工

• ディアック アリーナ

  阪大基礎工

• 大谷 裕一

  産業技術総合研究所

• 長峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• 花島 幸司

  東邦大理

• 齋藤 敏明

  東邦大理

• 前原 大樹

  キヤノン-アネルバ

• 恒川 孝二

  キヤノン-アネルバ

• Djayaprawira David

  キヤノン-アネルバ

• 渡辺 直樹

  キヤノン-アネルバ

• 間宮 一敏

  高エネ研

• 鈴木 義茂

  産業技術総合研究所

• 湯浅 新治

  独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 安藤 功兒

  独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 宮内 洋司

  筑波大物理

• 福谷 博仁

  筑波大物理

• 藤森 淳

  東大新領域

• 久保田 均

  独立行政法人産業技術総合研究所,エレクトロニクス研究部門

• 大坊 忠臣

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 大坊 忠臣

  東北大工

• 長浜 太郎

  産業技術総合研究所

• 吉川 将寿

  (株)東芝 研究開発センター

• Thiaville A.

  パリ南大

• 大石 恵

  阪大基礎工

• 大谷 義近

  東北大学大学院工学研究科材料物性学

• 関口 康爾

  京都大学化学研究所

• 深道 和明

  東北大

• 湯浅 新治

  (独)産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門スピントロニクス研究グループ

• DJAYAPRAWIRA D.

  Electron Device Equipment Division, Canon ANELVA Corporation

• 前川 裕昭

  阪大院基礎工

• 大石 恵

  阪大院基礎工

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  キヤノンアネルバ

• 安藤 功兒

  産総研

• 鈴木 義茂

  産総研

• 小出 常晴

  高エネ研PF

• 水口 将輝

  ナノ機能合成プロ産総研

• 田中 雅明

  東大工

• 飯尾 勝矩

  東工大理

• 間宮 一敏

  原子力機構放射光

• 池川 純夫

  東芝研究開発センターLSI基板技術ラボラトリー

• 藤谷 大輔

  日大理工

• Geerts Wim

  電総研

• 山本 淳

  産業技術総合研究所

• 前川 裕昭

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 花島 幸司

  東邦大・理

• 與田 博明

  (株)東芝 研究開発センター

• 池川 純夫

  (株)東芝研究開発センター

• 島田 寛

  東北大科研

• 荻原 忠意

  明治大学理工学部

• 與田 博明

  東芝

• 與田 博明

  東芝研究開発センター

• 北上 修

  東北大科研

• 野崎 隆行

  阪大基礎工

• 佐藤 俊彦

  融合研ATP

• 山森 弘毅

  電総研

• 太田 健太

  阪大院基礎工

• 戸田 順之

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 斎藤 和広

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 戸田 順之

  阪大院基礎工

• 武智 洋平

  筑波大物工

• 中島 伸夫

  高エ研PF

• 斎藤 秀和

  電総研

• 東尾 奈々

  慶大理工

• 薬師寺 啓

  産総研エレクトロニクス

• 安藤 功兒

  産総研エレクトロニクス

• 斎藤 和広

  阪大院基礎工

• 三輪 真嗣

  阪大院基礎工

• 斎藤 秀和

  産総研

• 秋本 良一

  電子技術総合研究所

• Zaets W.

