7セグメントドライバCMOSLSIの設計・製作・評価一貫教育システムの構築
スポンサーリンク
概要
著者
-
田中 武
広島工業大学工学部
-
片岡 弘行
ひびきのシステムラボ
-
高松 侑哉
広島工業大学
-
寺下 秀樹
広島工業大学
-
中村 篤史
広島工業大学
-
片岡 弘行
セイコーインスツルメンツ
-
田中 武
広島工業大学
-
片岡 弘行
広島工業大学
関連論文
- 物理教育に関するシンポジウム第19回開催報告
- EXCELを用いた、高校における集積回路のレイアウト設計教育 (教育フロンティア研究会 教育一般)
- 2輪倒立モデルの解析と電子制御教育への応用
- 2輪倒立の物理モデルから電子制御実演までの教育システム構築
- LSI設計教育におけるプロセス工程とレイアウト設計の相関について
- 集積回路の一貫設計試作評価システムに関する基礎研究
- 同軸2輪車型倒立振子の MATLAB/simulink モデルの教育への応用
- 8-218 MATLAB/simulinkを用いた倒立モデルの電子制御((7)教材の開発-I,口頭発表論文)
- MATLAB/simulinkを用いた初歩的な電子制御技術教育
- 集積回路を用いたシステムの一貫教育システムの構築
- 7-327 HIT(広島工業大学)教育機構の取組み : LSI応用機器教育システムの開発(口頭発表論文,(7)教材の開発-III)
- CMOSLSI設計・製造一貫教育
- LSI設計教育への広島工業大学での取り組み : 電子デバイス分野の集積回路設計関連教育を中心として
- CMOSLSIの設計・製作・評価一貫教育システムのeラーニングシステムの構築
- 7セグメントドライバCMOSLSIの設計・製作・評価一貫教育システムの構築
- 社会人および学生のための教育における産官学連携 : 1日ARM体験講座の企画および実施
- 社会人および学生のための教育における産官学連携 : 白色LED発光制御ボード作成体験講座の企画および実施
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法により作製したAl/ITO界面の評価
- RF-DC結合型プラズマCVD法によるa-Si:H薄膜の成長速度
- 初歩的な論理回路設計, 集積回路設計等で構成される実習教育のアンケート調査
- ものづくりのための企業内教育(半導体関連) : 教材作成
- チップ試作を取り入れたLSI設計教育への取り組み
- 小規模集積回路(SSI)を用いた設計・プロセス・評価の一貫教育システムの構築
- 初歩的な集積回路のレイアウト設計及び検証環境の構築
- オゾン水供給装置の作成
- プラズマイオン注入法を用いた滅菌と医学的一考察
- カーエレクトロニクスを題材とした電子情報技術の体験教育教材作成
- 二輪倒立モデルの電子制御とV字サイクル開発手法との関係
- 学部生へのICレイアウト設計・試作実験の一考察
- プラズマイオン注入法を用いた滅菌における滅菌ガス(ArとN_2)の効果
- プラズマベースイオン注入法を用いた液体材料(H_2O)からのプラズマの作成
- 白色LEDを用いた内照式標識・看板等の作成
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタリングにより作成したTa/ITO界面の評価
- EXCELを用いた, 高校における集積回路のレイアウト設計教育
- CMOSレイアウト設計・検証を行う実習教育のアンケート調査
- ものづくりのための企業内教育(半導体関連) : 教育実施およびアンケート調査
- マイナスイオン発生における針状電極形状および配列の効果
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法による Ta/Mo 薄膜の形成
- 棒状Si電極とPt点電極を組み合わせた姿勢センサの研究
- 不活性ガスを用いたプラズマソースイオン注入(PSII)法による滅菌プロセス
- 多重磁極形高周波マグネトロンスパッタ法によるFe薄膜のスパッタガス圧力依存症
- 棒状Si電極による弱電解液液位計測法の基礎的研究
- Fe-SiO_2グラニュラー膜のXPS分析
- 高周波 - 直流結合形マグネトロンスパッタリングによる薄膜物性制御
- C-6-14 RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるTiNi_x薄膜の作製
- 変形磁界型高周波マグネトロンスパッタ法によるNi薄膜の堆積速度
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるNiターゲットを用いた放電特性と直流バイアスによるNi薄膜の堆積速度制御効果
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるWN_x薄膜の作製とCu/WN_x/Si構造の拡散バリア効果
- 遺伝的アルゴリズムを用いたNAND論理回路の簡単化
- アンバランスマグネトロンスパッタ法によるCoN_x薄膜の電気的特性および結晶構造
- RF-DC結合形低圧マグネトロンスパッタ法の開発 : 放電特性とNi薄膜の堆積速度のDC制御効果
- C-6-1 アンバランスマグネトロンスパッタ法によるCo薄膜の堆積速度
- C-6-10 RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法を用いたWNx薄膜のDC電圧による組成制御効果
- C-6-1 水素プラズマ曝露によるITO薄膜表面のXPS評価
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるSnNx薄膜の作製
- Ar-N_2混合ガスを用いた高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法による窒化マグネシウム薄膜の作製
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるTiN_x/Si系の電気的特性
- Auスパッタリングを用いたX線光電子分光法における導電膜/絶縁基板の測定改善
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法を用いたAr-N_2ガスプラズマ中のTiターゲット表面組成
- SiO_2/Si界面及びSi表面のX線光電子分光法による評価
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるA〓Nx薄膜の組成制御
- 光導電素子を用いた液晶空間光変調素子の設計
- ゾル・ゲル法により形成したSiO_xの薄膜のNF_3+O_2アニール効果
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるW薄膜の成長速度へのHe添加効果
- 水素プラズマ曝露によるSnO_2薄膜の還元
- 高周波アシスト直流マグネトロンスパッタ法による放電特性とTa薄膜の堆積速度
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるDC制御効果
- プラズマベースイオン注入滅菌法における窒素イオンエネルギーの推定
- プラズマベースイオン注入法を用いた窒素イオン注入表面の高分解能ラザフォード後方散乱分光法による評価
- プラズマベースイオン注入法を用いてシリコン中に注入した窒素の高分解RBSデプスプロファイル
- プラズマイオン注入法を用いてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に成膜したカーボン薄膜の特性
- RFバースト炭素系アフターグロー中のプラズマ密度
- PSII法を用いてPETフィルム上に形成したカーボン薄膜のXPS研究
- 8-221 産官学連携した大規模集積回路・プロセス工学教育システムの構築((19)産学連携教育-III)
- 物理教育に関するシンポジウム第17回および研究発表会開催報告
- カードリーダを用いた大学講義出席システムの開発
- 基本的な集積回路設計および半導体プロセス工学教育システムの構築
- LSI設計教育のためのC++テンプレートライブラリの開発
- DCマグネトロンスパッタリングにおける放電特性のターゲット材料仕事関係依存性
- サマリー・アブストラクト
- CMOSアクティブインダクタを適応した電圧制御発振器の検討
- 超音波を用いたNゲージ電車速度の計測
- ものづくりのための企業内教育 (新入社員研修) : 2010年度新入社員実力確認テスト結果
- CMOSアクティブインダクタ発振回路の周波数切り換え工程の線形化
- 不活性ガスを用いたプラズマソースイオン注入(PSII)法による滅菌プロセス
- CMOSアクティブインダクタ発振器の特性評価
- IC設計の基礎技術に関する研究
- チップ試作とIPデータベースを導入したLSI設計教育
- プラズマベースイオン注入滅菌法のための初歩的なプラズマシミュレーション
- 多重磁極形高周波マグネトロンスパッタ法によるFe薄膜のスパッタガス圧力依存症
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるW薄膜の作製
- 弗素化した SnO_2 薄膜の表面構造
- 真空蒸着法による透明導電膜ヨウ化銅の作成
- 水蒸気を用いたSnO_2薄膜表面改質
- 弗素化したTextured SnO_2薄膜の水素プラズマ耐性
- 透明導電膜の弗素化メカニズム
- ものづくりのための企業内教育(新入社員研修) : 研修実施
- 中山間地における理科クラブ開設
- EXCELを用いた, 高校における集積回路のレイアウト設計教育
- 中山間地における、理科クラブおよび公営塾の開設