宮崎 照宣 | 東北大工
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概要
関連著者
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宮崎 照宣
東北大工
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宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
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安藤 康夫
東北大工
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安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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大兼 幹彦
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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加藤 宏明
東北大工
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加藤 宏朗
東北大工
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安藤 康夫
東北大学工学研究科応用物理学専攻
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久保田 均
産総研
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宮崎 照宣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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加藤 宏朗
東北大学niche:山形大工
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水上 成美
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
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石尾 俊二
秋田大鉱山
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渡辺 大輔
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(wpi-aimr)
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大坊 忠臣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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大坊 忠臣
東北大工
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手束 展規
東北大工
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高橋 実
東北大工
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石尾 俊二
東北大工
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桜庭 裕弥
東北大学大学院工学研究科
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佐藤 文隆
東北大工
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小山 佳一
東北大金研強磁場セ
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家形 諭
産業技術総合研究所(AIST)
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遠藤 康夫
高エ研
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秋屋 貴博
東北大学NICHe
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加藤 宏朗
東北大学NICHe
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大兼 幹彦
東北大工
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佐川 眞人
インターメタリックス
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ANDO Yasuo
Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University
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青木 晴善
東北大極低セ
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OOGANE Mikihiko
Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University
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木村 憲彰
東北大極低セ
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佐久間 昭正
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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小山 佳一
東北大 金属材料研
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宮崎 照宣
東北大院工
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中田 淳
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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佐川 真人
東北大学niche:インターメタリックス
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本河 光博
東北大金研
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久保田 均
産業技術総合研究所
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渡邉 大輔
東北大WPI
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家形 諭
東北大学大学院工学研究科
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佐藤 雅重
東北大工
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安藤 康夫
東北大院工
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永沼 博
東北大学工学研究科応用物理学専攻
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水上 成美
東北大WPI
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宮崎 照宣
東北大WPI
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青木 達也
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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渡邉 大輔
東北大学大学院工学研究科
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服部 正志
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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渡邉 美穂
東北大学大学院工学研究科
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宮崎 照宜
東北大学大学院
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小山 佳一
東北大金研
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池田 義
ソニー(株)仙台テクノロジーセンター
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渡邉 美穂
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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佐藤 秀樹
東北大 大学院歯学研究科 口腔修復学 歯科保存学分野
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中島 健太郎
東北大
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菅原 淳一
ソニー(株)
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栗田 直幸
東北大工
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山田 玄彦
東北学院大学(工)
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野尻 浩之
東北大金研
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阿山 みよし
宇都宮大学大学院工学研究科
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田中 秀和
阪大産研
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大沢 通夫
富士電機アドバンストテクノロジー(株)
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今野 幹男
東北大学大学院工学研究科 化学工学専攻
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小池 洋二
東北大工
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秋永 広幸
産総研ナノ機能合成プロ
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今村 裕志
産総研ナノテク
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谷口 知大
産業技術総合研究所(AIST)
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今村 裕志
産業技術総合研究所(AIST)
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吉田 隆
名大工
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斗内 政吉
阪大超伝導フォトニクス
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今村 裕志
産業技術総合研究所
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谷口 知大
筑波大:産総研ナノテク
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宮崎 照宣
東北大学 原子分子材料科学高等研究機構
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湯浅 新治
産総研
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竹田 美和
名大工
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小山 佳一
東北大学金研・強磁場センター
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福島 章雄
産総研
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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湯浅 新治
産業技術総合研究所
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HATTORI Masashi
Department of Chemistry, Graduate School of Science, Osaka University
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佐藤 健治
東北大金研
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向田 昌志
山形大学工学部
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Sajitha E.
東北大WPI
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Wu F.
東北大WPI
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永沼 博
東北大工
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窪田 崇秀
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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渡邉 大輔
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI-AIMR)
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永沼 博
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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桜庭 裕弥
東北大学金属材料研究所
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宮崎 照宣
東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)
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YILGIN Resul
東北大学大学院工学研究科
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久保田 均
独立行政法人産業技術総合研究所,エレクトロニクス研究部門
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Telling N.D.
Magnetic Spectroscopy Gourp, CCLRC Daresbury Laboratory
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Keatley P.
School of Physics, University of Exeter
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Laan G.
Magnetic Spectroscopy Group, CCLRC Daresbury Laboratory
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Arenholz E.
