川畑 敬志 | 広島工業大学

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概要

• 川畑 敬志の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 広島工業大学の論文著者

関連著者

• 川畑 敬志

  広島工業大学

• 川畑 敬志

  広島工業大学工学部電子・光システム工学科

• 田中 武

  広島工業大学

• 田中 武

  広島工大

• 田中 武

  広島工業大学工学部

• 梶岡 秀

  広島県立西部工業技術センター

• 本多 茂男

  島根大学総合理工学部電子制御システム工学科

• 本多 茂男

  広島大

• 本多 茂男

  島根大理工

• 麻原 浩志

  広島工業大学工学部電子工学科

• 田中 武

  広島工大・工

• 川畑 敬志

  広島工大・工

• 峯岡 和博

  広島工業大学工学部電子工学科

• 河村 智彦

  広島工業大学工学部電子工学科

• 縄手 雅彦

  島根大学総合理工学部

• 縄手 雅彦

  島根大学総合理工学部電子制御システム工学科

• 縄手 雅彦

  島根大学

• 原田 猛

  広島工業大学工学部電子工学科

• 白井 義人

  広島工業大学

• 峯岡 和博

  広島工大・工

• 森井 浩

  広島工業大学工学部電子工学科

• 坂本 優

  島根大学

• 北山 正文

  広島工業大学

• 河合 克浩

  広島工業大学工学部電子・光システム工学科

• 島本 省吾

  広島工業大学工学部電子工学科

• 三上 康男

  広島工業大学工学部電子工学科

• 山田 敬治

  三容真空工業株式会社

• 大成 昭雄

  広島工業大学工学部電子工学科

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 本島 修

  核融合科学研究所

• 金子 英司

  東洋大学工学部

• 加藤 茂樹

  高エネルギー加速器研究機構

• 久保 和也

  北海道大学工学部

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 坂本 吉亮

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 和田 直己

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 奥田 昌宏

  大阪府立大学工学部電子物理工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 鈴木 一弘

  川崎製鉄(株)技術研究所

• 高橋 夏木

  日本真空技術(株)産業機器事業部

• 大久保 治

  日本真空技術(株)産業機器事業部

• 斎藤 和雄

  名古屋工業技術研究所

• 桑原 豪

  広島工業大学工学部電子・光システム工学科

• 後藤 貴則

  広島工業大学工学部電子・光システム工学科

• 佐々重 光祐

  広島工業大学工学部電子・光システム工学科

• 田中 一学

  広島工業大学工学部電子・光システム工学科

• 鈴木 芳生

  日立製作所中央研究所

• 清水 肇

  電子技術総合研究所

• 小林 康宏

  川崎製鉄(株)技術研究所

• 畑村 洋太郎

  東京大学工学部

• 笠原 章

  金属材料技術研究所

• 吉原 一紘

  金属材料技術研究所

• 村上 寛

  電子技術総合研究所

• 辻 博司

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 石川 順三

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 広畑 優子

  北海道大学大学院工学研究科

• 上田 新次郎

  株式会社日立製作所機械研究所

• 石川 雄一

  株式会社日立製作所機械研究所

• 木河 裕幸

  広島工業大学工学部

• 斎藤 一也

  日本真空技術株式会社

• 土佐 正弘

  金属材料技術研究所

• 関根 重幸

  電子技術総合研究所

• 佐藤 幸恵

  日本真空技術(株)筑波超材研

• 黒河内 智

  理化学研究所

• 渡部 秀

  理化学研究所

• 本間 禎一

  千葉工業大学工学部

• 赤石 憲也

  核融合科学研究所

• 木内 正人

  大阪工業技術研究所

• 森本 陽介

  広島工業大学工学部

• 小島 昭

  群馬工業高等専門学校

• 森重 史也

  広島工業大学工学部電子情報工学科

• 大谷 和輝

  トーヨーエイテック株式会社

• 川畑 敬志

  トーヨーエイテック株式会社

• 岡本 圭司

  広島工業大学工学部電子情報工学科

• 佐久間 泰

  ダイゴールド株式会社

• 加藤 隆男

  株式会社荏原総合研究所精密電子研究所

• 高木 祥示

  東邦大学理学部

• 渡辺 秀樹

  広島工業大学工学部

• 税田 博文

  広島工業大学工学部

• 柿原 和久

  高エネルギー加速器研究機構

• 関口 敦

  日電アネルバ

• 加藤 正明

  群馬工業高等専門学校

• 久保田 雄輔

  核融合科学研究所

• 斉藤 芳男

  高エネルギー物理学研究所

• 永井 康睦

  日立電線(株)システムマテリアル研究所

• 板倉 明子

  金属材料技術研究所

• 大谷 和男

  大阪工業技術研究所

• 道園 真一郎

  高エネルギー加速器研究機構

• 中川 行人

  日電アネルバ株式会社研究開発本部

• 後藤 哲二

  東邦大学理学部

• 大塚 康二

  サンケン電気

• 矢部 勝昌

  北海道工業技術研究所

• 田村 繁治

  大阪工業技術研究所

• 福田 茂樹

  高エネルギー加速器研究機構

• 穴見 昌三

  高エネルギー物理学研究所

• 林 和孝

  三菱電機通信機製作所

• 井上 成美

  防衛大学校

• 柏原 茂

  防衛大学校

• 尾崎 立哉

  防衛大学校

• 戸嶋 成忠

  防衛大学校

• 吉田 貞史

  電子技術総合研究所

• 浅野 清光

  高エネルギー加速器研究機構

• 工藤 勲

  電子技術総合研究所

• 柿原 和久

  高エネルギー物理学研究所

• 高橋 直樹

  日本真空技術(株)