  電総研

• 秋本 良一

  電総研

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著作論文

• 20aPS-22 スピネル型強磁性絶縁体を用いたMTJの作製と評価(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 21pWD-8 Fe/MgO(001)/Fe磁気トンネル接合のMgO絶縁層に接したWedge状鉄薄膜の磁気モーメント(薄膜・人工格子磁性,領域3,磁性,磁気共鳴)
• MgO-MTJおよびCPP-GMRにおけるスピントルク発振 : 発振の高出力化および高周波化にむけて
• 強磁性トンネル接合素子におけるスピントルク発振の磁場方位依存性
• スピン注入素子の高周波特性 : 発振・ダイオード効果とマグネティックノイズ
• MgOバリアを用いたMTJ素子におけるスピントルク磁化反転
• 18pZC-3 トンネル磁気抵抗素子の磁気共鳴ノイズ特性(18pZC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aXH-7 CoFeB/MgOトンネル界面に挿入した超薄金属Mg層の酸化状態(23aXH 薄膜,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 28aXA-4 Co超薄膜のhcp/bcc構造相転移と内殻磁気円二色性
• MgOトンネル障壁を用いた超低抵抗MTJ素子技術
• スピトルクダイオードと負性抵抗効果
• 22aQG-4 γ-Fe_2O_3を障壁層に用いたスピンフィルター型MTJ(22aQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aPS-8 γ-Fe_2O_3を障壁層に用いたスピンフィルター型MTJの作製(23aPS ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 22aPS-76 スピネルフェライトFe_O_4を用いたMTJの作製(領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子,スピングラス,量子スピン系),領域3,磁性,磁気共鳴)
• L1_0型垂直磁化膜におけるスピン注入磁化反転とスピンRAMへの応用可能性
• 19aZC-11 極磁気Kerr効果によるFe/Ag(001)-Wedge/Fcサンドイッチ膜の量子井戸振動(19aZC 薄膜・人工格子磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 高真空レーザ蒸着によるFePt合金薄膜の成長
• レーザーアブレーション法によるBaフェライト薄膜の作製
• スピントロニクス技術による不揮発エレクトロニクスの創成--究極のグリーンIT機器の実現に向けて
• 23aE-12 単結晶電極を持つ強磁性トンネル接合のdI/dV測定
• 23aE-11 トンネル磁気抵抗効果のバイアス依存性と温度依存性
• 23aE-10 磁性体トンネル接合のスピン偏極バリスティック伝導理論
• Al_2O_3反応性蒸着による強磁性トンネル接合の作製
• 25aYQ-7 磁場変調を用いたスピン偏極STMの試み
• 31p-YM-10 Au/Fe-wedge/Au 三層膜の内殻吸収磁気円二色性
• 23aPS-19 強磁性細線のノイズ測定(23aPS ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 18pZC-1 強磁性細線の高周波電流整流効果(18pZC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 高密度スピントルクMRAMの実現に向けて
• 23pWL-13 トンネル磁気抵抗素子に加わるスピントルクのバイアス電圧依存性(23pWL 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 18pTB-11 トンネル磁気抵抗素子の構造と伝導特性の相関(18pTB 磁気共鳴一般,実験技術開発,磁性一般,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pXH-9 微小磁性体のFMR測定II(23pXH 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24pPSB-7 Co/Ir多層膜における層間磁気結合
• 28aTB-6 新III-V 族希薄磁性半導体Ga_Cr_xAsの伝導特性
• 18aPS-7 γ-Fe_2O_3障壁層をもつスピンフィルター型磁気トンネル接合の作製(18aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aPS-3 マグヘマイト障壁層をもつスピンフィルタ型MTJの作製(23aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pE-11 強磁性探針を用いたSTMによるスピントンネリングの測定
• 23pE-9 微細加工された強磁性細線の偏光顕微鏡による観察
• 微細加工された強磁性細線の磁区と磁壁の運動II マイクロマグネティックスシミュレーション
• 微細加工された強磁性細線の磁区と磁壁の運動1 偏光顕微鏡による観察
• 24aWP-6 トンネル磁気抵抗素子におけるショット雑音及び1/f雑音測定(24aWP 磁化ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pYB-9 結晶電極を持つTMR素子界面のX線吸収とX-MCDによる評価
