Fabrication of Co2MnAl Heusler Alloy Epitaxial Film Using Cr Buffer Layer

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文

著者

• 大兼 幹彦

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

関連論文

• ホイスラー合金系ハーフメタルCo_2MnSiを用いた高感度磁気抵抗素子の開発(ハードディスクドライブおよび一般)
• ホイスラー合金系ハーフメタルCo_2MnSiを用いた高感度磁気抵抗素子の開発(ハードディスクドライブ及び一般)
• スピンポンピングによるスピン流の創出と物理現象
• 26aVD-7 垂直磁化Pt/Co/Pt三層膜における時間分解磁気光学効果(スピン流・スピンホール,領域3,磁性,磁気共鳴)
• Co_2FeMnSiホイスラー合金の磁気緩和定数
• 高アニール耐性・高反平行結合強度を有する積層フェリ構造の開発
• Co_2MnSiを電極とする微小二重トンネル接合の作製と評価
• Fe-Co-NiおよびCo基フルホイスラー合金薄膜における磁気緩和
• 27aTF-12 磁性金属薄膜のスピン緩和の光学的検出(27aTF スピンホール・磁気渦・ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 高配向Nd_2Fe_B薄膜のX線回折と磁気特性
• TMR素子を用いた高感度地磁気センサーの開発(スピンエレクトロニクス)
• CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合のナノ秒領域におけるスピン注入磁化反転と実時間測定(スピンエレクトロニクス)
• スピントロニクスの形成と発展
• Co_2MnSiを用いた強磁性トンネル接合における極高スピン分極率の実現
• Co-Fe-B合金薄膜の磁気緩和定数測定(スピンエレクトロニクス)
• コプレーナ伝送路を有する微小強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
• Co_2MnSi(110)エピタキシャル薄膜を用いた強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
• 強磁性共鳴を用いたMRAMフリー層材料の磁気緩和定数測定
• 24aXN-3 強磁性体二重トンネル接合を利用した超伝導体中へのスピン注入とその磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24aXN-1 Fe/MgO/Fe強磁性トンネル接合の非弾性電子トンネル分光(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
• フェリ磁性ホイスラー合金Mn2VAlエピタキシャル薄膜の元素選択的磁気特性評価
• MgO障壁を用いたFePt垂直磁化トンネル磁気抵抗素子の磁気抵抗特性および極微構造
• Tunneling Spin Polarization and Magnetic Properties of Co-Fe-B Alloys and Their Dependence on Boron Content
• Anisotropic Intrinsic Damping Constant of Epitaxial Co_2MnSi Heusler Alloy Films
• Temperature Dependence of Tunnel Magnetoresistance in Co-Mn-Al/Al-Oxide/Co-Fe Junctions
• Spin-Dependent Inelastic Electron Tunneling Spectroscopy of Magnetic Tunnel Junctions
• Large Magnetoresistance in Magnetic Tunnel Junctions Using Co-Mn-Al Full Heusler Alloy
• 24pPSB-30 トンネル分光法によるFe,Co,Niのスピン分極率測定
• 26pPSA-45 トンネル分光法によるスピン分極率測定
• 強磁性体/Al-Oxide/Co接合のトンネル磁気抵抗効果の印加電圧及び温度依存性
• 28p-J-12 Co/Al-oxide/Co接合におけるTMR比の印加電圧・温度依存性
• 80NiFe/Al-oxide/Co接合におけるトンネル磁気抵抗比の80NiFe膜厚依存性
• 強磁性体/Al-oxide/Co接合のトンネル磁気抵抗効果の印加電圧及び温度依存性
• 二重強磁性トンネル接合におけるスピン依存伝導特性
• スピントルク磁化反転におけるスピンダイナミクス
• Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
• スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
• Co_2MnAlホイスラー合金を用いた強磁性トンネル接合(薄膜)
• ホイスラー系合金Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合
• Fabrication of Co2MnAl Heusler Alloy Epitaxial Film Using Cr Buffer Layer
• Huge Spin-Polarization of L21-Ordered Co2MnSi Epitaxial Heusler Alloy Film
• 強磁性体二重トンネル接合による超伝導体へのスピン注入
• 強磁性体//超伝導体//強磁性体二重接合の磁気抵抗効果
• トンネルスピン分極率の強磁性層作製条件依存性
• Al/Al-oxide/ 強磁性体接合のトンネルコンダクタンス特性
• 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 中間層にAIを用いた二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 28aYE-5 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 28aYE-5 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 中間層にAlを用いた二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• 強磁性トンネル接合における絶縁層の酸化過程
• トンネル分光法を用いたスピン分極率測定
• Ni_Fe_/Al-Oxide/Co接合におけるトンネル磁気抵抗比のNi_Fe_膜厚依存性
• 低磁気緩和を有するハーフメタルホイスラー合金
• α－Ｆｅ（１００）／Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ（００１）界面における交換結合の評価
• Nd_2Fe_B/α-Fe界面における交換結合の評価(記録システム、一般)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク