強磁性トンネル接合のスピン依存局所伝導特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2000-09-01
著者
-
安藤 康夫
東北大学工学研究科応用物理学専攻
-
宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
-
林 将光
物質・材料研究機構磁性材料センター
-
宮崎 照宣
東北大 原子分子材料科学高等研究機構
-
久保田 均
東北大学大学院工学研究科応用物理学
-
林 将光
東北大学大学院工学研究科応用物理学
-
久保田 均
東北大 工
-
安藤 康夫
東北大 工
-
林 将光
東北大
-
林 将光
物質・材料研究機構
関連論文
- Co置換Biフェライト薄膜の室温での強誘電性および磁気特性
- スピンポンピングによるスピン流の創出と物理現象
- 26aVD-7 垂直磁化Pt/Co/Pt三層膜における時間分解磁気光学効果(スピン流・スピンホール,領域3,磁性,磁気共鳴)
- Fe-Co-NiおよびCo基フルホイスラー合金薄膜における磁気緩和
- 27aTF-12 磁性金属薄膜のスピン緩和の光学的検出(27aTF スピンホール・磁気渦・ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
- CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合のナノ秒領域におけるスピン注入磁化反転と実時間測定(スピンエレクトロニクス)
- スピントロニクスの形成と発展
- Co_2MnSiを用いた強磁性トンネル接合における極高スピン分極率の実現
- Co-Fe-B合金薄膜の磁気緩和定数測定(スピンエレクトロニクス)
- コプレーナ伝送路を有する微小強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
- Co_2MnSi(110)エピタキシャル薄膜を用いた強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
- 強磁性共鳴を用いたMRAMフリー層材料の磁気緩和定数測定
- 24aXN-3 強磁性体二重トンネル接合を利用した超伝導体中へのスピン注入とその磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24aXN-1 Fe/MgO/Fe強磁性トンネル接合の非弾性電子トンネル分光(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 第51回応用物理学関係連合講演会(2004年)
- fcc-Co, Ni/Cu(001)超薄膜の伝導率スペクトルと電子構造
- スパッタ法によるCa_La_xB_6薄膜の作製
- 強磁場プロセスによるNd-Fe-B焼結磁石の高保磁力化
- 強磁場プロセシングによるNd-Fe-B焼結磁石の高保磁力化
- MnSbスパッタ薄膜の成長過程に及ぼす基板バイパス効果
- プレーナ配置式スパッタ法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 (種々のSi基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
- 陰極に強磁性金属を用いた有機EL素子の発光特性
- 金属キレート錯体Alq_3の磁性と伝導特性
- 有機無機層状ペロブスカイト錯体の磁性と光学特性
- 有機アミン-3d遷移金属錯体の磁性と光学特性
- Gilbert Damping for Various Ni_Fe_ Thin Films Investigated Using All-Optical Pump-Probe Detection and Ferromagnetic Resonance
- Tunnel Magnetoresistance Effect in Magnetic Tunnel Junctions Using a Co_2MnSi(110) Electrode
- Tunneling Spin Polarization and Magnetic Properties of Co-Fe-B Alloys and Their Dependence on Boron Content
- Anisotropic Intrinsic Damping Constant of Epitaxial Co_2MnSi Heusler Alloy Films
- Temperature Dependence of Tunnel Magnetoresistance in Co-Mn-Al/Al-Oxide/Co-Fe Junctions
- Ni_Fe_Co/N(N=Ta, Al)/Al-oxide/Co接合における磁気抵抗効果
- Ni-Fe/Co/Al-O/Co接合におけるTMRのプラズマ酸化時間及びAl膜厚依存性
- 80NiFe/Al-oxide/Co接合における磁気抵抗効果のAl-oxide厚依存性
- 80NiFe/Al-oxide/Co接合におけるトンネル磁気抵抗比の80NiFe膜厚依存性
- 強磁性トンネル接合の微細加工
- 強磁性体/Al-oxide/Co接合のトンネル磁気抵抗効果の印加電圧及び温度依存性
- 非弾性電子トンネル分光法(IETS)を用いた強磁性体/絶縁体界面の解析
- ウェッジ状のAl-O絶縁層を有する強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- 磁気メモリ総論
- FIBによるサブミクロンMTJの作製プロセス
