Al_2O_3を障壁層に用いたトンネル磁気抵抗薄膜における各層成長過程のSTM観察

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概要

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• 2004-09-21

著者

• 湯浅 新治

  産総研

• 鈴木 義茂

  阪大基礎工

• 水口 将輝

  阪大基礎工

• 長濱 太郎

  産総研

• 鈴木 義茂

  電総研

• 水口 将輝

  東北大金研

• 水口 将輝

  東北大学金属材料研究所

• 長浜 太郎

  産総研

• 長浜 太郎

  京大化研

• 長浜 太郎

  産総研エレクトロニクス部門

• 鈴木 義茂

  大阪大 大学院

• 長浜 太郎

  Division of Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Hokkaido University

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