鈴木 義茂 | 大阪大 大学院

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概要

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関連著者

• 鈴木 義茂

  電総研

• 湯浅 新治

  産総研

• 長浜 太郎

  産総研

• 鈴木 義茂

  阪大院基礎工

• 長濱 太郎

  産総研

• 白石 誠司

  阪大院基礎工

• 白石 誠司

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 新庄 輝也

  阪大院基礎工

• 新庄 輝也

  京大 化研

• 福島 章雄

  産総研

• 湯浅 新治

  電総研

• 水口 将輝

  東北大金研

• 水口 将輝

  東北大学金属材料研究所

• 野崎 隆行

  阪大院基礎工:jstさきがけ

• 鈴木 義茂

  阪大基礎工

• 久保田 均

  産業技術総合研究所

• 久保田 均

  産総研

• 前原 大樹

  キャノンアネルバ

• 湯浅 新治

  産業技術総合研究所

• 湯浅 新治

  産総研エレクトロニクス

• 水口 将輝

  阪大院基礎工

• 久保田 均

  産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 片山 利一

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 鈴木 義茂

  産総研

• 鈴木 義茂

  大阪大学基礎工

• 小出 常晴

  高エ研PF

• 鈴木 義茂

  産業技術総合研究所

• 小出 常晴

  高エネ研

• 野崎 隆行

  阪大院基礎工

• 前原 大樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 福島 章雄

  産業技術総合研究所

• 安藤 功兒

  産業技術総合研究所

• 小出 常晴

  高エネルギー物理学研究所放射光実験施設

• 小出 常晴

  高エネルギー物理学研究所

• 斉藤 敏明

  東邦大理

• 恒川 孝二

  キャノンアネルバ

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  アネルバ株式会社

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  キャノンアネルバ

• ジャヤプラウィラ ダビッドd.

  キャノンアネルバ

• 太田 健太

  阪大院基礎工

• 渡辺 直樹

  キャノンアネルバ

• 恒川 孝二

  キヤノンアネルバ株式会社

• 長浜 太郎

  産業技術総合研究所

• 三代川 廣野

  東邦大理

• ジャヤプラウィラ ダビッド

  キヤノンアネルバ株式会社

• 渡辺 直樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 斉藤 真司

  分子研

• 野内 亮

  東北大WPI

• 片山 利一

  東邦大理

• 鈴木 義茂

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 間宮 一敏

  高エネ研

• 大石 恵

  阪大基礎工

• 戸叶 洋之

  筑波大物工

• 片山 利一

  産総研

• 間宮 一敏

  原子力機構放射光

• 三代川 廣野

  東邦大学理学部

• 丸山 拓人

  阪大院基礎工

• 野崎 隆行

  阪大基礎工

• 新庄 輝也

  阪大基礎工

• 塩田 陽一

  阪大院基礎工

• 冨田 博之

  阪大院基礎工

• 永峰 佳紀

  キャノンアネルバ

• 設楽 哲夫

  高エ研PF

• 設楽 哲夫

  KEK-PF

• 前川 裕昭

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 片山 利一

  東邦大学

• 花島 幸司

  東邦大・理

• 齊藤 敏明

  東邦大理

• 関剛 斎

  阪大院基礎工

• 升方 康智

  阪大院基礎工

• 水口 将輝

  阪大基礎工

• 福島 章雄

  産総研エレクトロニクス

• 薬師寺 啓

  産業技術総合研究所

• 大谷 裕一

  産業技術総合研究所

• TULAPURKAR A.

