田村 英一 | 産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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概要
関連著者
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田村 英一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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田村 英一
産経研
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田村 英一
Jrcat-atp
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長浜 太郎
産総研
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湯浅 新治
産総研
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長濱 太郎
産総研
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鈴木 義茂
大阪大 大学院
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田村 英一
JRCAT融合研
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田村 英一
Jrcat
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鈴木 義茂
電総研
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湯浅 新治
産総研エレ
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湯浅 新治
産総研エレクトロニクス
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所
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長浜 太郎
産総研エレクトロニクス
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鈴木 義茂
産総研エレクトロニクス
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田村 英一
産総研エレクトロニクス
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湯浅 新治
産業技術総合研究所
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長浜 太郎
産業技術総合研究所
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鈴木 義茂
産総研
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福島 章雄
産総研
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川越 毅
大阪教育大
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川越 毅
Jrcat-atp
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川越 毅
Jrcat
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長浜 太郎
JRCAT-融合研
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Tulapurkar A
阪大院基礎工
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屋上 公二郎
ソニー(株)SSNCセミコンダクタテクノロジー開発本部
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屋上 公二郎
ソニー
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鈴木 義茂
阪大院基礎工
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湯浅 新治
電総研
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小池 和幸
北大理
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鈴木 義茂
JRCAT
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鈴木 義茂
Jrcat-融合研
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横山 侑子
産総研エレクトロニクス
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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安藤 功兒
産業技術総合研究所
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TULAPURKAR A.
産総研
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安藤 功兒
電総研
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新庄 輝也
京大 化研
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白石 誠司
大阪大学基礎工
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新庄 輝也
大阪大学基礎工
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屋上 公二郎
ソニー株式会社
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Shinjo Teruya
Chemical Research Institute Kyoto University
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小池 和幸
JRCAT
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鈴木 義茂
JACAT-融合研
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小池 和幸
JACAT-融合研
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田村 英一
産総研
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屋上 公二郎
SONY
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長浜 太郎
科技団
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Chappert C
パリ南大学
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Devolder T
パリ南大学
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Shigematsu Toshihiko
Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University
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鈴木 義茂
産経研
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Tulapurkar A
産経研
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福島 章雄
産経研
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TULAPURKAR A.
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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新庄 輝也
大阪大学基礎工学部
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仕幸 英治
大阪大学基礎工学研究科
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豊川 修平
大阪大学基礎工学部
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田村 英一
大阪大学基礎工学部
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安藤 裕一郎
大阪大学基礎工学部
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ラザロフ ヴラド
ヨーク大学物理学
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廣畑 貴文
ヨーク大学電子工学
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湯浅 新治
産総研エレクトロニクス:CREST-JST
-
長浜 太郎
産総研エレクトロニクス:CREST-JST
-
安藤 裕一郎
大阪大学基礎工学研究科
著作論文
- Fe(001)面のスピン偏極電子のステップでの散乱 : STMを用いた微分コンダクタンス像による観察
- 27aPS-25 Fe(001)薄膜のSTM/STS観察
- トンネルバリアがある場合のスピン注入磁化反転の理論
- 22pWA-11 層状反強磁性 Cr (001) 挿入層による TMR 効果の振動
- 30pWD-6 強磁性金属トンネル素子における量子サイズ効果と界面効果
- 30pWD-6 強磁性金属トンネル素子における量子サイズ効果と界面効果
- 磁気トンネル接合のTMR効果と共鳴トンネル効果(最近の研究から)
- 磁気トンネル接合のTMR効果と共鳴トンネル効果
- 単結晶電極をもつ強磁性トンネル接合のトンネル磁気抵抗効果
- トンネル磁気抵抗素子におけるスピン依存量子サイズ効果の理論
- Fe(100)強磁性トンネル接合の量子井戸効果 : 磁気抵抗効果・交換結合
- 18pWA-5 極薄Fe(100)電極を持つ強磁性トンネル接合の量子井戸効果
- Fe(100)強磁性トンネル接合の量子井戸効果
- 29pYB-5 単結晶電極を持つ磁性金属トンネル接合の微分抵抗とトンネル分光
- 29pYB-3 超薄バリア層のトンネル磁気抵抗効果
- 27pXJ-2 スピン注入磁化反転 : 低電流化と短パルス応答(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
- スピン注入磁化反転の理論と実験
- 19aRH-11 表面状態電子の表面ステップによる散乱STM微分コンダクタンス像による観察
- C_-Coグラニュラー薄膜中におけるCoナノ粒子の電気磁気効果による巨大な磁気抵抗効果(映像情報機器、一般)
- 8aWA-1 Cr(001)超薄膜を挿入した強磁性トンネル接合のTMR効果(トンネル磁気抵抗・メゾスコピック伝導,領域3)