26pPSA-45 トンネル分光法によるスピン分極率測定

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人日本物理学会の論文
• 1999-09-03

著者

• 大兼 幹彦

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 安藤 康夫

  東北大工

• 大兼 幹彦

  東北大工

• 手束 展規

  東北大工

• 宮崎 照宣

  東北大工

• 久保田 均

  東北大工

関連論文

• ホイスラー合金系ハーフメタルCo_2MnSiを用いた高感度磁気抵抗素子の開発(ハードディスクドライブおよび一般)
• ホイスラー合金系ハーフメタルCo_2MnSiを用いた高感度磁気抵抗素子の開発(ハードディスクドライブ及び一般)
• 超高密度磁気メモリ (特集2 ユビキタス社会を拓く次世代電子デバイス)
• Co置換Biフェライト薄膜の室温での強誘電性および磁気特性
• スピンポンピングによるスピン流の創出と物理現象
• 26aVD-7 垂直磁化Pt/Co/Pt三層膜における時間分解磁気光学効果(スピン流・スピンホール,領域3,磁性,磁気共鳴)
• Co_2FeMnSiホイスラー合金の磁気緩和定数
• 高アニール耐性・高反平行結合強度を有する積層フェリ構造の開発
• Co_2MnSiを電極とする微小二重トンネル接合の作製と評価
• Fe-Co-NiおよびCo基フルホイスラー合金薄膜における磁気緩和
• 27aTF-12 磁性金属薄膜のスピン緩和の光学的検出(27aTF スピンホール・磁気渦・ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 高配向Nd_2Fe_B薄膜のX線回折と磁気特性
• TMR素子を用いた高感度地磁気センサーの開発(スピンエレクトロニクス)
• CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合のナノ秒領域におけるスピン注入磁化反転と実時間測定(スピンエレクトロニクス)
• スピントロニクスの形成と発展
• Co_2MnSiを用いた強磁性トンネル接合における極高スピン分極率の実現
• Co-Fe-B合金薄膜の磁気緩和定数測定(スピンエレクトロニクス)
• コプレーナ伝送路を有する微小強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
• Co_2MnSi(110)エピタキシャル薄膜を用いた強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
• 強磁性共鳴を用いたMRAMフリー層材料の磁気緩和定数測定
• 24aXN-3 強磁性体二重トンネル接合を利用した超伝導体中へのスピン注入とその磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24aXN-1 Fe/MgO/Fe強磁性トンネル接合の非弾性電子トンネル分光(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
• フェリ磁性ホイスラー合金Mn2VAlエピタキシャル薄膜の元素選択的磁気特性評価
• Co/Pt多層膜単一ナノドットの磁化過程
• MgO障壁を用いたFePt垂直磁化トンネル磁気抵抗素子の磁気抵抗特性および極微構造
• 第51回応用物理学関係連合講演会(2004年)
• ナフチルアミン-3d遷移金属錯体の合成とその磁性
• 有機アミン-3d遷移金属錯体の合成とその磁性
• Tunneling Spin Polarization and Magnetic Properties of Co-Fe-B Alloys and Their Dependence on Boron Content
• Anisotropic Intrinsic Damping Constant of Epitaxial Co_2MnSi Heusler Alloy Films
• Temperature Dependence of Tunnel Magnetoresistance in Co-Mn-Al/Al-Oxide/Co-Fe Junctions
• Spin-Dependent Inelastic Electron Tunneling Spectroscopy of Magnetic Tunnel Junctions
• Large Magnetoresistance in Magnetic Tunnel Junctions Using Co-Mn-Al Full Heusler Alloy
• 24pPSB-30 トンネル分光法によるFe,Co,Niのスピン分極率測定
• 26pPSA-46 Ni_Fe_/Co/N/N-oxide/Co(N=Ta, Al)接合における磁気抵抗効果
• 26pPSA-45 トンネル分光法によるスピン分極率測定
• 強磁性体/Al-Oxide/Co接合のトンネル磁気抵抗効果の印加電圧及び温度依存性
• 28p-J-12 Co/Al-oxide/Co接合におけるTMR比の印加電圧・温度依存性
• 80NiFe/Al-oxide/Co接合におけるトンネル磁気抵抗比の80NiFe膜厚依存性
• 強磁性体/Al-oxide/Co接合のトンネル磁気抵抗効果の印加電圧及び温度依存性
• Wedge状の絶縁層を有する強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
• FIBによるサブミクロンMTJの作製プロセス
• 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製(薄膜)
• 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製
• 二重強磁性トンネル接合におけるスピン依存伝導特性
• 26pPSA-47 Ni_Fe_/Co/Al(d_)/Al-oxide/Co接合の非弾性電子トンネル分光
• 強磁性体-有機色素接合における偏極スピン伝導
• スピントルク磁化反転におけるスピンダイナミクス
• Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
• スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
• 下部強磁性電極の結晶性と強磁性トンネル接合のバイアス電圧依存性
• 下部電極をエピタキシャル成長させた強磁性トンネル接合の局所伝導特性
• CO-NH_3ガスを用いた磁性薄膜のドライエッチング
• 29a-PS-14 擬二元R-Fe(R=Pr, Nd, Sm, Tb, Dy, Er)アモルファス合金の強磁場磁化
• 3a-YA-12 ランダム異方性を有するR-Fe擬二元アモルファス合金の磁気相図
• 27pPSA-7 磁性薄膜における強磁性共鳴の電気的検出および周波数依存性(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 1a-S-4 80Ni-Fe/Cu人工格子における強磁性共鳴
• 2007年度朝日賞受賞! : 宮崎照宣教授と湯浅新治博士
• Co_2MnAlホイスラー合金を用いた強磁性トンネル接合(薄膜)
• ホイスラー系合金Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合
• 積層フェリフリー層を用いたサブミクロンMTJにおけるスイッチング磁界の低減
• MTJに用いる Synthetic ferrimagnet フリー層の熱安定性
• 26pPSA-49 Co/Co-AlO_x/Co接合のTMRとクーロンブロッケード
• Fabrication of Co2MnAl Heusler Alloy Epitaxial Film Using Cr Buffer Layer
• Huge Spin-Polarization of L21-Ordered Co2MnSi Epitaxial Heusler Alloy Film
• 強磁性体二重トンネル接合による超伝導体へのスピン注入
• 強磁性体//超伝導体//強磁性体二重接合の磁気抵抗効果
• トンネルスピン分極率の強磁性層作製条件依存性
• Al/Al-oxide/ 強磁性体接合のトンネルコンダクタンス特性
• 80Ni-Fe/Cu/Co/Cu80Ni-Fe人工格子薄膜の強磁性共鳴
• 3p-YA-7 強磁性/Al-Al_2O_3/強磁性接合の磁気トンネリング効果
• 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 中間層にAIを用いた二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 28aYE-5 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 28aYE-5 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 中間層にAlを用いた二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 強磁性トンネル接合における絶縁層の酸化過程
• トンネル分光法を用いたスピン分極率測定
• Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu,Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長(薄膜)
• スピンダイナミクスとスピントロニクスデバイス
• TMR素子の高速磁化反転測定
• Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu, Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長
• 金属ナノ細線をハードマスクに用いた強磁性単一電子素子の作製と特性評価
• 27pXJ-4 強磁性体/非磁性体接合におけるスピンポンピング(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
• Al_2O_3(0001)基板上のエピタキシャルトンネル接合のバイアス電圧依存性
• 多層膜中の強磁性薄膜における動的磁化過程
• 高速磁化反転測定のための埋め込みコプレナーガイドの作製
• サイドエッジ薄膜堆積法を用いた微小二重強磁性トンネル接合の作製
• 強磁性トンネル接合における絶縁障壁と磁気抵抗効果
• 強磁性体/非磁性体接合におけるスピンポンピング
• 24pPSA-38 (80NiFe)_Pt_x薄膜における強磁性共鳴線幅
• 26aYQ-7 非磁性体(NM)/80NiFe/NM膜におけるFMR線幅に対するNMの効果
• 29a-J-3 80NiFe並びにCo超薄膜のFMR線幅
• 70CoNi/Cu/80NiFe三層膜の強磁性共鳴
• wedge状に絶縁層を形成した強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
• Ni_Fe_/Al-Oxide/Co接合におけるトンネル磁気抵抗比のNi_Fe_膜厚依存性
• ユニバーサルメモリーMRAM
• 低磁気緩和を有するハーフメタルホイスラー合金
• α－Ｆｅ（１００）／Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ（００１）界面における交換結合の評価
• Nd_2Fe_B/α-Fe界面における交換結合の評価(記録システム、一般)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク