プラズマベースイオン注入法を用いてシリコン中に注入した窒素の高分解RBSデプスプロファイル
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概要
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- 2005-03-03
著者
-
田中 武
広島工業大学工学部
-
田中 武
広島工大
-
田中 武
広島工業大学
-
高木 俊宜
広島工業大学
-
渡邉 悟志
広島工業大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
渡邉 悟志
創研工業株式会社
-
薮 康章
広島工業大学
-
谷島 源太
広島工業大学
-
池本 努
広島工業大学
-
NAKASHIMA Takeru
Hiroshima Institute of Technology
-
中島 建
Hiroshima Institute Of Technology
-
渡邉 悟志
創研工業
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