野崎 隆行 | 阪大院基礎工:jstさきがけ
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概要
関連著者
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野崎 隆行
阪大院基礎工:jstさきがけ
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鈴木 義茂
大阪大 大学院
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鈴木 義茂
電総研
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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白石 誠司
阪大院基礎工
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新庄 輝也
阪大院基礎工
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新庄 輝也
京大 化研
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白石 誠司
大阪大学大学院基礎工学研究科
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Shinjo Teruya
Chemical Research Institute Kyoto University
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Shibuya T
Univ. Tokyo Tokyo Jpn
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Shigematsu Toshihiko
Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University
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SHINJO Teruya
Institute for Chemical Research, Kyoto University
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鈴木 義茂
阪大院基礎工
-
野崎 隆行
阪大院基礎工
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湯浅 新治
産総研
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久保田 均
産総研
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福島 章雄
産総研
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前原 大樹
キャノンアネルバ
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久保田 均
産業技術総合研究所
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湯浅 新治
電総研
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鈴木 義茂
大阪大学基礎工
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湯浅 新治
慶應義塾大学理工学部:電子技術総合研究所
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久保田 均
産業技術総合研
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湯浅 新治
独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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野崎 隆行
大阪大学基礎工学研究科
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冨田 博之
大阪大学基礎工学部
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前原 大樹
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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塩田 陽一
大阪大学基礎工学研究科:jst Crest
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久保田 均
AISTナノスピントロニクス研究センター
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野内 亮
東北大WPI
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冨田 博之
阪大院基礎工
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福島 章雄
AISTナノスピントロニクス研究センター
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関剛 斎
阪大院基礎工
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升方 康智
阪大院基礎工
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鈴木 義茂
阪大基礎工
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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湯浅 新治
産業技術総合研究所
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大石 恵
阪大基礎工
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久保田 均
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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丸山 拓人
阪大院基礎工
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野内 亮
阪大基礎工
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野崎 隆行
阪大基礎工
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新庄 輝也
阪大基礎工
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白石 誠司
阪大基礎工
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村上 真一
大阪大学基礎工学研究科
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升方 康智
大阪大学基礎工学部
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村上 真一
大阪大学基礎工学研究科:jst Crest
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野内 亮
東北大院理
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塩田 陽一
阪大院基礎工
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渡辺 直樹
キャノンアネルバ
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和田 朋之
阪大院基礎工
-
山根 健量
阪大院基礎工
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永峰 佳紀
キャノンアネルバ
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恒川 孝二
キャノンアネルバ
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野崎 隆行
大阪大学大学院基礎工学研究科
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鈴木 義茂
大阪大学大学院基礎工学研究科
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前原 大樹
キヤノンアネルバ株式会社
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ダビッド ジャヤプラウィラ
アネルバ株式会社
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新庄 輝也
大阪大学基礎工
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ダビッド ジャヤプラウィラ
キャノンアネルバ
-
ジャヤプラウィラ ダビッドd.
キャノンアネルバ
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太田 健太
阪大院基礎工
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越智 章文
阪大基礎工
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関 貴之
産業技術総合研究所
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田邊 真一
阪大院基礎工
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関 貴之
独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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塩田 陽一
大阪大学基礎工学研究科
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Bonell F.
大阪大学基礎工学研究科
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石橋 翔太
大阪大学基礎工学部
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前原 大樹
産業技術総合研究所 ナノスピントロニクス研究センター
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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新庄 輝也
国際高等研
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清水 克哉
阪大極限セ
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岩佐 義宏
東北大金研
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岩佐 義宏
東京大学大学院工学系研究科
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竹延 大志
東北大金研
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TULAPURKAR A.
阪大院基礎工
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DJAYAPRAWIRA D.
キャノンアネルバ
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和田 朋之
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
山根 健量
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
関 剛斎
大阪大学大学院基礎工学研究科
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久保田 均
産業技街総合研究所
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福島 章雄
産業技街総合研究所
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湯浅 新治
産業技街総合研究所
-
永峰 佳紀
キヤノンアネルバ株式会社
-
恒川 孝二
キヤノンアネルバ株式会社
-
ジャヤプラウィラ ダビッド
キヤノンアネルバ株式会社
-
渡辺 直樹
キヤノンアネルバ株式会社
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薬師寺 啓
産業技術総合研究所
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水口 将輝
阪大院基礎工
-
村上 真一
阪大院基礎工
-
大坊 忠臣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
大坊 忠臣
東北大工
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吉川 将寿
(株)東芝 研究開発センター
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Bisri S.
