大石 恵 | 阪大基礎工
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概要
関連著者
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白石 誠司
阪大院基礎工
-
大石 恵
阪大基礎工
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鈴木 義茂
電総研
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白石 誠司
大阪大学大学院基礎工学研究科
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鈴木 義茂
大阪大 大学院
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新庄 輝也
阪大院基礎工
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新庄 輝也
京大 化研
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Shinjo Teruya
Chemical Research Institute Kyoto University
-
Shibuya T
Univ. Tokyo Tokyo Jpn
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
-
Shigematsu Toshihiko
Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University
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野内 亮
東北大WPI
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野崎 隆行
阪大院基礎工:jstさきがけ
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SHINJO Teruya
Institute for Chemical Research, Kyoto University
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鈴木 義茂
阪大基礎工
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大石 恵
阪大院基礎工
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水口 将輝
東北大金研
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水口 将輝
東北大学金属材料研究所
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野内 亮
阪大基礎工
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野崎 隆行
阪大基礎工
-
新庄 輝也
阪大基礎工
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白石 誠司
阪大基礎工
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越智 章文
阪大基礎工
-
野内 亮
東北大院理
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清水 克哉
阪大極限セ
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湯浅 新治
産総研
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野崎 隆行
阪大院基礎工
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鈴木 義茂
阪大院基礎工
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久保田 均
産総研
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福島 章雄
産総研
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前原 大樹
キャノンアネルバ
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永峰 佳紀
キャノンアネルバ
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恒川 孝二
キャノンアネルバ
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前原 大樹
キヤノンアネルバ株式会社
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永峰 佳紀
キヤノンアネルバ株式会社
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恒川 孝二
キヤノンアネルバ株式会社
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久保田 均
産業技術総合研究所
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安藤 功兒
産業技術総合研究所
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水口 将輝
阪大院基礎工
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ダビッド ジャヤプラウィラ
アネルバ株式会社
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湯浅 新治
電総研
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久保田 均
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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ダビッド ジャヤプラウィラ
キヤノンアネルバ
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安藤 功兒
産総研
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鈴木 義茂
産総研
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村上 睦明
カネカ
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大石 恵
大阪大学基礎工
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白石 誠司
大阪大学基礎工
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水口 将輝
大阪大学基礎工
-
新庄 輝也
大阪大学基礎工
-
鈴木 義茂
大阪大学基礎工
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越智 章文
阪大基
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ダビッド ジャヤプラウィラ
キャノンアネルバ
-
ジャヤプラウィラ ダビッドd.
キャノンアネルバ
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野内 亮
阪大院基礎工
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湯浅 新治
慶應義塾大学理工学部:電子技術総合研究所
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久保田 均
産業技術総合研
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前原 大樹
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
著作論文
- スピトルクダイオードと負性抵抗効果
- 23pWB-13 グラフェン薄膜への室温スピン注入における薄膜構造の影響(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
- 24aRA-6 室温でのグラフェン薄膜へのスピン注入観測(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
- 23pWB-12 新規高品質グラファイトにおけるスピン伝導と物性評価(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
- 18pRG-10 強磁性電極を用いた超薄膜グラファイト素子の伝導評価(グラファイト,領域7,分子性固体・有機導体)