• CPP構造微小金属接合におけるペルチェ冷却効果
• スピンダイス : 磁気抵抗素子を用いた物理乱数発生器
• 4E-1 スピン注入磁化反転を用いた乱数発生器(セキュリティ(1),一般セッション,セキュリティ)
• 超臨界CO_2リフトオフによる微小トンネル接合の作成
• 24pPSB-39 (10-0)hcp Co 微粒子格子の角度依存磁化反転過程
• 26pPSA-38 エピタキシャル(10・0)Coドット格子の磁気異方性と磁化状態
• 29p-J-3 エピタキシャル(10・0)Coドット格子の磁化容易軸再配列
• 29pYB-5 単結晶電極を持つ磁性金属トンネル接合の微分抵抗とトンネル分光
• 29pYB-3 超薄バリア層のトンネル磁気抵抗効果
• 23pYB-8 単結晶磁性金属電極及び超伝導電極を用いたトンネル分光測定
• Al_2O_3/Fe界面のFe1原子層の電子状態のX線吸収による評価
• 単結晶Fe電極を持つトンネル接合のトンネル分光
• 金属/絶縁体/半導体(MIS)磁気トンネルダイオードにおけるスピン依存伝導
• 金属/絶縁体/半導体(MIS)磁気トンネルダイオードの作製とスピン依存伝導特性 : スピン・トンネルトランジスタの実現を目指して
• GaMnAs系MTJにおけるスピン依存伝導特性
• 27aPS-2 Co/Irウェッジ三層膜における層間磁気結合 III
• 24pPSA-33 Co/Ir ウェッジ三層膜における層間磁気結合II
• 24aS-10 Co/Irウエッジ三層膜における層間磁気結合
• 27aPS-29 エピタキシャルCo(10.0)矩形ドット格子における磁化反転過程
• 29p-J-8 エピタキシャル(10・0)Co強磁性細線の磁気抵抗
• 25a-PS-57 エピタキシャルFeおよびCo強磁性細線の磁気抵抗
• エピタキシャルFe(001)/MgO(001)強磁性細線の磁気抵抗
• 31p-Z-9 エピタキシャルサブミクロンFe/MgO(001)細線の局所磁化状態と磁気抵抗
• 27aPS-17 強磁性体/Al_2O_3/GaAs-MIS接合のスピン依存伝導 II
• 23pYB-6 強磁性体/Al_2O_3/GaAs-MIS接合のスピン依存伝導
• 23aE-2 GaAs表面・界面におけるスピン緩和
• 正方晶FeRh_Pd_合金の低温相の磁性
• 2a-X-7 反強磁性Fe-Rh-lr 合金単結晶薄膜の作製と磁気特性
• 28p-W-4 エピタキシャルFeRh合金薄膜の作製と交換磁気異方性
• FeRh系合金の磁区構造と磁気光学特性
• 傾斜基板上に作製したAu/Co-wedge/Au(001)膜の磁区観察
• 傾斜基板上に成長したCo及びFe超薄膜の磁気特性
• 29a-J-9 Co/Ir(001)及び(011)人工格子の磁性
• スピンを用いた物理乱数発生器「スピンダイス」
• Au(001)/Fe(001)超薄膜のホール効果
• 31p-Z-2 Fe超薄膜でサンドイッチされたAu(001)-Wedge 膜の量子井戸と磁気光学効果
• 31p-Z-1 Fe(001)上のAu(001)超薄膜のホール効果の量子井戸振動
• 30a-PS-6 Fe(001)超薄膜の磁気抵抗効果
• Fe(001)及びAu(001)超薄膜の電気伝導
• Fe(001)超薄膜における極磁気及び縦磁気Kerrスペクトル
• Au(001)Wedge膜における量子井戸準位による極磁気Kerr効果の振動
• エピタキシャルFeRh合金薄膜の作製と交換結合
• MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器および一般)
• 面内および垂直磁化ナノピラーのスピン注入による高速磁化反転
• MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器,一般)
• 26a-YJ-6 Fe超薄膜の磁気光学効果 VI
• 26aHD-4 トンネル磁気抵抗素子におけるショット雑音及び1/f雑音測定II(26aHD 微小接合・半導体スピン物性,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
• 26aPS-17 γ-Fe_2O_3を用いたスピンフィルタ型MTJの作製と評価(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 26aPS-16 TiN/Fe_3O_4/Fe3層構造のCPP配置におけるトンネル型磁気抵抗効果(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aRA-6 トンネル磁気抵抗素子における電子のアンチバンチングの観測(23aRA スピントロニクス(磁化制御・磁化ダイナミクス),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pRA-2 スピントルクダイオード測定によるスピントルクの温度依存性(23pRA スピントロニクス(スピントルク・電流誘起ダイナミクス・薄膜・微粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
• Co-Au系グラニュラー合金膜の磁気光学特性と磁気抵抗効果
• 大容量スピンRAMの実現に向けた垂直磁化MTJの開発
• ナノ磁性体の強磁性共鳴

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