RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法により作製したAl/ITO界面の評価
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概要
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TFT-LCDは、大型化、高精度化が進み10インチが、実用化されている。パネルの大型化に伴い、薄膜トランジスタ(TFT)の電極・配線材料である金属薄膜(Mo,Ta,Cr,Al等)の低抵抗化、及び透明導電膜(ITO)と金属電極への酸素の拡散が、重要な問題点となっている。本研究は、RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法を用いて、ITO薄膜上にAl薄膜を堆積させ、X線光電子分光法(XPS)を用いて、Al/ITO界面を評価した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
著者
-
田中 武
広島工業大学工学部
-
田中 武
広島工大
-
川畑 敬志
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
-
木河 裕幸
広島工業大学工学部
-
森本 陽介
広島工業大学工学部
-
田中 武
広島工業大学
-
川畑 敬志
広島工業大学
-
森本 陽介
工学院大学
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