東北大金研
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前川 裕昭
阪大院基礎工
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葛西 伸哉
京大院化研
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小野 輝男
京大院化研
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大石 恵
阪大院基礎工
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岩佐 義宏
東大 工
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水口 将輝
東北大金研
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水口 将輝
東北大学金属材料研究所
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岩佐 義宏
東北大 金属材料研
-
岩佐 義宏
東北大学金属材料研究所
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小椋 裕介
阪大院基礎工
-
田邉 真一
阪大院基礎工
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竹延 大志
JSTさきがけ
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池川 純夫
東芝研究開発センターLSI基板技術ラボラトリー
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前川 裕昭
大阪大学大学院基礎工学研究科
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與田 博明
(株)東芝 研究開発センター
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村上 睦明
カネカ
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池川 純夫
(株)東芝研究開発センター
-
與田 博明
東芝
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與田 博明
東芝研究開発センター
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畑中 大樹
阪大基礎工
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田邊 真一
阪大基礎工
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草井 悠
阪大基礎工
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越智 章文
阪大基
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塩田 陽一
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
新庄 輝也
大阪大学大学院基礎工学研究科
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Ha S.
Inha University
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You C.-Y.
Inha University
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Roy W.
IMEC
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野内 亮
阪大院基礎工
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竹延 大志
東北大 金属材料研
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Tulapurkar A
阪大院基礎工
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下村 尚治
(株)東芝研究開発センター
-
薬師寺 啓
独立行政法人産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
-
吉川 将寿
東芝研究開発センター
-
北川 英二
東芝研究開発センター
-
長瀬 俊彦
東芝研究開発センター
-
大坊 忠臣
東芝研究開発センター
-
長嶺 真
東芝研究開発センター
-
下村 尚治
東芝研究開発センター
-
池川 純夫
東芝研究開発センター
-
池川 純夫
東芝研究開発セ
著作論文
- 21pGC-1 FeCo/MgO/Feトンネル接合におけるバイアス電圧誘起磁気異方性変化(21pGC 接合系,スピン起電力,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pGC-2 Au/Fe/Au/MgO構造における垂直磁気異方性とその電圧制御(21pGC 接合系,スピン起電力,領域3(磁性,磁気共鳴))
- MgO-MTJおよびCPP-GMRにおけるスピントルク発振 : 発振の高出力化および高周波化にむけて
- 強磁性トンネル接合素子におけるスピントルク発振の磁場方位依存性
- 19aZC-6 スピントルクダイオード効果を用いた電流駆動磁壁共鳴現象の観測(19aZC 薄膜・人工格子磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 27pYD-3 Co電極を有するルブレン単結晶トランジスタの伝導特性(界面・分子デバイス3,領域7,分子性固体・有機導体)
- 23pWB-13 グラフェン薄膜への室温スピン注入における薄膜構造の影響(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
- 24aRA-6 室温でのグラフェン薄膜へのスピン注入観測(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
- 22pTB-15 ルブレン-Coスピン素子における巨大磁気抵抗効果へのコトンネリングの寄与(22pTB 有機FET2・分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- 23pWB-12 新規高品質グラファイトにおけるスピン伝導と物性評価(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
- 強磁性トンネル接合における電圧誘起磁気異方性変化の電気測定
- 22aQG-3 電圧印加による超薄膜Fe層の磁気異方性制御(22aQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pWK-6 電圧印加によるGaAs(100)/Fe/Au/Feの交換結合変化(24pWK 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 金属・分子材料へのスピン注入
- 21pWD-3 Control of magnetic anisotropy and exchange coupling in Fe and Fe/Au/Fe grown on GaAs(100)
- 面内および垂直磁化ナノピラーのスピン注入による高速磁化反転 (ナノ構造物質の電磁気学)
- 電界による磁気異方性制御の試み(映像情報機器および一般)
- MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器および一般)
- 面内および垂直磁化ナノピラーのスピン注入による高速磁化反転
- MgO障壁強磁性トンネル接合素子を用いたスピントルク発振の高出力化に向けて(映像情報機器,一般)
- 電界による磁気異方性制御の試み(映像情報機器,一般)