小林 明子 | アネルバ株式会社
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概要
関連著者
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小林 明子
アネルバ株式会社
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福島 章雄
産総研
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前原 大樹
キャノンアネルバ
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長田 智明
キヤノンアネルバ株式会社
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所
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前原 大樹
アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部
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長浜 太郎
産業技術総合研究所
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岡田 修
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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長濱 太郎
産総研
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鈴木 義茂
電総研
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長田 智明
アネルバ株式会社
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原市 聡
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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長浜 太郎
産総研
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原市 聡
産総研エレ
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関口 敦
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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小林 明子
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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小出 知昭
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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鈴木 義茂
大阪大 大学院
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原市 聡
産業技術総合研究所 電子光技術研究部門
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張 敏娟
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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國信 隆史
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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砂山 英樹
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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鈴木 薫
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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肖 石琴
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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池田 圭
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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長浜 太郎
京大化研
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長浜 太郎
産総研エレクトロニクス部門
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前原 大樹
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
-
長浜 太郎
Division of Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Hokkaido University
著作論文
- CO+NH_3を用いたエッチングにより形成したTMR素子
- CVD法によるCuめっき用下地膜の真空一貫Barrier/Cu Seed積層成膜
- CVD法による銅薄膜の成膜とガスの流れの関係
- CO+NH_3を用いたエッチングにより形成したTMR素子