久保田 均 | 産総研

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概要

• 同名の論文著者
• 産総研の論文著者

関連著者

• 久保田 均

  産総研

• 久保田 均

  産業技術総合研

• 久保田 均

  産業技術総合研究所

• 湯浅 新治

  産総研

• 福島 章雄

  産総研

• 湯浅 新治

  電総研

• 湯浅 新治

  慶應義塾大学理工学部:電子技術総合研究所

• 久保田 均

  産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 宮崎 照宣

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)

• 宮崎 照宣

  東北大工

• 安藤 康夫

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 安藤 康夫

  東北大工

• 鈴木 義茂

  電総研

• 鈴木 義茂

  大阪大 大学院

• 湯浅 新治

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター

• 湯浅 新治

  産業技術総合研究所

• 宮崎 照宣

  東北大 原子分子材料科学高等研究機構

• 福島 章雄

  産業技術総合研究所

• 前原 大樹

  キャノンアネルバ

• 鈴木 義茂

  産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 安藤 康夫

  東北大学工学研究科応用物理学専攻

• 大兼 幹彦

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 安藤 康夫

  東北大 工

• 恒川 孝二

  キャノンアネルバ

• 安藤 功兒

  産業技術総合研究所

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  アネルバ株式会社

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  キャノンアネルバ

• ジャヤプラウィラ ダビッドd.

  キャノンアネルバ

• 薬師寺 啓

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター

• 渡辺 直樹

  キャノンアネルバ

• 前原 大樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 恒川 孝二

  キヤノンアネルバ株式会社

• 薬師寺 啓

  産業技術総合研究所

• ジャヤプラウィラ ダビッド

  キヤノンアネルバ株式会社

• 渡辺 直樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 野崎 隆行

  阪大院基礎工:jstさきがけ

• 鈴木 義茂

  大阪大学基礎工

• 久保田 均

  東北大学大学院工学研究科応用物理学

• 佐久間 昭正

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 冨田 博之

  阪大院基礎工

• 永峰 佳紀

  キャノンアネルバ

• 鈴木 義茂

  阪大基礎工

• 水口 将輝

  東北大金研

• 水口 将輝

  東北大学金属材料研究所

• 佐久間 昭正

  日立金属(株)磁性材料研究所

• 佐久間 昭正

  東北大学大学院工学研究科

• 宮崎 照宣

  東北大・工

• 佐久間 昭正

  日立金属 磁性材研

• 鈴木 義茂

  阪大院基礎工

• 升方 康智

  阪大院基礎工

• 渡辺 大輔

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構(wpi-aimr)

• 桜庭 裕弥

  東北大学大学院工学研究科

• 宮崎 照宣

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 大坊 忠臣

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 大坊 忠臣

  東北大工

• 長濱 太郎

  産総研

• 長浜 太郎

  産総研

• 中田 淳

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 加藤 宏朗

  東北大学niche:山形大工

• 加藤 宏明

  東北大工

• 加藤 宏朗

  山形大工

• 渡邊 大輔

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構

• KOSAKA Kouji

  Tech-concierge Kumamoto Inc.

• OHMI Tadahiro

  Tohoku University

• 久保田 均

  東北大 工

• 関 貴之

  産業技術総合研究所

• 長浜 太郎

  京大化研

• 長浜 太郎

  産総研エレクトロニクス部門

• Ohmi Tadahiro

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• 渡邉 大輔

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構

• 白石 誠司

  阪大院基礎工

• OHISHI Kiyoshi

  Nagaoka University of Technology

• 関剛 斎

  阪大院基礎工

• 和田 朋之

  阪大院基礎工

• 山根 健量

  阪大院基礎工

• 鈴木 義茂

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 永峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• 水口 将輝

  阪大基礎工

• 久保田 均

  産総研エレクトロニクス

• 福島 章雄

  産総研エレクトロニクス

• 湯浅 新治

  産総研エレクトロニクス

• 大谷 裕一

  産業技術総合研究所

• 水口 将輝

  阪大院基礎工

• 鈴木 義茂

  産業技術総合研究所

• 加藤 宏朗

  東北大学NICHe

• 久保田 均

  独立行政法人産業技術総合研究所,エレクトロニクス研究部門

• 長浜 太郎

  産業技術総合研究所

• Minh Truong

  Nagaoka University Of Technology

• 鈴木 義茂

  産総研

• 片山 利一

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 白石 誠司

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 加藤 丈晴

  東北大

• Ohishi Kiyoshi

  Nagaoka Univ. Technol.

