FeRh/NiFe膜の反強磁性磁化配向の磁場依存性
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概要
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- 2001-09-01
著者
-
片山 利一
東邦大理
-
鈴木 義茂
産業技術総合研究所
-
細糸 信好
京大化研
-
細糸 信好
京大
-
片山 利一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
片山 利一
東邦大学
-
Nyvlt Miroslav
Charles大
-
鈴木 義茂
大阪大 大学院
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- 新庄輝也, 人工格子入門;新材料創製のための, 内田老鶴圃, 東京, 2002, x+146p., 21×15cm, 本体2,800円(材料学シリーズ)[学部以上向]