Co_2MnSiを電極とする微小二重トンネル接合の作製と評価
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概要
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Double magnetic tunnel junctions (DMTJs) using half-metallic Heusler alloy Co2MnSi electrodes were fabricated. A tunnel magneto-resistance ratio as large as 25% (at RT) and 320% (at 6 K) was observed in the DMTJs with various junction areas. The dependence of the tunnel magneto-resistance on bias voltage was a typical characteristic of DMTJs. These results indicate that high-quality DMTJs were stably fabricated.
- 社団法人 日本磁気学会の論文
- 2009-05-01
著者
-
安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
大兼 幹彦
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
安藤 康夫
東北大工
-
大平 祐介
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
大兼 幹彦
Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
大兼 幹彦
東北大学大学院工学研究科
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