Advanced Light Source, Lawrence Berkeley National Laboratory
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Hicken R.
School of Physics, University of Exeter
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渡辺 大輔
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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YILGIN R.
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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宮崎 照宜
東北大工
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宮越 健史
東北大学大学院
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長浜 太郎
産業技術総合研究所
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川瀬 晃道
理化学研究所
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川瀬 晃道
理研
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槇田 顕
住友特殊金属株式会社
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尾崎 雅則
阪大院・工
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尾崎 雅則
阪大・工
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小野 泰弘
東北大工
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梶谷 剛
東北大工
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長濱 太郎
産総研
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和田 隆博
龍谷大理工
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木村 英樹
東海大学
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佐久間 昭正
日立金属
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本河 光博
阪大理
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山本 公
アルバック・ファイ(株)
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秋永 広幸
産総研
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梶谷 剛
東北大
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梶谷 剛
東北大院工学研究科
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小野 泰弘
元東北大工
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財満 鎭明
名古屋大学大学院工学研究科
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長浜 太郎
産総研
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毛塚 博史
東京工科大
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平賀 賢二
東北大 金研
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三木 一司
物材機構
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永嶋 誠一
日大工物理
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勝山 俊夫
東大生研ナノエレ連携研
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八井 浄
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
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進藤 春雄
東海大
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田村 收
産総研
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伊藤 雅英
筑波大
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馬場 俊彦
横国大
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藤田 安彦
都立工業高専
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小笠原 宗博
東芝研開セ
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筒井 哲夫
九大院総理工
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小川 真一
松下電器半導体社
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粟野 祐二
富士通研
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藤田 静雄
京大国際融合創造セ
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脇坂 健一郎
三洋電機
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佐藤 芳之
NTT-AT
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白井 肇
埼玉大
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林 康明
京都工繊大工芸
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岡本 隆之
理研
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梶川 浩太郎
東工大
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財満 鎭明
名大
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影島 愽之
NTT物性科学基礎研究所
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鳥海 明
東大
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金田 千穂子
富士通研
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川田 善正
静岡大
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山本 哲也
高知工大
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酒井 朗
名大院工
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櫻庭 政夫
東北大通研
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中川 清和
山梨大工
-
梶川 靖友
島根大総理工
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竹田 美和
名大院工
-
小田中 紳二
阪大
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田中 三郎
豊橋技大
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王 鎮
情報通信研究機構
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芝山 敦史
ニコン
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佐波 俊哉
KEK
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栖原 敏明
阪大
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松本 仁
防衛大材料
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鵜殿 治彦
茨城大工
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末益 崇
筑波大物理工
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鈴木 恒則
東海大理
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喜岡 俊英
東理大工
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福井 孝志
北大量集センタ
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高橋 庸夫
NTT物性基礎研
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岡田 勝行
物材機構
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尾松 孝茂
千葉大
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栗村 直
物材機構
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松尾 二郎
京大
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藤原 巧
長岡技科大
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白谷 正治
九大院システム情報
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上田 幸生
東北大
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向田 昌志
山形大
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三木 一司
電総研
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永嶋 誠一
日大工
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酒井 朗
大阪大学
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矢追 俊彦
ソニー(株)中央研究所
-
尾崎 雅則
大阪大学
-
金田 千穂子
富士通研究所
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NAGANUMA Hiroshi
Department of Materials Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University
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矢野 仁
東北大
-
矢野 仁
東北大工
-
木村 藤彰
東北大極低セ
-
林 康明
京都工芸繊維大学大学院
-
松尾 二郎
京都大学工学研究科附属量子理工学研究実験センター
-
鈴木 恒則
東京工科大学
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TEHRANI S.
Everspin Technologies, Inc.
