Co置換Biフェライト薄膜の室温での強誘電性および磁気特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Co substituted BiFeO3 polycrystalline films were fabricated on Pt/Ti/SiO2/Si(100) substrates by a chemical solution deposition method that was followed by post-deposition annealing between 673 and 1073 K. The substitution of cobalt at B-sites for iron in BiFeO3 was promoted at relatively high temperatures, and saturated at around 923 K. The leakage current density was suppressed by substituting Co; therefore, ferroelectricity could be observed at room temperature. The remanent polarization increased by substituting Co due to the reduced electric coercive field. The saturation magnetization increased by promoting Co substitution, and a magnetic coercive field of 1.5 kOe and remanent magnetization of 3 emu/cm3 were obtained by annealing at 923 K. This indicated that Co substituted BiFeO3 films are candidate materials that enable ferromagnetism and ferroelectricity to coexist above room temperature.
- 2009-05-01
著者
-
永沼 博
東北大学工学研究科応用物理学専攻
-
三浦 淳
東京理科大学理学部応用物理学科
-
神島 謙二
埼玉大学理工学研究科物質科学研究部門
-
柿崎 浩一
埼玉大学理工学研究科物質科学研究部門
-
平塚 信之
埼玉大学理工学研究科物質科学研究部門
-
安藤 康夫
東北大学工学研究科応用物理学専攻
-
岡村 総一郎
東京理科大学理学部応用物理学科
-
安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
安藤 康夫
東北大工
-
平塚 信之
埼玉大学理工学研究科
-
柿崎 浩一
埼玉大学大学院理工学研究科
-
平塚 信之
埼玉大学大学院理工学研究科
-
神島 謙二
埼玉大学大学院理工学研究科
-
安藤 康夫
東北大学工学研究科
-
岡村 総一郎
東京理科大学理学部
-
永沼 博
東北大学応用物理学専攻
-
柿崎 浩一
埼玉大学理工学研究科物理機能系専攻
-
神島 謙二
埼玉大学理工学研究科物理機能系専攻
関連論文
- 強磁性-強誘電性多層薄膜の作製および磁気-電気効果
- Co置換Biフェライト薄膜の室温での強誘電性および磁気特性
- 26aVD-7 垂直磁化Pt/Co/Pt三層膜における時間分解磁気光学効果(スピン流・スピンホール,領域3,磁性,磁気共鳴)
- Fe-Co-NiおよびCo基フルホイスラー合金薄膜における磁気緩和
- FePt-ZrO_2グラニュラー薄膜の微細構造および磁気特性
- FePt-フルオロカーボングラニュラー薄膜の構造および磁気特性
- CoFe_2O_4系スピンバルブ膜のMR特性およびそのアニール温度依存性
- 陰極に強磁性金属を用いた有機EL素子の発光特性
- 金属キレート錯体Alq_3の磁性と伝導特性
- 有機無機層状ペロブスカイト錯体の磁性と光学特性
- 有機アミン-3d遷移金属錯体の磁性と光学特性
- Ni_Fe_Co/N(N=Ta, Al)/Al-oxide/Co接合における磁気抵抗効果
- Ni-Fe/Co/Al-O/Co接合におけるTMRのプラズマ酸化時間及びAl膜厚依存性
- 非弾性電子トンネル分光法(IETS)を用いた強磁性体/絶縁体界面の解析
- ウェッジ状のAl-O絶縁層を有する強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- 印加磁界下におけるフェライト熱電能特性
- FIBによるサブミクロンMTJの作製プロセス
- 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製
- ナフテン酸金属塩の塗布熱分解による強誘電体Pb(Zr, Ti)O_3薄膜の作製と電気的性質
- 二重強磁性トンネル接合におけるスピン依存伝導特性
- 異なる酸化条件により作製したTME素子のIETS
- スピンバルブ型トンネル接合のマグノン非弾性励起
