スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
佐久間 昭正
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
安藤 康夫
東北大学工学研究科応用物理学専攻
-
安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
大兼 幹彦
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
-
安藤 康夫
東北大工
-
久保田 均
産総研
-
加藤 宏朗
東北大学NICHe
-
桜庭 裕弥
東北大学金属材料研究所
-
桜庭 裕弥
東北大学大学院工学研究科
-
中田 淳
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
宮崎 照宣
東北大工
-
加藤 宏朗
東北大学niche:山形大工
-
加藤 宏明
東北大工
-
佐久間 昭正
日立金属(株)磁性材料研究所
-
佐久間 昭正
東北大学大学院工学研究科
-
加藤 宏朗
山形大工
-
宮崎 照宣
東北大 原子分子材料科学高等研究機構
-
佐久間 昭正
東北大 大学院工学研究科
-
安藤 康夫
東北大 工
-
久保田 均
産業技術総合研
-
佐久間 昭正
日立金属 磁性材研
-
加藤 宏朗
東北大 金研
-
加藤 宏朗
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
中田 淳
東北大
-
大兼 幹彦
東北大学大学院工学研究科
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