-
藤田 安彦
東京都立産業技術高等専門学校
-
山本 哲也
東京都立産業技術高等専門学校
-
栗村 直
独立行政法人物質・材料研究機構光材料センター
-
佐藤 健治
東北大工
-
李 永〓
東北大学電気通信研究所
-
加藤 宏朗
東北大院工
-
秋屋 貴博
東北大院工
-
阿山 みよし
宇都宮大学・院・工
-
高橋 庸夫
北大
-
林 将光
物質・材料研究機構磁性材料センター
著作論文
- [特別招待講演]超ギガビット磁気メモリ基盤技術の開発(MRAM,不揮発メモリ,メモリ,一般)
- スピントロニクスの発展とMRAMの研究開発動向--スピントロニクスの解説とMRAM(固体磁気メモリ)の内外の研究開発動向・成果および課題を紹介 (特集2 次世代不揮発性メモリの開発動向)
- 3-2 スピンエレクトロニクス技術の発展と固体磁気メモリへの応用 : 3. ナノ電子材料(ナノテクノロジーの光とエレクトロニクスへの応用)
- スピンポンピングによるスピン流の創出と物理現象
- 26aVD-7 垂直磁化Pt/Co/Pt三層膜における時間分解磁気光学効果(スピン流・スピンホール,領域3,磁性,磁気共鳴)
- Fe-Co-NiおよびCo基フルホイスラー合金薄膜における磁気緩和
- 27aTF-12 磁性金属薄膜のスピン緩和の光学的検出(27aTF スピンホール・磁気渦・ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
- CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合のナノ秒領域におけるスピン注入磁化反転と実時間測定(スピンエレクトロニクス)
- スピントロニクスの形成と発展
- Co_2MnSiを用いた強磁性トンネル接合における極高スピン分極率の実現
- Co-Fe-B合金薄膜の磁気緩和定数測定(スピンエレクトロニクス)
- コプレーナ伝送路を有する微小強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
- Co_2MnSi(110)エピタキシャル薄膜を用いた強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
- 強磁性共鳴を用いたMRAMフリー層材料の磁気緩和定数測定
- 24aXN-3 強磁性体二重トンネル接合を利用した超伝導体中へのスピン注入とその磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24aXN-1 Fe/MgO/Fe強磁性トンネル接合の非弾性電子トンネル分光(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 第51回応用物理学関係連合講演会(2004年)
- 17pPSB-37 スパッタ法によるCa_La_xB_6薄膜の作製
- 3p-PS-22 Tb(Fe,Co)_3化合物及びアモルファス合金の磁歪
- 強磁場プロセスによるNd-Fe-B焼結磁石の高保磁力化
- 強磁場プロセシングによるNd-Fe-B焼結磁石の高保磁力化
- 12a-T-6 非晶質(Fe_Ni_x)_Si_B_(0.8≤x≤0.9)合金のキュリー点近傍における帯磁率の異常温度変化
- 29a-SB-12 リチウム・フェライト・クロマイドの磁性(I)
- 1p-Pα-5 非晶質Fe_B_合金の磁気緩和(II)
- 1p-Pα-4 非晶質Fe_5Co_Si_B__,Fe_Si_B_C_合金のディスアコモデーションと構造緩和
- 陰極に強磁性金属を用いた有機EL素子の発光特性
- ナフチルアミン-3d遷移金属錯体の合成とその磁性
- 有機アミン-3d遷移金属錯体の合成とその磁性
- Gilbert Damping for Various Ni_Fe_ Thin Films Investigated Using All-Optical Pump-Probe Detection and Ferromagnetic Resonance
- Tunnel Magnetoresistance Effect in Magnetic Tunnel Junctions Using a Co_2MnSi(110) Electrode
- Tunneling Spin Polarization and Magnetic Properties of Co-Fe-B Alloys and Their Dependence on Boron Content
- Anisotropic Intrinsic Damping Constant of Epitaxial Co_2MnSi Heusler Alloy Films
- Temperature Dependence of Tunnel Magnetoresistance in Co-Mn-Al/Al-Oxide/Co-Fe Junctions
- 24pPSB-30 トンネル分光法によるFe,Co,Niのスピン分極率測定
- 26pPSA-46 Ni_Fe_/Co/N/N-oxide/Co(N=Ta, Al)接合における磁気抵抗効果
- 26pPSA-45 トンネル分光法によるスピン分極率測定
- 28p-J-12 Co/Al-oxide/Co接合におけるTMR比の印加電圧・温度依存性
- Wedge状の絶縁層を有する強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- FIBによるサブミクロンMTJの作製プロセス
- 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製(薄膜)
- 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製
- Spin-valve likeトンネル接合における下地電極厚依存性
- ICP酸化法による強磁性トンネル接合の作製
- 26pPSA-47 Ni_Fe_/Co/Al(d_)/Al-oxide/Co接合の非弾性電子トンネル分光
- 強磁性体-有機色素接合における偏極スピン伝導
- 29a-PS-23 fcc Fe/Cu(001)超薄膜の磁気光学スペクトルII
- 31p-S-8 Co/Cu(001)超薄膜の磁気光学スペクトル
- Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
