高周波多重磁極スパッタ法によるニッケルターゲット上の磁場分布と薄膜の作製
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概要
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A radio-frequency (RF) sputtering system with multipolar magnets around a magnetic Ni (200-mm diameter, 8-mm thick) target has been developed. In this study, an S-pole magnet was added at the back side of the target to enhance the surface magnetic flux density at the central region of the target. By the introduction of the S-pole magnet, it is shown that the surface magnetic flux density 2 mm above the target increases up to 3.5 times in this region. It is also revealed that the new system can sustain the discharge at a lower Ar gas pressure down to 2.6×10-1 Pa.
- 日本真空協会の論文
著者
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川畑 敬志
広島工業大学
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村岡 裕紀
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
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岡山 勇太
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
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小埜 芳和
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
-
小林 佑司
広島工業大学工学部電子・光システム工学科
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