  産総研

• 村上 真一

  阪大院基礎工

• 前川 裕昭

  阪大院基礎工

• 遠藤 学

  東邦大学理学部

• 神野 友之

  東邦大

• 神野 友之

  東邦大学理学部

• 齋藤 真司

  東邦大学理学部

• 野内 亮

  阪大基礎工

• 白石 誠司

  阪大基礎工

• 新庄 輝也

  大阪大学基礎工

• 藤森 淳

  東大理

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 小野 輝男

  京大化研

• 喜多 英治

  筑波大物工

• 真中 浩貴

  鹿児島大院理工

• 片浦 弘道

  産総研ナノテク

• 角田 乃亜

  東邦大理

• 和田 朋之

  阪大院基礎工

• 山根 健量

  阪大院基礎工

• 永峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• 長田 智明

  キヤノンアネルバ株式会社

• 久保田 均

  産総研エレクトロニクス

• 花島 幸司

  東邦大理

• 前原 大樹

  アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部

• 柳原 英人

  筑波大物工

• 大石 恵

  阪大院基礎工

• 安藤 功兒

  産総研

• 小林 明子

  アネルバ株式会社

• 長田 智明

  アネルバ株式会社

• 原市 聡

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 設楽 哲夫

  高エネ研PF

• 小出 常晴

  高エネ研PF

• 田村 英一

  JRCAT融合研

• 片浦 弘道

  産総研ナノテク:crest-jst

• 山口 明啓

  慶大理工

• 宮島 英紀

  慶大理工

• 齋藤 真司

  東邦大

• 齊藤 敏明

  東邦大学理学部

• 花島 幸司

  東邦大学

• 黒崎 義成

  東邦大学

• 小林 希衣

  東邦大学

• 遠藤 学

  東邦大・理

• 山口 明啓

  慶大理工:jstさきがけ

• 宮島 英紀

  慶應義塾大学理工学部物理学科

• 原市 聡

  産総研エレ

• 草井 悠

  阪大基礎工

• 新庄 輝也

  国際高等研

• 清水 克哉

  阪大極限セ

• 岩佐 義宏

  東北大金研

• 岩佐 義宏

  東京大学大学院工学系研究科

• 竹延 大志

  東北大金研

• 仲谷 栄伸

  電通大情報

• 小出 常晴

  高工研PF

• 齋藤 秀和

  産総研

• 浅野 裕司

  東邦大理

• 小出 常晴

  高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所

• 川上 隆輝

  日大理工

• TULAPURKAR A.

  阪大院基礎工

• DJAYAPRAWIRA D.

  キャノンアネルバ

• 和田 朋之

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 山根 健量

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 関 剛斎

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 野崎 隆行

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 久保田 均

  産業技街総合研究所

• 福島 章雄

  産業技街総合研究所

• 湯浅 新治

  産業技街総合研究所

• ディアック アリーナ

  阪大基礎工

• 長峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• 藤森 淳

  東大新領域

• 大坊 忠臣

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 大坊 忠臣

  東北大工

• 吉川 将寿

  (株)東芝 研究開発センター

• 細糸 信好

  京大化研

• 長船 義敬

  東大理

• Bisri S.