• 辻 泰

  (株)アルバック・コーポレートセンター

• 秋道 斉

  (株)アルバック・コーポレートセンター

• 竹内 協子

  (株)アルバック・コーポレートセンター

• 荒井 孝夫

  (株)アルバック・コーポレトーセンター

• 田中 智成

  (株)アルバック・コーポレトーセンター

• 橋場 正男

  北海道大学工学部

• 山科 俊郎

  北海道大学工学部

• 池田 省三

  金属材料技術研究所

• 蟹江 壽

  東京理科大学

• 大西 学

  広島工業大学工学部電子工学科

• 広畑 優子

  北海道大学工学部

• 戸部 了己

  日電アネルバ株式会社

• 佐々木 雅夫

  日電アネルバ株式会社

• 岡田 修

  日電アネルバ株式会社

• 細川 直吉

  日電アネルバ株式会社

• 後藤 康仁

  京都大学大学院工学研究科

• 稲吉 さかえ

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 三沢 俊司

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 一村 信吾

  電子技術総合研究所

• 永関 一也

  山梨大学工学部

• 楠 秀樹

  山梨大学工学部

• 斉藤 幸典

  山梨大学工学部

• 菅ノ又 伸治

  山梨大学工学部

• 石川 稜威男

  山梨大学工学部

• 大手 丈夫

  群馬工業高等専門学校

• 森本 陽介

  工学院大学

• 伊佐 弘

  大阪工業大学

• 茶谷原 昭義

  大阪工業技術研究所

• 阪口 享

  大阪工業技術研究所

• 泉 順

  群馬工業高等専門学校電子情報工学科

• 根岸 恒雄

  群馬工業高等専門学校

• 藤井 隆満

  (株)セントラル硝子

• 上條 栄治

  龍谷大学理工学部

• 遠藤 和弘

  電子技術総合研究所

• 市川 洋

  松下中央研究所

• 瀬恒 謙太郎

  松下中央研究所

• 吉岡 捷爾

  高松工業高等専門学校電気工学科

• 中尾 節男

  名古屋工業技術研究所

• 宮川 草児

  名古屋工業技術研究所

• 上條 長生

  大阪工業技術研究所

• 松岡 長

  鳥取大工

• 圓山 敬史

  鳥取大工

• 原田 寛治

  鳥取大工

• 岸田 悟

  鳥取大工

• 徳高 平蔵

  鳥取大工

• 藤村 喜久郎

  鳥取大工

• 小柳 剛

  山口大工

• 塩川 善郎

  JRCAT(アトムテクノロジー研究体)-ATP

• 菊地 俊雄

  日電アネルバ株式会社

• 中村 茂昭

  高松工業高等専門学校

• 国分 清秀

  電子技術総合研究所

• 伊ヶ崎 泰宏

  静岡大学電子工学研究所

• 斎藤 順雄

  高松工業高等専門学校

• 仲秋 勇

  静岡県工業技術センター

• 後藤 智弘

  静岡大学電子工学研究所

• 山口 十六夫

  静岡大学電子工学研究所

• 森井 浩

  広島工大・工

• 吉野 幸夫

  (株)村田製作所

• 伊藤 進

  (株)東芝京浜事業所

• 池山 雅美

  名古屋工業技術試験所

• 清水 友晶

  島根大学

• 平田 正紘

  電子技術総合研究所

• 伊藤 進

  (株)東芝 電力システム社 京浜事業所

• 島田 茂樹

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学教室

• 丹羽 博昭

  名古屋工業技術研究所

• 原田 誠

  北海道大学工学部原子工学科

• 東 健司

  (株)村田製作所

• 佐藤 勝

  ダイゴールド株式会社

• 池田 佳直

  日本真空技術株式会社筑波超材料研究所

• 西浦 正満

  ダイゴールド株式会社

• 大石 政治

  ダイゴールド株式会社

• 種村 誠太

  名古屋工業技術研究所

• 中尾 政之

  東京大学工学部産業機械工学科

• 中尾 政之

