安藤 康夫 | 東北大工
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概要
関連著者
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安藤 康夫
東北大工
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宮崎 照宣
東北大工
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安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
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大兼 幹彦
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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久保田 均
産総研
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安藤 康夫
東北大学工学研究科応用物理学専攻
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水上 成美
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
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渡辺 大輔
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(wpi-aimr)
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宮崎 照宣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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大坊 忠臣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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大坊 忠臣
東北大工
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手束 展規
東北大工
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佐久間 昭正
日立金属(株)磁性材料研究所
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家形 諭
産業技術総合研究所(AIST)
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桜庭 裕弥
東北大学大学院工学研究科
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佐久間 昭正
東北大学大学院工学研究科
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加藤 宏朗
山形大工
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佐久間 昭正
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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大兼 幹彦
東北大工
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永沼 博
東北大学工学研究科応用物理学専攻
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加藤 宏朗
東北大学niche:山形大工
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加藤 宏明
東北大工
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久保田 均
産業技術総合研究所
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渡邉 大輔
東北大WPI
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桜庭 裕弥
東北大学金属材料研究所
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家形 諭
東北大学大学院工学研究科
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中田 淳
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構
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高梨 弘毅
東北大金研
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石尾 俊二
秋田大鉱山
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加藤 宏朗
東北大学NICHe
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水上 成美
東北大WPI
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宮崎 照宣
東北大WPI
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窪田 崇秀
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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岩瀬 拓
東北大学金属材料研究所
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常木 澄人
東北大学大学院工学研究科
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斉藤 今朝美
東北大学金属材料研究所
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高梨 弘毅
東北大学金属材料研究所
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青木 達也
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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渡邉 大輔
東北大学大学院工学研究科
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服部 正志
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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渡邉 美穂
東北大学大学院工学研究科
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宮崎 照宜
東北大工
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宮崎 照宜
東北大学大学院
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渡邉 美穂
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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宮崎 照宣
東北大院工
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安藤 康夫
東北大院工
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栗田 直幸
東北大工
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加藤 宏朗
東北大工
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Takanashi K
Institute For Solid State Physics University Of Tokyo:the Research Institute For Iron Steel And Othe
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加藤 宏朗
東北大学大学院工学研究科
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阿山 みよし
宇都宮大学大学院工学研究科
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田中 秀和
阪大産研
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大沢 通夫
富士電機アドバンストテクノロジー(株)
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小池 洋二
東北大工
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大野 裕三
東北大通研
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秋永 広幸
産総研ナノ機能合成プロ
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今村 裕志
産総研ナノテク
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三浦 淳
東京理科大学理学部応用物理学科
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神島 謙二
埼玉大学理工学研究科物質科学研究部門
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柿崎 浩一
埼玉大学理工学研究科物質科学研究部門
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平塚 信之
埼玉大学理工学研究科物質科学研究部門
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岡村 総一郎
東京理科大学理学部応用物理学科
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谷口 知大
産業技術総合研究所(AIST)
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今村 裕志
産業技術総合研究所(AIST)
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吉田 隆
名大工
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斗内 政吉
阪大超伝導フォトニクス
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今村 裕志
産業技術総合研究所
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谷口 知大
筑波大:産総研ナノテク
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湯浅 新治
産総研
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竹田 美和
名大工
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福島 章雄
産総研
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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湯浅 新治
産業技術総合研究所
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秋屋 貴博
東北大学NICHe
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平塚 信之
埼玉大学理工学研究科
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向田 昌志
山形大学工学部
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Sajitha E.
東北大WPI
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Wu F.
東北大WPI
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永沼 博
東北大工
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廣瀬 直紀
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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西村 真之
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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渡邉 大輔
東北大学WPI機構
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大平 祐介
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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渡邉 大輔
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI-AIMR)
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永沼 博
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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佐久間 昭正
東北大学金属材料研究所
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小川 大介
東北大学大学院工学研究科
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秋屋 貴博
東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)
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加藤 宏朗
東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)
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高 太好
(株)リコー研究開発本部東北研究所
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宮崎 照宣
東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)
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YILGIN Resul
東北大学大学院工学研究科
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久保田 均
独立行政法人産業技術総合研究所,エレクトロニクス研究部門
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Telling N.D.
Magnetic Spectroscopy Gourp, CCLRC Daresbury Laboratory
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Keatley P.
School of Physics, University of Exeter
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Laan G.
Magnetic Spectroscopy Group, CCLRC Daresbury Laboratory
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Arenholz E.
Advanced Light Source, Lawrence Berkeley National Laboratory
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Hicken R.
School of Physics, University of Exeter
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渡辺 大輔
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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YILGIN R.