  東北大金研

• 間宮 一敏

  高工研

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  高工研

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  東大理

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  高エ研PF

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  高エ研PF

• 葛西 伸哉

  京大院化研

• 小野 輝男

  京大院化研

• ダビッド ジャヤプラウィラ

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• 川上 隆輝

  日本大 量子科研

• 小出 常晴

  高エネルギー加速器研究機構 物質構造科学研究所

• 山形 伸二

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• 水口 将輝

  ナノ機能合成プロ産総研

• 小出 常晴

  物構研

• 田中 雅明

  東大工

• 小野 輝男

  慶大理工

• 岩佐 義宏

  東北大 金属材料研

• 岩佐 義宏

  東北大学金属材料研究所

• 小椋 裕介

  阪大院基礎工

• 田邉 真一

  阪大院基礎工

• 竹延 大志

  JSTさきがけ

• 池川 純夫

  東芝研究開発センターLSI基板技術ラボラトリー

• 細糸 信好

  京大

• 山本 淳

  産業技術総合研究所

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• 齊藤 敏明

  東邦大・理

• 間宮 一敏

  高エネルギー加速器機構研究所

• 黒崎 義成

  産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 鈴木 義茂

  (現)大阪大学大学院基礎工学科

• 間宮 一敏

  高エネ研PF

• 斉藤 真二

  東邦大理

• 神野 友之

  東邦大理

• 斉藤 敏明

  東邦大学

• 真中 浩貴

  高エネ研PF

• 戸叶 洋之

  筑波大学

• 品川 公成

  東邦大

• 斉藤 真司

  東邦大

• 與田 博明

  (株)東芝 研究開発センター

• 村上 睦明

  カネカ

• 斉藤 真司

  分子研

• 池川 純夫

  (株)東芝研究開発センター

• 與田 博明

  東芝

• 與田 博明

  東芝研究開発センター

• 畑中 大樹

  阪大基礎工

• 田邊 真一

  阪大基礎工

• 大石 恵

  大阪大学基礎工

• 白石 誠司

  大阪大学基礎工

• 水口 将輝

  大阪大学基礎工

• 越智 章文

  阪大基

• 長浜 太郎

  JRCAT-融合研

• 鈴木 義茂

  JRCAT

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著作論文

• 21pGC-1 FeCo/MgO/Feトンネル接合におけるバイアス電圧誘起磁気異方性変化(21pGC 接合系,スピン起電力,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 21pGC-2 Au/Fe/Au/MgO構造における垂直磁気異方性とその電圧制御(21pGC 接合系,スピン起電力,領域3(磁性,磁気共鳴))
• MgO-MTJおよびCPP-GMRにおけるスピントルク発振 : 発振の高出力化および高周波化にむけて
• 強磁性トンネル接合素子におけるスピントルク発振の磁場方位依存性
• スピン注入素子の高周波特性 : 発振・ダイオード効果とマグネティックノイズ
• MgOバリアを用いたMTJ素子におけるスピントルク磁化反転
• 18pZC-3 トンネル磁気抵抗素子の磁気共鳴ノイズ特性(18pZC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• スピン注入磁化反転素子の高周波特性
• MgOバリアを用いたMTJにおけるスピン注入磁化反転
• 26pXP-6 Au(001)表面上Co超薄膜の角度分解軟X線内殻磁気円二色性(領域5, 領域3, 領域8合同招待講演,領域5(光物性))
• 28aXA-4 Co超薄膜のhcp/bcc構造相転移と内殻磁気円二色性
• 19aZC-6 スピントルクダイオード効果を用いた電流駆動磁壁共鳴現象の観測(19aZC 薄膜・人工格子磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• スピトルクダイオードと負性抵抗効果
• Co-Fe及びCo-Fe-Bフリー層を用いたCPP-GMR素子のスピン注入磁化反転特性(薄膜)
• CO+NH_3を用いたエッチングにより形成したTMR素子
• 27pYD-3 Co電極を有するルブレン単結晶トランジスタの伝導特性(界面・分子デバイス3,領域7,分子性固体・有機導体)
• 22pTA-14 Co電極を持つグラフェン薄膜トランジスタにおける異常な伝達特性(22pTA 領域7,領域4合同 グラフェン・電子物性,領域7(分子性固体・有機導体))
• 23pWB-13 グラフェン薄膜への室温スピン注入における薄膜構造の影響(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
• 24aRA-6 室温でのグラフェン薄膜へのスピン注入観測(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
• 19aZC-11 極磁気Kerr効果によるFe/Ag(001)-Wedge/Fcサンドイッチ膜の量子井戸振動(19aZC 薄膜・人工格子磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aXH-5 磁気カー効果から見たFe層で挟まれたAu(001)-wedge膜の量子井戸振動(23aXH 薄膜,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 19aYB-2 Mg0(001)トンネル障壁に接したWedge状Fe(001)薄膜のXAS及びXMCD(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 19aYB-1 エピタキシャルFe(001)/MgO(001)/bcc-Co(001)磁気トンネル接合のトンネル磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• MgO(001)トンネル障壁界面Fe(001)単原子層の磁気状態 : X線吸収及びX線磁気円二色性による研究(薄膜)
• トンネル磁気抵抗効果のFe(001)電極膜厚依存性(薄膜)
• X線吸収及びX線磁気円二色性で評価したMgO(001)トンネル障壁界面Fe(001)単原子層の磁気状態
• 13aWB-8 単結晶 Fe/MgO/Fe(001) 接合における下部 Fe(001) 界面の磁気状態とトンネル磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性, 領域 3)
• Al_2O_3トンネルバリア界面Co(001)単原子層のX線吸収及びX線磁気円二色性スペクトル
• MgO及び Diamond 基板上のNi薄膜の結晶成長と磁気光学効果
• 29pXH-5 X 線吸収および X 線磁気円二色性で評価した Al_2O_3 トンネルバリア界面 Co(001) 単原子層の酸化状態と磁性
• 22pTB-15 ルブレン-Coスピン素子における巨大磁気抵抗効果へのコトンネリングの寄与(22pTB 有機FET2・分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
• 23pWB-12 新規高品質グラファイトにおけるスピン伝導と物性評価(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
• 18pRG-10 強磁性電極を用いた超薄膜グラファイト素子の伝導評価(グラファイト,領域7,分子性固体・有機導体)
• 22aQG-3 電圧印加による超薄膜Fe層の磁気異方性制御(22aQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24pWK-6 電圧印加によるGaAs(100)/Fe/Au/Feの交換結合変化(24pWK 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 金属・分子材料へのスピン注入
• コプレーナウェーブガイドを用いた強磁性共鳴の高感度測定
• 21pWD-3 Control of magnetic anisotropy and exchange coupling in Fe and Fe/Au/Fe grown on GaAs(100)
• 19aZC-7 GaAs(110)/Fe/Cr/Feの交換結合とダイオード特性(19aZC 薄膜・人工格子磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aPS-19 強磁性細線のノイズ測定(23aPS ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 18pZC-1 強磁性細線の高周波電流整流効果(18pZC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 27aPS-40 Ni/Rh積層薄膜の層間結合と磁気異方性(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
• 28pPSA-12 単結晶強磁性トンネル接合素子における量子サイズ効果と熱処理
• 高密度スピントルクMRAMの実現に向けて
• 23pWL-13 トンネル磁気抵抗素子に加わるスピントルクのバイアス電圧依存性(23pWL 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 18pTB-11 トンネル磁気抵抗素子の構造と伝導特性の相関(18pTB 磁気共鳴一般,実験技術開発,磁性一般,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pXH-9 微小磁性体のFMR測定II(23pXH 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pXH-11 C_-Coナノコンポジット素子におけるスピン依存伝導(23pXH 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aXH-6 GaAs(110)上のFe/Cr/Fe層間交換相互作用(23aXH 薄膜,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 28pSC-9 微小磁性体のFMR測定(28pSC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 28pPSA-2 Co/Rh, Co/Ir 多層膜の磁気異方性