- 強磁性体-有機分子接合における強磁性トンネル効果に及ぼす分子構造の影響 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- (Ni,Cu,Zn)Fe_2O_4-BaTiO_3共存材料の構造および物性(ハード・ソフト磁性材料)
- La-Co置換Baフェライト薄膜の結晶構造と磁気特性
- Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
- 傾斜機能型CoO添加Ni-Znフェライト
- 下部強磁性電極の結晶性と強磁性トンネル接合のバイアス電圧依存性
- 下部電極をエピタキシャル成長させた強磁性トンネル接合の局所伝導特性
- CO-NH_3ガスを用いた磁性薄膜のドライエッチング
- La-Co置換Baフェライト薄膜の作製および磁気特性
- 金属元素置換M型バリウムフェライトの高周波磁気特性(ソフト磁性材料)
- 磁場印加中熱分解による強磁性熱分解炭素の作製
- 添加物がLa-Co置換Baフェライト薄膜の結晶化温度に及ぼす影響
- 鉄過剰スピネル型フェライトの磁気抵抗効果
- Zn-Ti置換Z型フェライトの作製および初透磁率の改善
- FeCo-(C_4F_8)_nグラニュラー薄膜の微細構造および磁気特性
- Cu系フェライトの磁気抵抗効果
- 強磁性熱分解炭素に対する磁場中熱処理の効果(磁性体物理・超伝導)
- Fe系合金-(C_4F_8)_nグラニュラー薄膜の磁気特性
- rfスパッタ法により成膜したNi-Znフェライト薄膜の軟磁気特性の改善
- Ca置換Y型六方晶フェライトの作製および磁気特性
- 炭素系有機磁性体の磁気特性に関する研究
- Z型フェライトの磁気特性に及ぼす希土類イオン置換の影響
- アーク放電を用いた室温有機強磁性体の作製および物性
- FePt-ZrO_2グラニュラー薄膜の作製および磁気特性
- 炭素系室温強磁性体の合成および物性
- Gdイオン置換Z型フェライトの作製および磁気特性
- CoPt-(C_4F_8)_nグラニュラー薄膜の磁気特性
- Co_2Zフェライトの高周波磁気特性に及ぼす金属イオン置換効果
- Pb置換Baフェライト薄膜の磁気特性
- B_2O_3添加金属・酸化物複合材料の磁気特性
- 磁場配向で作製したMn-Znフェライトの磁気特性
- プラズマ重合アセチレン含有CoPtグラニュラー薄膜
- CrPt-ZrO_2グラニュラー薄膜の磁気特性
- Baフェライト膜の磁気特性に及ぼすAIN下地膜の影響
- CoPt-ZrO_2磁性薄膜の磁気特性
- Fe^置換による超高周波用Co_2Z六方晶フェライトの研究
- Bi添加Baフェライト膜の作製および磁気特性
- マグネタイト被覆センダスト粒子の調製および磁気特性
- AIN下地層を用いたc軸配向Baフェライト膜
- 高酸素圧スパッタにより作製したBaフェライト膜の磁気特性
- SiO_2-CaO添加配向性Mn-Znフェライトの高周波特性
- CoPt-SiO_2グラニュラー薄膜
- 成膜後熱処理したバリウムフェライト薄膜の磁気特性
- 高周波マグネトロンスパッタ法による高保磁力ニッケルフェライト膜
- 共沈粉末からの磁性金属/フェライト複合粉末の調製
- 高保磁力ニッケルフェライト膜
- 低温熱処理により作製したBaフェライト膜の磁気特性
- W型六方晶フェライトスパッタ膜の作製及び磁気特性
- 強磁性金属超微粒子の硬磁気特性
- マンガン亜鉛フェライト膜の作製および磁気特性
- 針状微粒子から作製した配向性マンガン亜鉛フェライト
- CoOxスパッタ膜の作製及びその磁気特性
- RFマグネトロンスパッタ法によるNiフェライト膜の作製
- Mn-Znフェライト薄膜の軟磁気特性
- 配向性Mn-Znフェライトの初透磁率の周波数依存性
- 垂直磁気記録用CoFe_2O_4薄膜の作製および磁気特性
- ホイスラー系合金Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合
- MTJに用いる Synthetic ferrimagnet フリー層の熱安定性
- Coナノ微粒子を含むトンネル接合の TMRとクーロンブロッケード
- 強磁性体二重トンネル接合による超伝導体へのスピン注入
- 強磁性体//超伝導体//強磁性体二重接合の磁気抵抗効果
- トンネルスピン分極率の強磁性層作製条件依存性
- Al/Al-oxide/ 強磁性体接合のトンネルコンダクタンス特性
- 磁性ナノ粒子のカプセル化とその磁気特性
- 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
- 中間層にAlを用いた二重トンネル接合の磁気抵抗効果
- プラズマ酸化法による低抵抗強磁性トンネル接合の作製
- CoPt-ZrO_2グラニュラー薄膜の微細構造の磁気特性に及ぼす影響
- TMR素子における絶縁層/強磁性層界面の評価と伝導特性
- 強磁性トンネル接合における絶縁層の酸化過程
- 強磁性トンネル接合の絶縁障壁とスピン依存伝導
- 強磁性トンネル接合のスピン依存局所伝導特性
- トンネル分光法を用いたスピン分極率測定
- TMR素子の高速磁化反転測定
- 金属ナノ細線をハードマスクに用いた強磁性単一電子素子の作製と特性評価
- 強磁性トンネル接合用Al酸化膜の局所伝導
- 低磁気緩和を有するハーフメタルホイスラー合金