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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宮越 健史
東北大学大学院
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長浜 太郎
産業技術総合研究所
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川瀬 晃道
理化学研究所
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川瀬 晃道
理研
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佐藤 雅重
東北大工
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尾崎 雅則
阪大院・工
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尾崎 雅則
阪大・工
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長濱 太郎
産総研
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和田 隆博
龍谷大理工
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木村 英樹
東海大学
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山本 公
アルバック・ファイ(株)
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秋永 広幸
産総研
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財満 鎭明
名古屋大学大学院工学研究科
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長浜 太郎
産総研
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毛塚 博史
東京工科大
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三木 一司
物材機構
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永嶋 誠一
日大工物理
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勝山 俊夫
東大生研ナノエレ連携研
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八井 浄
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
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進藤 春雄
東海大
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田村 收
産総研
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伊藤 雅英
筑波大
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馬場 俊彦
横国大
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藤田 安彦
都立工業高専
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小笠原 宗博
東芝研開セ
-
筒井 哲夫
九大院総理工
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小川 真一
松下電器半導体社
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粟野 祐二
富士通研
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藤田 静雄
京大国際融合創造セ
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脇坂 健一郎
三洋電機
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佐藤 芳之
NTT-AT
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白井 肇
埼玉大
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林 康明
京都工繊大工芸
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岡本 隆之
理研
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梶川 浩太郎
東工大
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財満 鎭明
名大
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影島 愽之
NTT物性科学基礎研究所
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鳥海 明
東大
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金田 千穂子
富士通研
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川田 善正
静岡大
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山本 哲也
高知工大
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酒井 朗
名大院工
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櫻庭 政夫
東北大通研
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中川 清和
山梨大工
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梶川 靖友
島根大総理工
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竹田 美和
名大院工
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小田中 紳二
阪大
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田中 三郎
豊橋技大
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王 鎮
情報通信研究機構
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芝山 敦史
ニコン
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佐波 俊哉
KEK
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栖原 敏明
阪大
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松本 仁
防衛大材料
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鵜殿 治彦
茨城大工
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末益 崇
筑波大物理工
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鈴木 恒則
東海大理
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喜岡 俊英
東理大工
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福井 孝志
北大量集センタ
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高橋 庸夫
NTT物性基礎研
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岡田 勝行
物材機構
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尾松 孝茂
千葉大
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栗村 直
物材機構
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松尾 二郎
京大
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藤原 巧
長岡技科大
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白谷 正治
九大院システム情報
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上田 幸生
東北大