• 26aYF-4 C_を介した室温におけるスピン依存伝導の観測(26aYF 分子素子,有機FET 1,領域7(分子性固体・有機導体))
• 26aYF-5 ルブレン/Coグラニュラー膜におけるスピン依存伝導の観測(26aYF 分子素子,有機FET 1,領域7(分子性固体・有機導体))
• 26aYF-6 Alq_3-Coナノコンポジット素子におけるスピン依存伝導(26aYF 分子素子,有機FET 1,領域7(分子性固体・有機導体))
• 19aXA-7 ケルビンプローブ法による強磁性体/単層カーボンナノチューブ系における電子構造の検討(II)(ナノチューブ電子物性・構造,領域7(分子性固体・有機導体))
• 24aYN-5 ケルビンプローブ法による強磁性体/単層カーボンナノチュ-ブ系における電子構造の検討(ナノチューブ物性1(電子物性・構造他),領域7(分子性固体・有機導体))
• CO+NH_3を用いたエッチングにより形成したTMR素子
• 28aTB-6 新III-V 族希薄磁性半導体Ga_Cr_xAsの伝導特性
• 面内および垂直磁化ナノピラーのスピン注入による高速磁化反転 (ナノ構造物質の電磁気学)
• CPP構造微小金属接合におけるペルチェ冷却効果
• 24aXN-2 超薄Fe(100)電極層を持つTMR素子の低温におけるTMR効果の異常(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
• Al_2O_3を障壁層に用いたトンネル磁気抵抗薄膜における各層成長過程のSTM観察
• 超薄Fe(100)電極層を持つTMR素子の磁気抵抗効果
• 金属スピントロニクスの展開
• 金属スピントロニクスの展開
• MgO(001)単結晶トンネル障壁層の作製
• 超薄Fe(100)強磁性電極によるトンネル磁気抵抗効果の増大
• トンネルバリアがある場合のスピン注入磁化反転の理論
• 22pWA-11 層状反強磁性 Cr (001) 挿入層による TMR 効果の振動
• 22pWA-10 単結晶 Fe(001)/MgO(001)/Fe(001) トンネル接合の作製
• 30pWD-6 強磁性金属トンネル素子における量子サイズ効果と界面効果
• 30pWD-6 強磁性金属トンネル素子における量子サイズ効果と界面効果
• 磁気トンネル接合のTMR効果と共鳴トンネル効果(最近の研究から)
• 磁気トンネル接合のTMR効果と共鳴トンネル効果
• 単結晶電極をもつ強磁性トンネル接合のトンネル磁気抵抗効果
• トンネル磁気抵抗素子におけるスピン依存量子サイズ効果の理論
• Fe(100)強磁性トンネル接合の量子井戸効果 : 磁気抵抗効果・交換結合
• TMRの量子サイズ効果とその応用(共鳴トンネルトランジスタに向けて)
• 18pWA-5 極薄Fe(100)電極を持つ強磁性トンネル接合の量子井戸効果
• 18pWA-4 スピン偏極量子井戸準位へのトンネル電子の注入
• 強磁性トンネル接合のTMR効果と量子サイズ効果
• FeRh/NiFe膜の反強磁性磁化配向の磁場依存性
• II-VI族希薄磁性半導体Zn_Cr_xTeにおける強磁性の発現
• スピン注入磁化反転における熱的影響を排除した臨界電流の評価
• 電界による磁気異方性制御の試み(映像情報機器および一般)
• MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器および一般)
• 面内および垂直磁化ナノピラーのスピン注入による高速磁化反転
• MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器,一般)
• 電界による磁気異方性制御の試み(映像情報機器,一般)
• 26aPS-27 Ag/超薄膜Fe/MgO構造における電圧による磁気異方性制御とその定量評価(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pRA-2 スピントルクダイオード測定によるスピントルクの温度依存性(23pRA スピントロニクス(スピントルク・電流誘起ダイナミクス・薄膜・微粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aRA-5 4d貴金属/超薄膜Fe(Co)/MgO接合における電圧による磁気異方性の制御(23aRA スピントロニクス(磁化制御・磁化ダイナミクス),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 22pED-3 FeCo/MgO接合系における電界誘起磁気異方性制御(22pED 領域3,領域9,領域5合同シンポジウム:垂直磁気異方性はどこまで理解されてきたか,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22pED-3 FeCo/MgO接合系における電界誘起磁気異方性制御(22pED 領域3,領域9,領域5合同シンポジウム:垂直磁気異方性はどこまで理解されてきたか,領域3(磁性,磁気共鳴))
• スピントルクダイオード効果と高周波スピントロニクス

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