- α-Fe/Nd-Fe-B交換結合スパッタ多層膜の磁気特性
- 下部強磁性電極の結晶性と強磁性トンネル接合のバイアス電圧依存性
- 下部電極をエピタキシャル成長させた強磁性トンネル接合の局所伝導特性
- Nd-Dy-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力
- Nd-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- Nd-Dy-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- Nd-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- CO-NH_3ガスを用いた磁性薄膜のドライエッチング
- 1p-Pα-6 (Fe,Ni)_Si_B_の磁化の異常
- 29a-PS-14 擬二元R-Fe(R=Pr, Nd, Sm, Tb, Dy, Er)アモルファス合金の強磁場磁化
- 3a-YA-12 ランダム異方性を有するR-Fe擬二元アモルファス合金の磁気相図
- Nd-Fe-B焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力
- スピントロニクスデバイスへ向けての最前線
- 27pPSA-7 磁性薄膜における強磁性共鳴の電気的検出および周波数依存性(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 2p-PSB-41 Ni-Co/Cu, Co-Fe/Cu, Ni-Fe/Cu人工格子薄膜の巨大磁気抵抗効果の温度依存性
- 1a-S-4 80Ni-Fe/Cu人工格子における強磁性共鳴
- 31p-PSA-34 Fe_Ni_x/Cu人工格子薄膜の磁気抵抗効果
- Co_2MnAlホイスラー合金を用いた強磁性トンネル接合(薄膜)
- ホイスラー系合金Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合
- 大野英男先生IUPAPからMagnetism Prizeを受賞
- 31p-PSA-28 MnAl薄膜の磁気光学スペクトル
- 積層フェリフリー層を用いたサブミクロンMTJにおけるスイッチング磁界の低減
- MTJに用いる Synthetic ferrimagnet フリー層の熱安定性
- 微小強磁性トンネル接合のカーヒステリシス測定
- Co/MgO多層膜の磁気光学スペクトル
- Nd-Fe-B焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力II
- 21aPS-26 希土類化合物のスピン再配列転移における結晶場誘起格子変形
- 20pWA-15 磁性イオンドープ CaB_6 系薄膜の構造と磁性
- 29aPS-65 Ca_La_xB_6 薄膜の構造と磁性 II
- 4p-R-12 Fe-P-C系非晶質合金の磁性(液体状態の磁化)
- 4p-R-11 Fe-P-C系非晶質合金の磁区構造
- Nd-Fe-B系化合物とナノコンポジット薄膜磁石
- 26pPSA-49 Co/Co-AlO_x/Co接合のTMRとクーロンブロッケード
- 仙台でのリフレッシュ理科教室 : 磁気の神秘
- Sm_2(Fe_Al_x)_のスピン再配列と結晶場
- 強磁性体二重トンネル接合による超伝導体へのスピン注入
- 強磁性体//超伝導体//強磁性体二重接合の磁気抵抗効果
- トンネルスピン分極率の強磁性層作製条件依存性
- Al/Al-oxide/ 強磁性体接合のトンネルコンダクタンス特性
- 31p-PSA-35 (Ni-Co, Fe-Co)/Cu人工格子薄膜における磁気抵抗効果の組成依存性
- 31p-PSA-33 82Ni-Fe/Al-Al_2O_3/Co強磁性トンネル接合における磁気抵抗効果 : 磁気抵抗の温度および印加電圧依存性
- 3p-H-11 Fe/Ge人工格子薄膜の磁性
- Nd-Fe-B系急冷薄帯の配向度と磁気特性
- 磁性ナノ粒子のカプセル化とその磁気特性
- 80Ni-Fe/Cu/Co/Cu80Ni-Fe人工格子薄膜の強磁性共鳴
- Coercivity Enhancements by High-Magnetic-Field Annealing in Sintered Nd-Fe-B Magnets (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- (Er_Tb_χ)_2Fe_Bの逐次スピン再配列転移と格子変形
- 22aG-7 強磁性共鳴を用いたソフト-ハード・ナノコンポジットにおける交換結合の評価
- 26pPSA-68 SmFe_-α-Fe系交換結合ナノコンポジット薄膜磁石における配向と磁気特性
- TMR素子における絶縁層/強磁性層界面の評価と伝導特性
- 液体急冷Ni-Mn合金の規則度と強磁場磁化
- Ni_Mn_xの規則度と磁性
- 29aPS-65 Ca_La_xB_6 薄膜の構造と磁性 II
- Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu,Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長(薄膜)
- スピンダイナミクスとスピントロニクスデバイス
- TMR素子の高速磁化反転測定
- Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu, Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長
- 金属ナノ細線をハードマスクに用いた強磁性単一電子素子の作製と特性評価
- 27pXJ-4 強磁性体/非磁性体接合におけるスピンポンピング(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
- Al_2O_3(0001)基板上のエピタキシャルトンネル接合のバイアス電圧依存性
- 多層膜中の強磁性薄膜における動的磁化過程
- 高速磁化反転測定のための埋め込みコプレナーガイドの作製
- サイドエッジ薄膜堆積法を用いた微小二重強磁性トンネル接合の作製
- スピンダイナミクスの電気的および光学的アプローチ
- スピン物性の制御はどこまで可能になったか?