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柿崎 浩一
埼玉大学大学院理工学研究科
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平塚 信之
埼玉大学大学院理工学研究科
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向田 昌志
山形大
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三木 一司
電総研
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永嶋 誠一
日大工
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酒井 朗
大阪大学
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尾崎 雅則
大阪大学
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神島 謙二
埼玉大学大学院理工学研究科
-
金田 千穂子
富士通研究所
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林 康明
京都工芸繊維大学大学院
-
松尾 二郎
京都大学工学研究科附属量子理工学研究実験センター
-
鈴木 恒則
東京工科大学
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TEHRANI S.
Everspin Technologies, Inc.
-
藤田 安彦
東京都立産業技術高等専門学校
-
山本 哲也
東京都立産業技術高等専門学校
-
石尾 俊二
東北大工
-
栗村 直
独立行政法人物質・材料研究機構光材料センター
-
李 永〓
東北大学電気通信研究所
-
阿山 みよし
宇都宮大学・院・工
-
高橋 庸夫
北大
-
福本 能之
東北大
-
田中 三郎
豊橋技術科学大学
-
松尾 二郎
京大院工
-
鳥海 明
東大・物工
-
鳥海 明
東大院工
-
白井 肇
埼玉大学大学院 理工学研究科 機能材料工学専攻
-
川田 善正
静岡大学 工学部
-
尾松 孝茂
千葉大学大学院自然科学研究科
-
尾松 孝茂
千葉大学
-
木村 英樹
東海大学大学院総合理工学研究科
-
八井 浄
長岡技術科学大学 極限エネルギー密度工学研究センター
-
栖原 敏明
大阪大学大学院工学研究科
著作論文
- ホイスラー合金系ハーフメタルCo_2MnSiを用いた高感度磁気抵抗素子の開発(ハードディスクドライブおよび一般)
- ホイスラー合金系ハーフメタルCo_2MnSiを用いた高感度磁気抵抗素子の開発(ハードディスクドライブ及び一般)
- 超高密度磁気メモリ (特集2 ユビキタス社会を拓く次世代電子デバイス)
- Co置換Biフェライト薄膜の室温での強誘電性および磁気特性
- スピンポンピングによるスピン流の創出と物理現象
- 26aVD-7 垂直磁化Pt/Co/Pt三層膜における時間分解磁気光学効果(スピン流・スピンホール,領域3,磁性,磁気共鳴)
- Co_2FeMnSiホイスラー合金の磁気緩和定数
- 高アニール耐性・高反平行結合強度を有する積層フェリ構造の開発
- Co_2MnSiを電極とする微小二重トンネル接合の作製と評価
- Fe-Co-NiおよびCo基フルホイスラー合金薄膜における磁気緩和
- 27aTF-12 磁性金属薄膜のスピン緩和の光学的検出(27aTF スピンホール・磁気渦・ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 高配向Nd_2Fe_B薄膜のX線回折と磁気特性
- TMR素子を用いた高感度地磁気センサーの開発(スピンエレクトロニクス)
- CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合のナノ秒領域におけるスピン注入磁化反転と実時間測定(スピンエレクトロニクス)
- スピントロニクスの形成と発展
- Co_2MnSiを用いた強磁性トンネル接合における極高スピン分極率の実現
- Co-Fe-B合金薄膜の磁気緩和定数測定(スピンエレクトロニクス)
- コプレーナ伝送路を有する微小強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
- Co_2MnSi(110)エピタキシャル薄膜を用いた強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
- 強磁性共鳴を用いたMRAMフリー層材料の磁気緩和定数測定
- 24aXN-3 強磁性体二重トンネル接合を利用した超伝導体中へのスピン注入とその磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24aXN-1 Fe/MgO/Fe強磁性トンネル接合の非弾性電子トンネル分光(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 第51回応用物理学関係連合講演会(2004年)
- ナフチルアミン-3d遷移金属錯体の合成とその磁性
- 有機アミン-3d遷移金属錯体の合成とその磁性
- 24pPSB-30 トンネル分光法によるFe,Co,Niのスピン分極率測定
- 26pPSA-46 Ni_Fe_/Co/N/N-oxide/Co(N=Ta, Al)接合における磁気抵抗効果
- 26pPSA-45 トンネル分光法によるスピン分極率測定
- Wedge状の絶縁層を有する強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- FIBによるサブミクロンMTJの作製プロセス
- 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製(薄膜)
- 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製
- 26pPSA-47 Ni_Fe_/Co/Al(d_)/Al-oxide/Co接合の非弾性電子トンネル分光
- 強磁性体-有機色素接合における偏極スピン伝導
- Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
- 下部強磁性電極の結晶性と強磁性トンネル接合のバイアス電圧依存性
- 下部電極をエピタキシャル成長させた強磁性トンネル接合の局所伝導特性
- CO-NH_3ガスを用いた磁性薄膜のドライエッチング
- 29a-PS-14 擬二元R-Fe(R=Pr, Nd, Sm, Tb, Dy, Er)アモルファス合金の強磁場磁化
- 3a-YA-12 ランダム異方性を有するR-Fe擬二元アモルファス合金の磁気相図
- 27pPSA-7 磁性薄膜における強磁性共鳴の電気的検出および周波数依存性(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 1a-S-4 80Ni-Fe/Cu人工格子における強磁性共鳴
- 2007年度朝日賞受賞! : 宮崎照宣教授と湯浅新治博士
- Co_2MnAlホイスラー合金を用いた強磁性トンネル接合(薄膜)
- 積層フェリフリー層を用いたサブミクロンMTJにおけるスイッチング磁界の低減
- MTJに用いる Synthetic ferrimagnet フリー層の熱安定性
- 26pPSA-49 Co/Co-AlO_x/Co接合のTMRとクーロンブロッケード
- 強磁性体二重トンネル接合による超伝導体へのスピン注入
- 強磁性体//超伝導体//強磁性体二重接合の磁気抵抗効果
- トンネルスピン分極率の強磁性層作製条件依存性
- 80Ni-Fe/Cu/Co/Cu80Ni-Fe人工格子薄膜の強磁性共鳴
- 3p-YA-7 強磁性/Al-Al_2O_3/強磁性接合の磁気トンネリング効果
- Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu,Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長(薄膜)
- スピンダイナミクスとスピントロニクスデバイス
- TMR素子の高速磁化反転測定
- Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu, Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長
- 金属ナノ細線をハードマスクに用いた強磁性単一電子素子の作製と特性評価
- 27pXJ-4 強磁性体/非磁性体接合におけるスピンポンピング(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
- Al_2O_3(0001)基板上のエピタキシャルトンネル接合のバイアス電圧依存性
- 多層膜中の強磁性薄膜における動的磁化過程
- 高速磁化反転測定のための埋め込みコプレナーガイドの作製
- サイドエッジ薄膜堆積法を用いた微小二重強磁性トンネル接合の作製
- 強磁性トンネル接合における絶縁障壁と磁気抵抗効果
- 強磁性体/非磁性体接合におけるスピンポンピング
- 24pPSA-38 (80NiFe)_Pt_x薄膜における強磁性共鳴線幅
- 26aYQ-7 非磁性体(NM)/80NiFe/NM膜におけるFMR線幅に対するNMの効果
- 29a-J-3 80NiFe並びにCo超薄膜のFMR線幅
- 70CoNi/Cu/80NiFe三層膜の強磁性共鳴
- wedge状に絶縁層を形成した強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- ユニバーサルメモリーMRAM
- 低磁気緩和を有するハーフメタルホイスラー合金