鈴木 義茂 | 産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

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概要

• 同名の論文著者
• 産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門の論文著者

関連著者

• 鈴木 義茂

  産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 鈴木 義茂

  電総研

• 鈴木 義茂

  大阪大 大学院

• 鈴木 義茂

  阪大院基礎工

• 新庄 輝也

  京大 化研

• 新庄 輝也

  阪大院基礎工

• 野崎 隆行

  阪大院基礎工:jstさきがけ

• Shinjo Teruya

  Chemical Research Institute Kyoto University

• Shibuya T

  Univ. Tokyo Tokyo Jpn

• Shigematsu Toshihiko

  Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University

• 湯浅 新治

  産総研

• 白石 誠司

  阪大院基礎工

• 白石 誠司

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 湯浅 新治

  電総研

• 鈴木 義茂

  阪大基礎工

• 湯浅 新治

  慶應義塾大学理工学部:電子技術総合研究所

• 福島 章雄

  産総研

• 久保田 均

  産業技術総合研究所

• 久保田 均

  産業技術総合研

• 久保田 均

  産総研

• 野崎 隆行

  阪大院基礎工

• 鈴木 義茂

  大阪大学基礎工

• 塩田 陽一

  大阪大学基礎工学研究科:jst Crest

• 新庄 輝也

  京大化研

• 久保田 均

  産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 重藤 訓志

  理研

• 湯浅 新治

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター

• 村上 真一

  大阪大学基礎工学研究科

• 前原 大樹

  キャノンアネルバ

• 小野 輝男

  阪大基礎工

• 新庄 輝也

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 重藤 訓志

  京大化研

• Bonell F.

  大阪大学基礎工学研究科

• 前原 大樹

  産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター

• 三宅 耕作

  東北大工

• 奥野 拓也

  京大化研

• 奥野 拓也

  京大低物セ

• 野内 亮

  東北大WPI

• 福島 章雄

  産業技術総合研究所

• 湯浅 新治

  産業技術総合研究所

• 水口 将輝

  東北大金研

• 水口 将輝

  東北大学金属材料研究所

• 壬生 攻

  京大化研

• 野崎 隆行

  阪大基礎工

• 新庄 輝也

  阪大基礎工

• 三宅 耕作

  京大化研

• Tulapurkar A

  阪大院基礎工

• 野崎 隆行

  大阪大学基礎工学研究科

• 小野 輝男

  京大化研

• 塩田 陽一

  阪大院基礎工

• 渡辺 直樹

  キャノンアネルバ

• 冨田 博之

  阪大院基礎工

• 恒川 孝二

  キャノンアネルバ

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  アネルバ株式会社

• 大石 恵

  阪大基礎工

• 鈴木 義茂

  産総研

• 山口 明啓

  慶大理工:jstさきがけ

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  キャノンアネルバ

• ジャヤプラウィラ ダビッドd.

  キャノンアネルバ

• 横山 侑子

  産総研エレクトロニクス

• 屋上 公二郎

  ソニー(株)SSNCセミコンダクタテクノロジー開発本部

• 屋上 公二郎

  ソニー

• 冨田 博之

  大阪大学基礎工学部

• 関剛 斎

  阪大院基礎工

• 升方 康智

  阪大院基礎工

• 永峰 佳紀

  キャノンアネルバ

• 鈴木 義茂

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 前原 大樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 恒川 孝二

