不活性ガスを用いたプラズマソースイオン注入(PSII)法による滅菌プロセス
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概要
著者
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田中 武
広島工業大学工学部
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田中 武
広島工大
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吉田 光宏
三菱重工業(株)広島研究所
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高木 俊宜
広島工業大学
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渡邉 悟志
広島工業大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
比羅岡 鉄兵
広島工業大学工学部電子工学科
-
本田 諭
広島工業大学工学部電子工学科
-
高木 俊宜
広島工業大学工学部電子工学科
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