集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製(薄膜)
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概要
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A process for fabricating small magnetic tunnel junctions (MTJs) by using focused ion beam (FIB)-assisted chemical vapor deposition was investigated. Deposited tungsten was used as an electrode, and deposited carbon was used as a mask. MTJs with a junction area of 3×3 um^2 showed a TMR ratio of about 30 %, at room temperature.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 2004-04-01
著者
-
安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
宮崎 照宣
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI)
-
安藤 康夫
東北大工
-
久保田 均
産総研
-
渡辺 大輔
東北大学原子分子材料科学高等研究機構(wpi-aimr)
-
宮崎 照宣
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
宮崎 照宣
東北大工
-
渡邊 大輔
東北大学原子分子材料科学高等研究機構
-
久保田 均
東北大学大学院工学研究科応用物理学
-
渡邊 大輔
東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
渡邉 大輔
東北大学原子分子材料科学高等研究機構
-
久保田 均
産業技術総合研
-
安藤 康夫
東北大学大学院工学研究科
-
宮崎 照宣
東北大学大学院 工学研究科
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