  東京大学工学系大学院総合研究機構連携工学研究プロジェクト

• 石川 順三

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学教室

• 尾高 憲二

  株式会社日立製作所

• 黒河 明

  電子技術総合研究所

• 藤田 浩史

  広島工大・工

• 青柳 健二

  山梨大学工学部

• 佐々木 伸也

  山梨大学工学部

• 柏原 茂

  防衛大学校電気工学科

• 森 美由紀

  広島工業大学工学部電子工学科

• 原 尚徳

  広島工業大学工学部電子工学科

• 市場 隆治

  広島工業大学工学部電子工学科

• 中本 和博

  広島工業大学工学部電子工学科

• 相原 育貴

  北海道大学工学部

• 日野 友明

  北海道大学

• 中野 寛

  龍谷大学理工学研究科

• 江崎 和弘

  核融合科学研究所

• 原田 昌浩

  広島工業大学工学部電子・光システム工学科

• 畝 敏治

  広島工業大学

• 平田 哲之

  広島工業大学

• 吉岡 亮二

  広島工業大学

• 佐藤 豊

  広島工業大学工学部電子工学科

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著作論文

• 多重磁極型高周波マグネトロンスパッタ法によるCo薄膜の基板温度依存性
• N^2-H^2プラズマ処理によるSnO^2薄膜の水素プラズマ耐性改善
• RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法により作製したAl/ITO界面の評価
• RF-DC結合型プラズマCVD法によるa-Si:H薄膜の成長速度
• 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法により作製したCu薄膜に及ぼす陽極電圧と基板バイアス電圧の効果
• 誘導結合プラズマ支援型アンバランスマグネトロンスパッタ法によるCu薄膜の作製
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタリングにより作成したTa/ITO界面の評価
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法による Ta/Mo 薄膜の形成
• 棒状Si電極とPt点電極を組み合わせた姿勢センサの研究
• 棒状Si電極による弱電解液液位計測法の基礎的研究
• Fe-SiO_2グラニュラー膜のXPS分析
• 高周波 - 直流結合形マグネトロンスパッタリングによる薄膜物性制御
• C-6-14 RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるTiNi_x薄膜の作製
• 変形磁界型高周波マグネトロンスパッタ法によるNi薄膜の堆積速度
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるNiターゲットを用いた放電特性と直流バイアスによるNi薄膜の堆積速度制御効果
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるWN_x薄膜の作製とCu/WN_x/Si構造の拡散バリア効果
• アンバランスマグネトロンスパッタ法によるCoN_x薄膜の電気的特性および結晶構造
• RF-DC結合形低圧マグネトロンスパッタ法の開発 : 放電特性とNi薄膜の堆積速度のDC制御効果
• C-6-1 アンバランスマグネトロンスパッタ法によるCo薄膜の堆積速度
• C-6-10 RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法を用いたWNx薄膜のDC電圧による組成制御効果
• C-6-1 水素プラズマ曝露によるITO薄膜表面のXPS評価
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるSnNx薄膜の作製