- 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製(薄膜)
- 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製
- TMR効果の歴史と展望
- 二重強磁性トンネル接合におけるスピン依存伝導特性
- 異なる酸化条件により作製したTME素子のIETS
- スピンバルブ型トンネル接合のマグノン非弾性励起
- 強磁性体-有機分子接合における強磁性トンネル効果に及ぼす分子構造の影響 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- スピントルク磁化反転におけるスピンダイナミクス
- Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
- スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
- Nd-Fe-B/Fe系ナノコンポジット薄膜の磁気特性
- α-Fe/Nd-Fe-B交換結合多層膜の磁気特性
- 下部強磁性電極の結晶性と強磁性トンネル接合のバイアス電圧依存性
- 下部電極をエピタキシャル成長させた強磁性トンネル接合の局所伝導特性
- Nd-Dy-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力
- Nd-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- Nd-Dy-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- Nd-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- CO-NH_3ガスを用いた磁性薄膜のドライエッチング
- Nd-Fe-B焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力
- スピントロニクスデバイスへ向けての最前線
- 27pPSA-7 磁性薄膜における強磁性共鳴の電気的検出および周波数依存性(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- Co_2MnAlホイスラー合金を用いた強磁性トンネル接合(薄膜)
- ホイスラー系合金Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合
- 大野英男先生IUPAPからMagnetism Prizeを受賞
- 積層フェリフリー層を用いたサブミクロンMTJにおけるスイッチング磁界の低減
- MTJに用いる Synthetic ferrimagnet フリー層の熱安定性
- Nd-Fe-B焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力II
- 21aPS-26 希土類化合物のスピン再配列転移における結晶場誘起格子変形
- 20pWA-15 磁性イオンドープ CaB_6 系薄膜の構造と磁性
- Coナノ微粒子を含むトンネル接合の TMRとクーロンブロッケード
- 強磁性体二重トンネル接合による超伝導体へのスピン注入
- 強磁性体//超伝導体//強磁性体二重接合の磁気抵抗効果
- トンネルスピン分極率の強磁性層作製条件依存性
- Al/Al-oxide/ 強磁性体接合のトンネルコンダクタンス特性
- 強磁性共鳴によるナノコンポジット磁石の交換結合の評価
- 磁性ナノ粒子のカプセル化とその磁気特性
- 強磁場中熱処理によるNd-Fe-Co-B系急冷薄帯の作製
- 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
- 中間層にAlを用いた二重トンネル接合の磁気抵抗効果
- プラズマ酸化法による低抵抗強磁性トンネル接合の作製
- (Nd_2Fe_B, SmFe_)-α-Fe系ナノコンポジット薄膜の配向と磁気特性
- ナノコンポジット磁石におけるハード相の配向と磁気特性
- Nb-Fe-B薄膜の微細化と磁気特性
- 基板加熱スパッタによるSmFe_系ハード磁性薄膜の作製
- TMR素子における絶縁層/強磁性層界面の評価と伝導特性
- 強磁性トンネル接合における絶縁層の酸化過程
- 強磁性トンネル接合の絶縁障壁とスピン依存伝導
- 強磁性トンネル接合のスピン依存局所伝導特性
- トンネル分光法を用いたスピン分極率測定
- Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu,Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長(薄膜)
- スピンダイナミクスとスピントロニクスデバイス
- TMR素子の高速磁化反転測定
- Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu, Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長
- 金属ナノ細線をハードマスクに用いた強磁性単一電子素子の作製と特性評価
- 27pXJ-4 強磁性体/非磁性体接合におけるスピンポンピング(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
- Al_2O_3(0001)基板上のエピタキシャルトンネル接合のバイアス電圧依存性
- 多層膜中の強磁性薄膜における動的磁化過程
- 高速磁化反転測定のための埋め込みコプレナーガイドの作製
- 強磁性トンネル接合用Al酸化膜の局所伝導