鈴木 義茂 | 大阪大学基礎工
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概要
関連著者
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鈴木 義茂
大阪大学基礎工
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鈴木 義茂
大阪大 大学院
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鈴木 義茂
電総研
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湯浅 新治
産総研
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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湯浅 新治
産業技術総合研究所
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久保田 均
産業技術総合研
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野崎 隆行
大阪大学基礎工学研究科
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久保田 均
産業技術総合研究所
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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久保田 均
産総研
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福島 章雄
産総研
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鈴木 義茂
大阪大学大学院基礎工学研究科
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湯浅 新治
電総研
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野崎 隆行
阪大院基礎工:jstさきがけ
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新庄 輝也
大阪大学基礎工
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湯浅 新治
慶應義塾大学理工学部:電子技術総合研究所
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塩田 陽一
大阪大学基礎工学研究科
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前原 大樹
キャノンアネルバ
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冨田 博之
大阪大学基礎工学部
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久保田 均
AISTナノスピントロニクス研究センター
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鈴木 義茂
大阪大学:産総研:CREST-JST
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新庄 輝也
阪大院基礎工
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冨田 博之
阪大院基礎工
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久保田 均
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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新庄 輝也
京大 化研
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Shinjo Teruya
Chemical Research Institute Kyoto University
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関 貴之
産業技術総合研究所
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Shibuya T
Univ. Tokyo Tokyo Jpn
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Shigematsu Toshihiko
Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University
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湯浅 新治
独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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村上 真一
大阪大学基礎工学研究科
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Bonell F.
大阪大学基礎工学研究科
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升方 康智
大阪大学基礎工学部
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石橋 翔太
大阪大学基礎工学部
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前原 大樹
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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前原 大樹
産業技術総合研究所 ナノスピントロニクス研究センター
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福島 章雄
AISTナノスピントロニクス研究センター
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鈴木 義茂
大阪大学
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小出 常晴
高エ研PF
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三代川 廣野
東邦大理
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小出 常晴
高エネ研
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升方 康智
阪大院基礎工
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薬師寺 啓
産業技術総合研究所
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間宮 一敏
高エネ研
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小出 常晴
高エネルギー物理学研究所放射光実験施設
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小出 常晴
高エネルギー物理学研究所
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間宮 一敏
原子力機構放射光
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片山 利一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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斉藤 敏明
東邦大理
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神野 友之
東邦大学理学部
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齋藤 真司
東邦大学理学部
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三代川 廣野
東邦大学理学部
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齊藤 敏明
東邦大学理学部
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花島 幸司
東邦大学
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花島 幸司
東邦大・理
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斉藤 真司
分子研
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斉藤 真二
東邦大学
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齋藤 敏明
東邦大・理
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神野 友之
東邦大学
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薬師寺 啓
独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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関 貴之
独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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村上 真一
大阪大学基礎工学研究科:jst Crest
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塩田 陽一
大阪大学基礎工学研究科:jst Crest
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SHINJO Teruya
Institute for Chemical Research, Kyoto University
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野崎 隆行
産業技術総合研究所
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小出 常晴
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
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白石 誠司
阪大院基礎工
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鈴木 義茂
阪大院基礎工
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渡辺 直樹
キャノンアネルバ
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永峰 佳紀
キャノンアネルバ
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恒川 孝二
キャノンアネルバ
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前原 大樹
キヤノンアネルバ株式会社
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恒川 孝二
キヤノンアネルバ株式会社
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ジャヤプラウィラ ダビッド
キヤノンアネルバ株式会社
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渡辺 直樹
キヤノンアネルバ株式会社
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大谷 裕一
産業技術総合研究所
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安藤 功兒
産業技術総合研究所
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長峰 佳紀
キヤノンアネルバ株式会社
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ダビッド ジャヤプラウィラ
アネルバ株式会社
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設楽 哲夫
高エ研PF
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大坊 忠臣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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大坊 忠臣
東北大工
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吉川 将寿
(株)東芝 研究開発センター
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大石 恵
阪大基礎工
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長濱 太郎
産総研
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片山 利一
産総研
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設楽 哲夫
KEK-PF
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設楽 哲夫
高エネ研PF
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小出 常晴
高エネ研PF
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小出 常晴
高エネルギー加速器研究機構 物質構造科学研究所
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水口 将輝
東北大金研
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水口 将輝
東北大学金属材料研究所
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長浜 太郎
産総研
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池川 純夫
東芝研究開発センターLSI基板技術ラボラトリー
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山本 淳
産業技術総合研究所
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間宮 一敏
高エネルギー加速器機構研究所
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間宮 一敏
高エネ研PF
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與田 博明
(株)東芝 研究開発センター
-
池川 純夫
(株)東芝研究開発センター
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白石 誠司
大阪大学大学院基礎工学研究科
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與田 博明
東芝
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與田 博明
東芝研究開発センター
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大石 恵
大阪大学基礎工
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白石 誠司
大阪大学基礎工
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水口 将輝
大阪大学基礎工
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ダビッド ジャヤプラウィラ
キャノンアネルバ
-
ジャヤプラウィラ ダビッドd.
キャノンアネルバ
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鈴木 義茂
独立行政法人・産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
山本 淳
産業技術総合研
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長浜 太郎
京大化研
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長浜 太郎
産総研エレクトロニクス部門
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屋上 公二郎
ソニー(株)SSNCセミコンダクタテクノロジー開発本部
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下村 尚治
(株)東芝研究開発センター
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屋上 公二郎
ソニー
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新庄 輝也
大阪大学基礎工学研究科
-
安藤 功兒
産業技術総合研
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吉川 将寿
東芝研究開発センター
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北川 英二
東芝研究開発センター
-
長瀬 俊彦
東芝研究開発センター
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大坊 忠臣
東芝研究開発センター
-
長嶺 真
東芝研究開発センター
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下村 尚治
東芝研究開発センター
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池川 純夫
東芝研究開発センター
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鈴木 義茂
大阪大学大学院基礎工学研究科物質創成専攻
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Tulapurkar Ashwin
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
-
長浜 太郎
Division of Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Hokkaido University
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水落 憲和
大阪大学基礎工学研究科
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池川 純夫
東芝研究開発セ
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BONELL Frederic
大阪大学基礎工学研究科
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三輪 真嗣
大阪大学基礎工学研究科
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野崎 隆行
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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三輸 真嗣
阪大院基礎工:JST-CREST
著作論文
- MgOバリアを用いたMTJ素子におけるスピントルク磁化反転
- MgO(001)トンネル障壁界面Fe(001)単原子層の磁気状態 : X線吸収及びX線磁気円二色性による研究(薄膜)
- X線吸収及びX線磁気円二色性で評価したMgO(001)トンネル障壁界面Fe(001)単原子層の磁気状態
- 18pRG-10 強磁性電極を用いた超薄膜グラファイト素子の伝導評価(グラファイト,領域7,分子性固体・有機導体)
- CPP構造微小金属接合におけるペルチェ冷却効果
- 電界による磁気異方性制御の試み(映像情報機器および一般)
- MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器および一般)
- スピン注入磁化反転の研究動向
- 面内および垂直磁化ナノピラーのスピン注入による高速磁化反転
- MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器,一般)
- 電界による磁気異方性制御の試み(映像情報機器,一般)
- MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて
- 電界による磁気異方性制御の試み
- スピントロニクスの基礎と最近の技術動向 : 磁界センサのための応答・ノイズ特性を中心として(ヘッド,スピントロニクス,一般)
- スピントルクダイオード効果と高周波スピントロニクス
- 電場を用いた高速磁化反転
- 電界によるスピン制御技術