  キヤノンアネルバ株式会社

• ジャヤプラウィラ ダビッド

  キヤノンアネルバ株式会社

• 渡辺 直樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 薬師寺 啓

  産業技術総合研究所

• 村上 真一

  阪大院基礎工

• 宮島 英紀

  慶大理工

• 丸山 拓人

  阪大院基礎工

• 野内 亮

  阪大基礎工

• 白石 誠司

  阪大基礎工

• 新庄 輝也

  大阪大学基礎工

• 太田 健太

  阪大院基礎工

• 薬師寺 啓

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター

• 関 貴之

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター

• 升方 康智

  大阪大学基礎工学部

• 石橋 翔太

  大阪大学基礎工学部

• 村上 真一

  大阪大学基礎工学研究科:jst Crest

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 和田 朋之

  阪大院基礎工

• 山根 健量

  阪大院基礎工

• 久保田 均

  産総研エレクトロニクス

• 福島 章雄

  産総研エレクトロニクス

• 湯浅 新治

  産総研エレクトロニクス

• 安藤 功兒

  産業技術総合研究所

• 鈴木 義茂

  産業技術総合研究所

• 川越 毅

  大阪教育大

• 小野 輝男

  慶大理工

• 川越 毅

  Jrcat-atp

• 川越 毅

  Jrcat

• 山口 明啓

  慶大理工

• 宮島 英紀

  慶應義塾大学理工学部物理学科

• 山口 明啓

  京大化研

• 越智 章文

  阪大基礎工

• 三輪 真嗣

  阪大院基礎工

• 屋上 公二郎

  ソニー株式会社

• 関 貴之

  産業技術総合研究所

• 田村 英一

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 田邊 真一

  阪大院基礎工

• Miyaoka Hiroki

  Department Of Quamtam Matter Adsm Hiroshima University

• Miyajima H

  Department Physics Faculty Of Sciences And Technology Keio University

• Miyajima H

  Department Of Physics Faculty Of Science And Technology Keio University

• 田村 英一

  産経研

• 田村 英一

  Jrcat-atp

• 塩田 陽一

  大阪大学基礎工学研究科

• 壬生 攻

  京大低物セ

• 清水 克哉

  阪大極限セ

• 岩佐 義宏

  東北大金研

• 岩佐 義宏

  東京大学大学院工学系研究科

• 竹延 大志

  東北大金研

• 仲谷 栄伸

  電通大情報

• TULAPURKAR A.

  阪大院基礎工

• DJAYAPRAWIRA D.

  キャノンアネルバ

• 和田 朋之

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 山根 健量

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 関 剛斎

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 野崎 隆行

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 久保田 均

  産業技街総合研究所

• 福島 章雄

  産業技街総合研究所

• 湯浅 新治

  産業技街総合研究所

• 永峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• 水口 将輝

  阪大基礎工

• ディアック アリーナ

  阪大基礎工

• 大谷 裕一

  産業技術総合研究所

• 長峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• 水口 将輝

  阪大院基礎工

• TULAPURKAR A.

  産総研

• 柳原 英人

  筑波大物工

• 大坊 忠臣

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 大坊 忠臣

  東北大工

• 吉川 将寿

  (株)東芝 研究開発センター

• Bisri S.

  東北大金研

• 長濱 太郎

  産総研

• 大石 恵

  阪大院基礎工

• 岩佐 義宏

  東大 工

• 水口 将輝

  ナノ機能合成プロ産総研

• 岩佐 義宏

  東北大 金属材料研

• 岩佐 義宏

  東北大学金属材料研究所

• 小椋 裕介

  阪大院基礎工

• 田邉 真一

  阪大院基礎工

• 竹延 大志

  JSTさきがけ

• 長浜 太郎

  産総研

• 池川 純夫

  東芝研究開発センターLSI基板技術ラボラトリー

• 前川 裕昭

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 横山 侑子

  電総研

• 與田 博明

  (株)東芝 研究開発センター

• 村上 睦明

  カネカ

• 安藤 功見

  電子技術総合研究所

• 池川 純夫

  (株)東芝研究開発センター

• 與田 博明

  東芝

• 與田 博明

  東芝研究開発センター

• 畑中 大樹

  阪大基礎工

• 田邊 真一

  阪大基礎工

• 草井 悠

  阪大基礎工

• 大石 恵

  大阪大学基礎工

• 白石 誠司

  大阪大学基礎工

• 水口 将輝

  大阪大学基礎工

• 越智 章文

  阪大基

• Ha S.

  Inha University

• You C.-Y.

  Inha University

• Roy W.

  IMEC

• 戸田 順之

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 斎藤 和広

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 太田 健太

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 水口 将輝

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 野内 亮

  阪大院基礎工

• 東尾 奈々

  慶大理工

• 薬師寺 啓

  産総研エレクトロニクス

• 安藤 功兒

  産総研エレクトロニクス

• 鈴木 勝敏

  筑波大物工

• 伊藤 秀毅

  筑波大物工

• 竹延 大志

  東北大 金属材料研

• 重藤 訓志

  京大

• 壬生 攻

  京大 化研

• 小野 輝男

  京大 化研

• 長浜 太郎

  京大化研

• 長浜 太郎

  産総研エレクトロニクス部門

• 小野 輝男

  阪大基工

• 喜多 英次

  筑波大物工

• 吉田 茂

  阪大基礎工

• Chappert C

  パリ南大学

• Devolder T

  パリ南大学

• 下村 尚治

  (株)東芝研究開発センター

• 仲谷 栄伸

  電通大

• TULAPURKAR Ashwin

  AIST

• 鈴木 義茂

  産経研

• Tulapurkar A

  産経研

• 福島 章雄

  産経研

• TULAPURKAR A.

