長浜 太郎 | 産総研
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
長浜 太郎
産総研
-
長濱 太郎
産総研
-
湯浅 新治
産総研
-
鈴木 義茂
大阪大 大学院
-
鈴木 義茂
電総研
-
長浜 太郎
京大化研
-
長浜 太郎
産総研エレクトロニクス部門
-
長浜 太郎
Division of Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Hokkaido University
-
田村 英一
産経研
-
湯浅 新治
産総研エレクトロニクス
-
長浜 太郎
産総研エレクトロニクス
-
湯浅 新治
産総研エレ
-
田村 英一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
湯浅 新治
電総研
-
福島 章雄
産総研
-
田村 英一
Jrcat-atp
-
長浜 太郎
産業技術総合研究所
-
田村 英一
JRCAT融合研
-
鈴木 義茂
産総研エレクトロニクス
-
田村 英一
Jrcat
-
黒崎 義成
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門:筑波大学数理物質科学研究科
-
湯浅 新治
産業技術総合研究所
-
鈴木 義茂
産総研
-
片山 利一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
長浜 太郎
JRCAT-融合研
-
鈴木 義茂
産業技術総合研究所
-
小出 常晴
高エ研PF
-
安藤 功兒
産業技術総合研究所
-
設楽 哲夫
高エ研PF
-
設楽 哲夫
KEK-PF
-
湯浅 新治
慶應義塾大学理工学部:電子技術総合研究所
-
黒崎 義成
産総研エレクトロニクス
-
小出 常晴
高エネ研
-
福島 章雄
産業技術総合研究所
-
設楽 哲夫
高エネ研PF
-
小出 常晴
高エネルギー物理学研究所放射光実験施設
-
小出 常晴
高エネルギー物理学研究所
-
斉藤 敏明
東邦大理
-
斉藤 真司
分子研
-
斉藤 真二
東邦大学
-
齋藤 敏明
東邦大・理
-
田村 英一
産総研エレクトロニクス
-
神野 友之
東邦大学
-
湯浅 新治
独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
-
喜多 英治
筑波大物工
-
三代川 廣野
東邦大理
-
久保田 均
産総研
-
柳原 英人
筑波大物工
-
片山 利一
産総研
-
小出 常晴
高エネ研PF
-
齋藤 秀和
Jstさきがけ
-
湯浅 新治
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
久保田 均
産業技術総合研
-
真中 浩貴
鹿児島大院理工
-
前原 大樹
キャノンアネルバ
-
長田 智明
キヤノンアネルバ株式会社
-
久保田 均
産業技術総合研究所
-
間宮 一敏
高エネ研
-
前原 大樹
アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部
-
田中 勝
筑波大物工
-
島田 和明
筑波大物工
-
戸叶 洋之
筑波大物工
-
関根 武俊
高エ研PF
-
小林 明子
アネルバ株式会社
-
長田 智明
アネルバ株式会社
-
原市 聡
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
水口 将輝
東北大金研
-
水口 将輝
東北大学金属材料研究所
-
間宮 一敏
原子力機構放射光
-
遠藤 学
東邦大学理学部
-
神野 友之
東邦大学理学部
-
齋藤 真司
東邦大学理学部
-
三代川 廣野
東邦大学理学部
-
黒崎 義成
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
片山 利一
東邦大学
-
黒崎 義成
東邦大学
-
小林 希衣
東邦大学
-
花島 幸司
東邦大・理
-
原市 聡
産総研エレ
-
安藤 功兒
産総研エレクトロニクス
-
宮内 洋司
高エネ研pf
-
横山 侑子
産総研エレクトロニクス
-
戸叶 洋之
筑波大・物工
-
関根 武俊
高エネ研PF
-
小林 希衣
東邦大
-
福島 章雄
AISTナノスピントロニクス研究センター
-
原市 聡
産業技術総合研究所 電子光技術研究部門
-
安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
大兼 幹彦
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
-
安藤 康夫
東北大工
-
片山 利一
東邦大理
-
鈴木 義茂
阪大院基礎工
-
川上 隆輝
日大理工
-
鈴木 義茂
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
鈴木 義茂
阪大基礎工
-
水口 将輝
阪大基礎工
-
福島 章雄
産総研エレクトロニクス
-
薬師寺 啓
産業技術総合研究所
-
水口 将輝
阪大院基礎工
-
花島 幸司
東邦大理
-
TULAPURKAR A.