• 佐久間 昭正

  東北大 大学院工学研究科

• TAKATA Masasuke

  Nagaoka University of Technology

• HASHIMOTO Seiji

  Gunma University

• KUBOTA Hiroshi

  Kumamoto University

• 劉 智亨

  東北大

• Tulapurkar A

  阪大院基礎工

• 大兼 幹彦

  Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 加藤 宏朗

  東北大 金研

• 水上 成美

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)

• 家形 諭

  産業技術総合研究所(AIST)

• 野崎 隆行

  阪大院基礎工

• 新庄 輝也

  阪大院基礎工

• 遠藤 康夫

  高エ研

• TULAPURKAR A.

  阪大院基礎工

• DJAYAPRAWIRA D.

  キャノンアネルバ

• 和田 朋之

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 山根 健量

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 関 剛斎

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 野崎 隆行

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 久保田 均

  産業技街総合研究所

• 福島 章雄

  産業技街総合研究所

• 湯浅 新治

  産業技街総合研究所

• ディアック アリーナ

  阪大基礎工

• 長峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• TULAPURKAR A.

  産総研

• 湯浅 新治

  独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 安藤 功兒

  独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 渡邉 大輔

  東北大WPI

• 桜庭 裕弥

  東北大学金属材料研究所

• 渡邉 大輔

  東北大学大学院工学研究科

• YILGIN Resul

  東北大学大学院工学研究科

• 服部 正志

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• Telling N.D.

  Magnetic Spectroscopy Gourp, CCLRC Daresbury Laboratory

• Keatley P.

  School of Physics, University of Exeter

• Laan G.

  Magnetic Spectroscopy Group, CCLRC Daresbury Laboratory

• Arenholz E.

  Advanced Light Source, Lawrence Berkeley National Laboratory

• Hicken R.

  School of Physics, University of Exeter

• 宮越 健史

  東北大学大学院

• 宮崎 照宜

  東北大学大学院

• 吉川 将寿

  (株)東芝 研究開発センター

• 大石 恵

  阪大基礎工

• 片山 利一

  産総研

• 大石 恵

  阪大院基礎工

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  キヤノンアネルバ

• 安藤 功兒

  産総研

• 池川 純夫

  東芝研究開発センターLSI基板技術ラボラトリー

• 山本 淳

  産業技術総合研究所

• 與田 博明

  (株)東芝 研究開発センター

• 新庄 輝也

  京大 化研

• 池川 純夫

  (株)東芝研究開発センター

• 與田 博明

  東芝

• OOGANE Mikihiko

  Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University

• ANDO Yasuo

  Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 與田 博明

  東芝研究開発センター

• 野崎 隆行

  阪大基礎工

• 宮崎 照宣

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構

• Nakada Akira

  Kumamoto Univ. Kumamoto Jpn

• 加藤 宏朗

  東北大学大学院工学研究科

• 薬師寺 啓

  産総研エレクトロニクス

• 安藤 功兒

  産総研エレクトロニクス

• 三輪 真嗣

  阪大院基礎工

• MIYAZAKI Terunobu

  Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University

• NAKATA Jun

  Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University

• KUBOTA Hitoshi

  Nanoelectronics Research Institute, AIST

• SAKUMA Akimasa

  Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University

• Endoh Yasuo

  Core Research For Evolutional Science And Technology (jrcat) : Department Of Physics Tohoku Universi

• Endoh Yasuo

  Physics Department Granduate School Of Science Tohoku University

• Shinjo Teruya

  Chemical Research Institute Kyoto University

• 安藤 康夫

  東北大・工

• Oogane Mikihiko

  Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 渡邊 大輔

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 山本 淳

  産業技術総合研

• Watanabe Masaya

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering And Resource Science Akit

• Ando Yasuo

  Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Nakata Jun

  Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Sakuma Akimasa

  Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Tohoku University

• 安 成眞

  東北大

• Endoh Yasuo

  Physics Department Tohoku University

• 安藤 功兒

  (独)産業技術総合研究所

• Shibuya T

  Univ. Tokyo Tokyo Jpn

• 李 永〓

  東北大工

• 久保田 均

  東北大・工

• ENDO Taishi

  Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University

• EGASHIRA Yoshiya

  Kumamoto Technology and Industry Foundation

• FURUKAWA Hiroyuki

  Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University

• HASHIGUCHI Hiroyuki

  Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University

• WATANABE Masayuki

  Taiheiyo Cement Corporation

• MIYATA Noboru

  Taiheiyo Cement Corporation

• NAKADA Akira

  Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University

• KUBOTA Hiroshi

  Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University

• KOSAKA Tetsuya

  Kumamoto Technology Incorporated

• KOSAKA Koji

  Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University

• UOZUMI Kiyohiko

  Aoyama Gakuin University

• YAMAKAWA Takahiro

  Taiheiyo Cement Corporation

• HASHIGUTI Hiroyuki

  Graduate School of Science and Technology Kumamoto University

• 水上 成美

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構

• Miyazaki Terunobu

  Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Tohoku University

• Laan G.