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 安藤 功兒

  産業技術総合研

• 吉川 将寿

  東芝研究開発センター

• 北川 英二

  東芝研究開発センター

• 長瀬 俊彦

  東芝研究開発センター

• 大坊 忠臣

  東芝研究開発センター

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著作論文

• 21pGC-1 FeCo/MgO/Feトンネル接合におけるバイアス電圧誘起磁気異方性変化(21pGC 接合系,スピン起電力,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 21pGC-2 Au/Fe/Au/MgO構造における垂直磁気異方性とその電圧制御(21pGC 接合系,スピン起電力,領域3(磁性,磁気共鳴))
• MgO-MTJおよびCPP-GMRにおけるスピントルク発振 : 発振の高出力化および高周波化にむけて
• 強磁性トンネル接合素子におけるスピントルク発振の磁場方位依存性
• スピン注入素子の高周波特性 : 発振・ダイオード効果とマグネティックノイズ
• MgOバリアを用いたMTJ素子におけるスピントルク磁化反転
• 27pYD-3 Co電極を有するルブレン単結晶トランジスタの伝導特性(界面・分子デバイス3,領域7,分子性固体・有機導体)
• 22pTA-14 Co電極を持つグラフェン薄膜トランジスタにおける異常な伝達特性(22pTA 領域7,領域4合同 グラフェン・電子物性,領域7(分子性固体・有機導体))
• 23pWB-13 グラフェン薄膜への室温スピン注入における薄膜構造の影響(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
• 24aRA-6 室温でのグラフェン薄膜へのスピン注入観測(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
• 22pTB-15 ルブレン-Coスピン素子における巨大磁気抵抗効果へのコトンネリングの寄与(22pTB 有機FET2・分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
• 23pWB-12 新規高品質グラファイトにおけるスピン伝導と物性評価(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
• 18pRG-10 強磁性電極を用いた超薄膜グラファイト素子の伝導評価(グラファイト,領域7,分子性固体・有機導体)
• 22aQG-3 電圧印加による超薄膜Fe層の磁気異方性制御(22aQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24pWK-6 電圧印加によるGaAs(100)/Fe/Au/Feの交換結合変化(24pWK 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 金属・分子材料へのスピン注入
• コプレーナウェーブガイドを用いた強磁性共鳴の高感度測定
• 21pWD-3 Control of magnetic anisotropy and exchange coupling in Fe and Fe/Au/Fe grown on GaAs(100)
• 23aPS-19 強磁性細線のノイズ測定(23aPS ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 18pZC-1 強磁性細線の高周波電流整流効果(18pZC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 高密度スピントルクMRAMの実現に向けて
• 23pWL-13 トンネル磁気抵抗素子に加わるスピントルクのバイアス電圧依存性(23pWL 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 18pTB-11 トンネル磁気抵抗素子の構造と伝導特性の相関(18pTB 磁気共鳴一般,実験技術開発,磁性一般,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• サブミクロン磁性細線の反転磁場分布
• 29pYB-15 パッド付きNiFe細線において観測される反転磁場分布の温度依存性
• 次世代MRAMのための新材料技術--記憶容量1Gbitの壁を破るためのMRAMの材料開発動向を紹介する (特集2 次世代不揮発性メモリの開発動向)
• 24aS-10 Co/Irウエッジ三層膜における層間磁気結合
• 18pWA-9 NiFe細線間に作製した微小接合に注入した磁壁の磁化配置
• 18aWA-5 磁性体ドットにおけるボルテックスコアの外部磁場中の挙動
• 29pYB-12 微小磁性ドットにおける磁気渦中心の吹き出し磁化の反転磁場II
• 28pYB-3 微小接合で連結した線幅の異なる強磁性細線の磁壁の電気伝導
• 24pPSB-20 非結合型GMRを利用した単一細線の磁性VII
• スピントランスファーCPP-GMR素子における電流注入冷却効果
• 27pXJ-2 スピン注入磁化反転 : 低電流化と短パルス応答(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
• スピン注入磁化反転の理論と実験
• スピン注入磁化反転における反転電流密度の低減
• 電界による磁気異方性制御の試み(映像情報機器および一般)
• MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器および一般)
• 29pSC-12 ナノ磁性細線における高周波応答(29pSC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 21pPSA-22 ナノ磁性細線における単一磁壁の高周波インピーダンス測定(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 面内および垂直磁化ナノピラーのスピン注入による高速磁化反転
• MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器,一般)
• 電界による磁気異方性制御の試み(映像情報機器,一般)
• 26aPS-27 Ag/超薄膜Fe/MgO構造における電圧による磁気異方性制御とその定量評価(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pRA-2 スピントルクダイオード測定によるスピントルクの温度依存性(23pRA スピントロニクス(スピントルク・電流誘起ダイナミクス・薄膜・微粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aRA-5 4d貴金属/超薄膜Fe(Co)/MgO接合における電圧による磁気異方性の制御(23aRA スピントロニクス(磁化制御・磁化ダイナミクス),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 22pED-3 FeCo/MgO接合系における電界誘起磁気異方性制御(22pED 領域3,領域9,領域5合同シンポジウム:垂直磁気異方性はどこまで理解されてきたか,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22pED-3 FeCo/MgO接合系における電界誘起磁気異方性制御(22pED 領域3,領域9,領域5合同シンポジウム:垂直磁気異方性はどこまで理解されてきたか,領域3(磁性,磁気共鳴))
• スピントルクダイオード効果と高周波スピントロニクス

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