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタリング法による Ta/ITO構造のX線光電子分光法による評価
• RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるTiN_x/Si系における下地効果
• Ar-N_2混合ガスを用いた高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法による窒化マグネシウム薄膜の作製
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるTiN_x/Si系の電気的特性
• 薄膜センサによる微流速・流向計測法の研究
• RF-DC 結合形マグネトロンスパッタ法による Mg ターゲットにおける Ar-N_2 ガスの放電特性
• Auスパッタリングを用いたX線光電子分光法における導電膜/絶縁基板の測定改善
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法を用いたAr-N_2ガスプラズマ中のTiターゲット表面組成
• SiO_2/Si界面及びSi表面のX線光電子分光法による評価
• RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるA〓Nx薄膜の組成制御
• ゾル・ゲル法により形成したSiO_xの薄膜のNF_3+O_2アニール効果
• RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるW薄膜の成長速度へのHe添加効果
• 水素プラズマ曝露によるSnO_2薄膜の還元
• 高周波アシスト直流マグネトロンスパッタ法による放電特性とTa薄膜の堆積速度
• RF-DC結合電源を用いたSnO2表面の水素プラズマ耐性改善
• RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるDC制御効果
• EMCテクノロジー スパッタリング法を用いた薄膜の電磁波シールド効果
• 多重磁極マグネトロンスパッタ法により作製したCo及びCu薄膜の電磁波シールド効果
• 多重磁極マグネトロンスパッタ法により作製したNi薄膜の電磁波シールド効果
• 多重磁極RFスパッタ法を用いて作製したFe-N系薄膜の表面構造
• 多重磁極マグネトロンスパッタリング法で作製したFe-N薄膜の磁化特性と膜構造
• 高周波多重磁極スパッタ法によるニッケル薄膜の作製
• 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法により作製したニッケル薄膜の基板バイアス電圧依存性
• 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法によるニッケル成膜時の基板電流特性
• サマリー・アブストラクト
• 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法におけるAr^+及びCu^+イオンのエネルギー分布
• 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法により紙上へ作製したCu薄膜の基板バイポーラ電圧依存性
• 高周波多重磁極スパッタ法によるニッケルターゲット上の磁場分布と薄膜の作製
• 多重磁極形高周波マグネトロンスパッタ法によるFe薄膜のスパッタガス圧力依存症
• RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるW薄膜の作製
• 弗素化した SnO_2 薄膜の表面構造
• 真空蒸着法による透明導電膜ヨウ化銅の作成
• 水蒸気を用いたSnO_2薄膜表面改質
• 弗素化したTextured SnO_2薄膜の水素プラズマ耐性
• 透明導電膜の弗素化メカニズム
• RF-DC結合マグネトロンスパッタ法によるMo薄膜の作製
• 広島工業大学におけるクリ-ンル-ムの維持および管理

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