- 下部磁性層表面を酸化して作製したトンネル接合の高耐熱特性(薄膜)
- スピンダイナミックス (特集 スピントロニクス(1)スピン伝導)
- 解説 トンネル磁気抵抗効果とスピンエレクトロニクスの展開
- 100nmスケールの微小強磁性トンネル接合の作製と評価
- TMR素子の動的磁化反転過程の測定
- 高耐熱・高耐電圧強磁性トンネル接合の作製
- 電子線リソグラフィを用いたナノメーターサイズTMR素子の作製
- スピンエレクトロニクス技術の発展とMRAMへの応用
- ナノメータ磁石のデバイス (特集 ナノサイエンスの現状と将来の展望)
- NiFe/Co-Al-O/Co 微細接合の磁気抵抗効果
- ラジカル酸化法で作製した高耐熱強磁性トンネル接合
- 斜め蒸着(Co, Fe)_(Al, Si)_-O薄膜の磁気抵抗効果
- Laser-Induced Fast Magnetization Precession and Gilbert Damping for CoCrPt Alloy Thin Films with Perpendicular Magnetic Anisotropy
- 急冷薄帯(Er_Tb_x)_2Fe_Bのスピン再配列と磁歪
- 強磁性トンネル接合における絶縁障壁と磁気抵抗効果
- 強磁性体/非磁性体接合におけるスピンポンピング
- 24pPSA-38 (80NiFe)_Pt_x薄膜における強磁性共鳴線幅
- 26aYQ-7 非磁性体(NM)/80NiFe/NM膜におけるFMR線幅に対するNMの効果
- 29a-J-3 80NiFe並びにCo超薄膜のFMR線幅
- 70CoNi/Cu/80NiFe三層膜の強磁性共鳴
- wedge状に絶縁層を形成した強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- 4p-R-13 Fe-P-C系非晶質合金の磁気異方性
- 28p-YF-6 強磁性/絶縁体/強磁性接合の磁気抵抗効果
- 8aPS-37 Ca_La_xB_6薄膜の構造と磁性(遍歴磁性,化合物磁性,スピングラス・ランダム系,量子スピン系,磁気共鳴一般,実験技術開発等,領域3)
- 8pPSA-23 Nd_2Fe_B/NdO_2相界面における局所結晶場とスピン反転(薄膜・人工格子磁性,微小領域磁性,表面・界面磁性講演,領域3)
- 25aPS-69 Ca_La_xB_6薄膜の構造と磁性(25aPS 遍歴電子磁性・化合物物性,量子スピン系,フラストレーション系,f電子系,磁性一般,磁気共鳴,実験技術,領域3(磁性,磁気共鳴分野))
- 31p-D-4 液体急冷によって作製したhcpGd-Fe合金の磁性(31p D 磁性(遷移金属合金,化合物,遍歴電子磁性,その他))
- 1p-YD-9 CPP磁気抵抗薄膜の作製(1pYD 磁性(薄膜,人工格子),磁性)
- 1p-PSB-14 Ni/MgO多層膜の磁気光学スペクトル(1pPSB 磁性(薄膜,人工格子,スピングラス,ランダム系・低次元系),磁性)