3G317 過渡電流法によるツイストネマティック液晶の回転粘性率測定
スポンサーリンク
概要
著者
-
奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
-
杉村 明彦
大阪産大工
-
内藤 裕義
大阪府立大学工学部電子物理工学科
-
今井 雅博
大阪府大工
-
内藤 裕義
大阪府大工
-
奥田 昌宏
大阪府大工
-
奥田 昌宏
大阪府大 工
関連論文
- 高周波スパッタリング法にて作製したZnO : Al薄膜の結晶成長-スパッタ圧力依存性-
- パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
- ArFエキシマレーザーによりレーザーアニーリングを施したβ-FeSi_2薄膜
- スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3-In_2O_3系透明導電膜
- 結晶Si_3N_4のArFエキシマレーザー照射効果
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用 : 画像変換技術関連 : 情報入力 : 情報ディスプレイ
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用
- ポリシラン-シリカナノ粒子ハイブリッド薄膜の作製と光学特性
- PA07 Auグレーティング上におけるネマティック液晶のアンカリング特性(2004年日本液晶学会討論会)
- ジルコニア中に分散させたポリジヘキシルポリシランにおけるサーモクロミズムの抑制(センサデバイス・MEMS・一般)
- 垂直配向ネマチック液晶セルの過渡応答 : フロー効果と過渡電流
- PF04 水平配向および垂直配向ネマティック液晶中のダイレクタ再配向におけるフロー効果(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 1B02 負の誘電率異方性を持つネマティック液晶の過渡電流(2004年日本液晶学会討論会)
- PLD法によりPVC基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の成膜条件の最適化
- パルスレーザー堆積法により作製したWO_3光記録膜(2)
- レーザー波長を変化させたパルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)膜のレーザーアニールによる特性改善
- Nd:YAG レーザを用いたPLD法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と評価
- ArFエキシマレーザーによるβ-FeSi_2薄膜の作製とアニール効果
- Nd:YAGレーザーを用いたパルスレーザー堆積法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と特性改善
- レーザーアブレーション法により作製した透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製した酸化亜鉛系透明導電膜のドーパント依存性
- Low Resistivity Transparent Conducting Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- PLD法により作製したZnO/In_2O_3積層構造光記録膜
- 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜
- 加熱したメッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製した酸化亜鉛透明導電膜
- ブルーレーザー対応型光ディスクにおける特性の改善
- 高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜
- 高出力パルスレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した鉄シリサイド(β-FeSi_2)薄膜
- 高周波スパッタリング法により作製した金属・酸化物積層型光記録膜
- 酸化物スプリットターゲットを用いたパルスレーザー堆積法で作製した積層型光記録膜
- 6)電界重複印加NMR法による液晶グイレクタ分布測定(情報ディスプレイ研究会)
- ジルコニア中に分散させたポリジヘキシルポリシランにおけるサーモクロミズムの抑制(センサデバイス・MEMS・一般)
- 無金属フタロシアニンの過渡正孔輸送 : パーコレーション過程の重要性
- ネマティック液晶の低周波領域における誘電特性
- 3G317 過渡電流法によるツイストネマティック液晶の回転粘性率測定
- 有機-無機複合系の新しい機能
- STSによる有機膜の負性抵抗特性
- アモルファス半導体の過渡光電流における分散パラメ-タの温度依存性について
- 3F105 ネマティック液晶の過渡放電電流
- 変調光電流法による非晶質半導体の局在準位評価--カルコゲナイド薄膜への適用
- 1L315 液晶光-光変調効果における吸着電荷の影響
- 1L310 液晶過渡電流における不純物イオンの影響
- Time-of-Flight法およびTransient Photodecay法により導出された非晶質As2Se3の局在準位について--表面準位の影響
- 3B19 ネマチック液晶における極性反転電流の配向依存性
- 3B18 ネマチック液晶の印加電圧極性反転による光透過特性
- 非晶質セレンのキャリア輸送について
- 非晶質As2Se3のキャリヤ輸送特性における光照射効果
- PA04 紫外光誘起グレーティングを用いた液晶の配向制御(物理・物性)
- ArFエキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製したITO透明導電膜の電気特性の成膜速度依存性
- Charge Carrier Transport in Red Electrophosphorescent Emitting Layer
- Charge Carrier Transport in Neat Thin Films of Phosphorescent Iridium Complexes
- Transient and Steady-State Photocurrent in an Emissive Layer of Green Electrophosphorescent Devices(Characterization and Abilities of Organic Electronic Devices)(Recent Progress in Organic Molecular Electronics)
- 8^ International Conference on Nano-Molecular Electronics (ICNME 2008) 会議報告
- 有機エレクトロニクス素子のインピーダンス分光
- インピーダンス分光による有機EL素子の動作解析
- 塗布形成したゲート絶縁膜の誘電特性(センサーデバイス・MEMS・一般)
- 塗布形成したゲート絶縁膜の誘電特性(センサーデバイス・MEMS・一般)
- facial体、meridional体含有Ir(ppy)_3薄膜の光物性(有機材料・一般)
- 3C05 色素添加高分子分散液晶の発光の gain narrowing(2004年日本液晶学会討論会)
- イリジウム錯体薄膜の光物性(有機材料・一般)
- 青色発光有機高分子, ポリフルオレンの光・電子物性
- パルスレーザー堆積法により作製したZoO系光記録膜(II)
- 2S06 ネマテック表面配向のモンテ・カルロ計算
- 2A19 ネマテック層の配向条件の検討
- オゾンとニオイ脱臭 (特集 電気技術者が知っておきたい 環境テクノロジー,クリーンエネルギー)
- 非対称2重障壁構造における共鳴トンネル効果の解析
- STMにおける共鳴トンネル効果とその負性抵抗特性
- 金属+酸化物混合薄膜を用いた青色レーザー対応型高密度光ディスク
- 電界を印加したPLD法で作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- レーザーアブレーション法によって作製したZnO:A1薄膜の電気的光学的特性
- 基板回転型高周波マグネトロンスパッタ法にて作成したZnO:Al透明導電膜の特性
- RFマグネトロンスパッタ法にて作成したZnO:Al薄膜の結晶化過程
- 高周波スパッタリング法による相変化形Ge-Sb-Te+Ag系光記録膜
- 相変化光ディスクの高密度化
- ポリマー界面における一般化表面アンカリングエネルギの液晶分子構造依存性
- パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜
- スプリットターゲットを用いたレーザアブレーション法によるZnO系透明導電膜の作製
- 3D05 二周波光変調方式における液晶抵抗率の電界依存性
- 1D101 ポリイミド配向膜を有する液晶セルの過渡応答
- 3F106 液晶過渡電流における二種電荷の影響
- 酸化亜鉛系ホモp-i-n接合の作製と光起電力特性
- パルスレーザー堆積法を用いて作製した積層型透明導電膜
- スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに垂直な磁場を印加して作製したZnO:Ga透明導電膜
- パルスレーザー堆積法を用いて磁場下で作製した透明導電膜
- 高周波スパッタリング法を用いて作製した金属インジウム・酸化ガリウム光記録膜
- 多元同時スパッタリング法により作製したZnO系光記録膜
- 高周波スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜(II)
- 高周波スパッタ法により作製したGaIn系酸化物光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3+In_2O_3光記録膜
- スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
- 3PA06 カイラル剤混合ネマティック液晶における光刺激相転移現象
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果