産総研
-
宮越 健史
東北大学大学院
-
宮崎 照宜
東北大学大学院
-
真中 浩貴
高エ研PF
-
宮内 洋司
高エ研PF
-
久保田 均
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
-
川上 隆輝
日本大 量子科研
-
佐藤 俊彦
Jrcat
-
萩原 潤弥
筑波大物工
-
安藤 功兒
電総研
-
神野 友之
東邦大
-
齊藤 敏明
東邦大学理学部
-
花島 幸司
東邦大学
-
鈴木 義茂
(現)大阪大学大学院基礎工学科
-
間宮 一敏
高エネ研PF
-
斉藤 真二
東邦大理
-
神野 友之
東邦大理
-
斉藤 敏明
東邦大学
-
真中 浩貴
高エネ研PF
-
戸叶 洋之
筑波大学
-
斉藤 真司
東邦大
-
遠藤 学
東邦大・理
-
斉藤 真司
分子研
-
宮崎 照宣
東北大工
-
鈴木 義茂
大阪大学基礎工
-
鈴木 義茂
JRCAT
-
鈴木 義茂
Jrcat-融合研
-
川上 隆輝
産総研エレクトロニクス
-
宮崎 照宣
東北大 原子分子材料科学高等研究機構
-
宮崎 照宣
東北大・工
-
田村 英一
産総研
-
屋上 公二郎
SONY
-
長浜 太郎
AISTナノエレクトロニクス(科技団科学技術特別研究員)
-
湯浅 新治
AISTナノエレクトロニクス(科技団科学技術特別研究員)
-
鈴木 義茂
AISTナノエレクトロニクス(科技団科学技術特別研究員)
-
安藤 功兒
AISTナノエレクトロニクス(科技団科学技術特別研究員)
-
長浜 太郎
科技団
-
小出 常行
高エネ研PF
-
斉藤 敏明
東邦大 理
-
Tulapurkar A
阪大院基礎工
-
鈴木 義茂
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
-
屋上 公二郎
ソニー(株)SSNCセミコンダクタテクノロジー開発本部
-
Yonezawa Tetsu
Division Of Materials Science And Engineering Faculty Of Engineering Hokkaido University
-
薬師寺 啓
独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
-
屋上 公二郎
ソニー
-
前原 大樹
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
-
安藤 功兒
産業技術総合研
-
Miyazaki T
Faculty Of Engineering Kanazawa University
-
Nagahama Taro
Division Of Materials Chemistry Faculty Of Engineering Hokkaido University
-
喜多 英治
筑波大学数理物質系物理工学域
-
Shimada Toshihiro
Division Of Materials Chemistry Faculty Of Engineering Hokkaido University
-
KUBOTA Shosei
Division of Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Hokkaido University
-
Kubota Shosei
Division Of Materials Chemistry Faculty Of Engineering Hokkaido University
-
久保田 均
AISTナノスピントロニクス研究センター
-
安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
大兼 幹彦
東北大学大学院工学研究科
-
鈴木 義茂
大阪大学:産総研:CREST-JST
-
鈴木 義茂
大阪大学
著作論文
- 20aPS-22 スピネル型強磁性絶縁体を用いたMTJの作製と評価(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24aXN-1 Fe/MgO/Fe強磁性トンネル接合の非弾性電子トンネル分光(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
- CO+NH_3を用いたエッチングにより形成したTMR素子
- 22aQG-4 γ-Fe_2O_3を障壁層に用いたスピンフィルター型MTJ(22aQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- L1_0型垂直磁化膜におけるスピン注入磁化反転とスピンRAMへの応用可能性
- 19aYB-1 エピタキシャルFe(001)/MgO(001)/bcc-Co(001)磁気トンネル接合のトンネル磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- トンネル磁気抵抗効果のFe(001)電極膜厚依存性(薄膜)