  Magnetic Spectroscopy Group Cclrc Daresbury Laboratory

• Endo Taishi

  Kumamoto Univ. Kumamoto Jpn

• 下村 尚治

  (株)東芝研究開発センター

• Telling N.d.

  Magnetic Spectroscopy Gourp Cclrc Daresbury Laboratory

• Shigematsu Toshihiko

  Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University

• 新関 智彦

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• Hicken R.

  School Of Physics University Of Exeter

• Keatley P.

  School Of Physics University Of Exeter

• Arenholz E.

  Advanced Light Source Lawrence Berkeley National Laboratory

• 安藤 功兒

  独立行政法人産業技術総合研究所

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著作論文

• MgO-MTJおよびCPP-GMRにおけるスピントルク発振 : 発振の高出力化および高周波化にむけて
• 強磁性トンネル接合素子におけるスピントルク発振の磁場方位依存性
• スピン注入素子の高周波特性 : 発振・ダイオード効果とマグネティックノイズ
• MgOバリアを用いたMTJ素子におけるスピントルク磁化反転
• 18pZC-3 トンネル磁気抵抗素子の磁気共鳴ノイズ特性(18pZC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• スピン注入磁化反転素子の高周波特性
• MgOバリアを用いたMTJにおけるスピン注入磁化反転
• スピントロニクスの形成と発展
• Co_2MnSiを用いた強磁性トンネル接合における極高スピン分極率の実現
• 24aXN-1 Fe/MgO/Fe強磁性トンネル接合の非弾性電子トンネル分光(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
• スピトルクダイオードと負性抵抗効果
• L1_0型垂直磁化膜におけるスピン注入磁化反転とスピンRAMへの応用可能性
• 19aYB-1 エピタキシャルFe(001)/MgO(001)/bcc-Co(001)磁気トンネル接合のトンネル磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• スピントロニクス技術による不揮発エレクトロニクスの創成--究極のグリーンIT機器の実現に向けて
• 高密度スピントルクMRAMの実現に向けて
• 23pWL-13 トンネル磁気抵抗素子に加わるスピントルクのバイアス電圧依存性(23pWL 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• Temperature Dependence of Tunnel Magnetoresistance in Co-Mn-Al/Al-Oxide/Co-Fe Junctions
• FIBによるサブミクロンMTJの作製プロセス
• 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製(薄膜)
• Adaptive friction compensation for a high precision stage using synchronous piezoelectric device driver (産業計測制御研究会 計測・センサ応用,モーションコントロール全般)
• Accurate Friction Compensation for a High Precision Stage using a Synchronous Piezoelectric Device Driver
• CPP構造微小金属接合におけるペルチェ冷却効果
• スピンダイス : 磁気抵抗素子を用いた物理乱数発生器
• 4E-1 スピン注入磁化反転を用いた乱数発生器(セキュリティ(1),一般セッション,セキュリティ)
• 超臨界CO_2リフトオフによる微小トンネル接合の作成
• Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
• スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
• 下部強磁性電極の結晶性と強磁性トンネル接合のバイアス電圧依存性
• 下部電極をエピタキシャル成長させた強磁性トンネル接合の局所伝導特性
• Co_2MnAlホイスラー合金を用いた強磁性トンネル接合(薄膜)
• 積層フェリフリー層を用いたサブミクロンMTJにおけるスイッチング磁界の低減
• Highly Reliable Piezoelectric Actuator for Precision Stage System
• スピンエレクトロニクス研究を応用した素子の開発 (特集 スピンエレクトロニクス--ナノ領域がもたらす技術革新)
• 強磁性体//超伝導体//強磁性体二重接合の磁気抵抗効果
• トンネルスピン分極率の強磁性層作製条件依存性
• スピンを用いた物理乱数発生器「スピンダイス」
• MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器および一般)
• TMR素子の高速磁化反転測定
• 金属ナノ細線をハードマスクに用いた強磁性単一電子素子の作製と特性評価
• 27pXJ-4 強磁性体/非磁性体接合におけるスピンポンピング(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
• 面内および垂直磁化ナノピラーのスピン注入による高速磁化反転
• MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器,一般)
• 23pRA-2 スピントルクダイオード測定によるスピントルクの温度依存性(23pRA スピントロニクス(スピントルク・電流誘起ダイナミクス・薄膜・微粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
• ナノ磁性体の強磁性共鳴 ((公社)日本磁気学会 第183回研究会 第39回スピンエレクトロニクス専門研究会 磁化のダイナミクスと磁気緩和の物理)
• 大容量スピンRAMの実現に向けた垂直磁化MTJの開発
• ナノ磁性体の強磁性共鳴

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