渡邉 悟志 | 広島工業大学大学院工学研究科電子工学専攻
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概要
関連著者
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高木 俊宜
広島工業大学
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渡邉 悟志
広島工業大学大学院工学研究科電子工学専攻
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田中 武
広島工業大学工学部
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田中 武
広島工業大学
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田中 武
広島工大
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比羅岡 鉄兵
広島工業大学工学部電子工学科
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吉田 光宏
三菱重工業(株)広島研究所
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吉田 光宏
三菱重工業
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本田 諭
広島工業大学工学部電子工学科
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渡邉 悟志
創研工業株式会社
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本田 諭
広島工業大学
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中島 建
Hiroshima Institute Of Technology
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比羅岡 鉄兵
広島工業大学
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大倉 健作
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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行村 建
同志社大学
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芝原 健太郎
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所:広島大学大学院先端物質科学研究科
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近藤 洋平
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
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芝原 健太郎
広島大学大学院先端物質科学研究科
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中島 建
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
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横山 新
広島大学大学院先端物質科学研究科半導体集積科学専攻
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薮 康章
広島工業大学
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谷島 源太
広島工業大学
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池本 努
広島工業大学
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NAKASHIMA Takeru
Hiroshima Institute of Technology
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末弘 正臣
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
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山下 智和
広島工業大学
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篠原 優
広島工業大学
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横山 新
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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高木 俊宜
広島工業大学工学部電子工学科
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行村 建
同志社大学工学部
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大倉 健作
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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渡邉 悟志
創研工業
著作論文
- 不活性ガスを用いたプラズマソースイオン注入(PSII)法による滅菌プロセス
- プラズマベースイオン注入滅菌法における窒素イオンエネルギーの推定
- プラズマベースイオン注入法を用いてシリコン中に注入した窒素の高分解RBSデプスプロファイル
- プラズマイオン注入法を用いてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に成膜したカーボン薄膜の特性
- RFバースト炭素系アフターグロー中のプラズマ密度
- PSII法を用いてPETフィルム上に形成したカーボン薄膜のXPS研究
- 不活性ガスを用いたプラズマソースイオン注入(PSII)法による滅菌プロセス