屋上 公二郎 | ソニー(株)SSNCセミコンダクタテクノロジー開発本部
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概要
関連著者
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屋上 公二郎
ソニー(株)SSNCセミコンダクタテクノロジー開発本部
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屋上 公二郎
ソニー
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Tulapurkar A
阪大院基礎工
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鈴木 義茂
阪大院基礎工
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福島 章雄
産総研
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鈴木 義茂
独立行政法人・産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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屋上 公二郎
ソニー株式会社
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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TULAPURKAR A.
産総研
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田村 英一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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田村 英一
産経研
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田村 英一
Jrcat-atp
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鈴木 義茂
阪大基礎工
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鈴木 義茂
電総研
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鈴木 義茂
産総研
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鈴木 義茂
大阪大 大学院
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湯浅 新治
産総研
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鈴木 義茂
大阪大学大学院基礎工学研究科
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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鈴木 義茂
産業技術総合研究所
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長濱 太郎
産総研
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長浜 太郎
産総研
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鈴木 義茂
大阪大学基礎工
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田村 英一
産総研
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屋上 公二郎
SONY
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Chappert C
パリ南大学
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Devolder T
パリ南大学
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Tulapurkar Ashwin
独立行政法人・産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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TULAPURKAR Ashwin
AIST
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鈴木 義茂
産経研
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Tulapurkar A
産経研
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福島 章雄
産経研
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TULAPURKAR A.
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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鈴木 義茂
大阪大学:産総研:CREST-JST
著作論文
- トンネルバリアがある場合のスピン注入磁化反転の理論
- 解説 スピン注入磁化反転の現状と課題
- 飽和磁化低減によるスピン注入磁化反転の反転電流密度の低減
- スピントランスファーCPP-GMR素子における電流注入冷却効果
- スピン注入磁化反転における熱的影響を排除した臨界電流の評価
- 27pXJ-2 スピン注入磁化反転 : 低電流化と短パルス応答(領域3シンポジウム : スピン注入現象の新展開)(領域3)
- スピン注入磁化反転の理論と実験
- スピン注入磁化反転における反転電流密度の低減
- スピン注入磁化反転の研究動向
- スピン注人磁化反転の現状と課題