- トンネル磁気抵抗効果のFe(001)電極膜厚依存性
- X線吸収及びX線磁気円二色性で評価したMgO(001)トンネル障壁界面Fe(001)単原子層の磁気状態
- 13aWB-8 単結晶 Fe/MgO/Fe(001) 接合における下部 Fe(001) 界面の磁気状態とトンネル磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性, 領域 3)
- Al_2O_3トンネルバリア界面Co(001)単原子層のX線吸収及びX線磁気円二色性スペクトル
- 29pXH-5 X 線吸収および X 線磁気円二色性で評価した Al_2O_3 トンネルバリア界面 Co(001) 単原子層の酸化状態と磁性
- 23aE-12 単結晶電極を持つ強磁性トンネル接合のdI/dV測定
- 28pPSA-12 単結晶強磁性トンネル接合素子における量子サイズ効果と熱処理
- 18pTB-11 トンネル磁気抵抗素子の構造と伝導特性の相関(18pTB 磁気共鳴一般,実験技術開発,磁性一般,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- CO+NH_3を用いたエッチングにより形成したTMR素子
- 23pYB-9 結晶電極を持つTMR素子界面のX線吸収とX-MCDによる評価
- 22aQG-5 MgO-強磁性トンネルトランジスタ出力特性のショットキーバリア高さ依存性(22aQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pWK-7 MgO-強磁性トンネルトランジスタのTMRとMC効果(24pWK 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pWD-9 MgOトンネルバリアを持つ強磁性トンネルトランジスタの伝導特性(薄膜・人工格子磁性,領域3,磁性,磁気共鳴)
- 24aXN-2 超薄Fe(100)電極層を持つTMR素子の低温におけるTMR効果の異常(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
- Al_2O_3を障壁層に用いたトンネル磁気抵抗薄膜における各層成長過程のSTM観察
- 超薄Fe(100)電極層を持つTMR素子の磁気抵抗効果
- 金属スピントロニクスの展開
- 金属スピントロニクスの展開
- MgO(001)単結晶トンネル障壁層の作製
- 超薄Fe(100)強磁性電極によるトンネル磁気抵抗効果の増大
- トンネルバリアがある場合のスピン注入磁化反転の理論
- 22pWA-11 層状反強磁性 Cr (001) 挿入層による TMR 効果の振動
- 22pWA-10 単結晶 Fe(001)/MgO(001)/Fe(001) トンネル接合の作製
- 30pWD-6 強磁性金属トンネル素子における量子サイズ効果と界面効果
- 30pWD-6 強磁性金属トンネル素子における量子サイズ効果と界面効果
- 磁気トンネル接合のTMR効果と共鳴トンネル効果(最近の研究から)
- 磁気トンネル接合のTMR効果と共鳴トンネル効果
- 単結晶電極をもつ強磁性トンネル接合のトンネル磁気抵抗効果
- トンネル磁気抵抗素子におけるスピン依存量子サイズ効果の理論
- Fe(100)強磁性トンネル接合の量子井戸効果 : 磁気抵抗効果・交換結合
- TMRの量子サイズ効果とその応用(共鳴トンネルトランジスタに向けて)
- 18pWA-5 極薄Fe(100)電極を持つ強磁性トンネル接合の量子井戸効果
- 18pWA-4 スピン偏極量子井戸準位へのトンネル電子の注入
- Fe(100)強磁性トンネル接合の量子井戸効果
- 強磁性トンネル接合のTMR効果と量子サイズ効果
- 29pYB-5 単結晶電極を持つ磁性金属トンネル接合の微分抵抗とトンネル分光
- 29pYB-3 超薄バリア層のトンネル磁気抵抗効果
- 23pYB-8 単結晶磁性金属電極及び超伝導電極を用いたトンネル分光測定
- Al_2O_3/Fe界面のFe1原子層の電子状態のX線吸収による評価
- 単結晶Fe電極を持つトンネル接合のトンネル分光
- 22pYJ-8 結晶性MgOトンネルバリアの精密構造制御とコヒーレントスピントンネル(領域9,領域7合同シンポジウム主題:精密に原子配列させた1nm構造体が示す特徴的な物性と展望,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 26aPS-17 γ-Fe_2O_3を用いたスピンフィルタ型MTJの作製と評価(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- Change in the Morphology of the Terrace Edges on Graphite Surfaces by Electrochemical Reduction