大野 真也 | 横浜国立大学工学部知能物理工学科

スポンサーリンク

概要

• 大野 真也の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 横浜国立大学工学部知能物理工学科の論文著者

関連著者

• 大野 真也

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 田中 正俊

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 田中 正俊

  横国大工

• 鈴木 隆則

  防衛大

• 首藤 健一

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 首藤 健一

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 首藤 健一

  横浜国立大学工学部

• 西岡 広明

  横国大工

• 寅丸 雅光

  横浜国立大学工学府

• 田中 正俊

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 北嶋 武

  防衛大

• 北嶋 武

  防衛大学校応用物理学科

• 大野 真也

  横浜国大工

• 田中 正俊

  横浜国大工

• 飯田 貴則

  横浜国立大学工学府

• 藤原 賢一

  防衛大

• 佐藤 和成

  横浜国立大学工学府

• 百瀬 辰哉

  横国大工

• 小泉 順也

  横浜国大工

• 百瀬 辰哉

  横浜国立大学工学府物理情報工学専攻

• 松田 巌

  東大物性研

• 原沢 あゆみ

  東大物性研

• 奥田 太一

  東大物性研

• 柿崎 明人

  東大物性研

• 横山 崇

  横浜市大国際総合科学

• 井上 大輔

  東大宇宙線研

• 原沢 あゆみ

  東京大学物性研究所

• 落合 俊之

  横国大工

• 鈴木 隆則

  防衛大応物

• 新江 定憲

  横国大工

• 豊島 弘明

  横国大工

• 青木 健志

  横浜国立大学工学府

• 山崎 紀明

  横国大工

• 中山 史人

  横国大工

• 首藤 健一

  横浜国大工

• 三戸部 史岳

  横浜国大工

• 奥田 太一

  広島大学放射光科学研究センター

• 横山 崇

  横浜市立大学生命ナノ

• 横山 崇

  横浜市大国際総合

• 豊島 弘明

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 新江 定憲

  横国大院工

• 市川 雄一

  理研

• 河村 紀一

  NHK放送技研

• 井上 大輔

  横国大工

• 小林 直人

  横浜国立大工

• 宮本 泰敬

  NHK技研

• 滝澤 純一

  横浜国大工

• 小間 大弘

  横国大工

• 鈴木 隆則

  防衛大学校

• 宮本 泰敬

  東工大

• 宮本 泰敬

  NHK

• 奥田 太一

  広大放射光セ

• 落合 俊之

  横浜国大工

• 河村 紀一

  NHK技研

• 小間 大弘

  横浜国立大学

• 森本 真弘

  横国大工

• 井上 慧

  横国大工

• 浅利 友隆

  横国大工

• 森本 真弘

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 松田 巌

  東大物性研究所

• 市川 雄一

  横国大工

• 佐藤 和成

  横国大工

• 山崎 貴彦

  横浜国大工

• 西岡 広明

  横浜国立大学工学府

• 為谷 亮太

  横浜国大工

• 小泉 順也

  横浜国立大学

• 滝澤 純一

  横浜国立大学

• 浅利 友隆

  横浜国大工

• 大和 洋太

  横浜国立大学

• 西山 文貴

  横浜市大国際総合

• 脇田 創

  横国大工

• 大和 洋太

  横浜国立大学工学府物理情報工学専攻

• 岡本 春樹

  横国大工

• 奥田 太一

  広大放射光セ・先端計測

• 吉信 淳

  東大物性研

• 垣内 拓大

  愛媛大学理学部化学科

• 小柏 洋輔

  群馬大学大学院教育学研究科

• 奥沢 誠

  群馬大学教育学部

• 間瀬 一彦

  高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所

• 向井 孝三

  東大物性研

• 柿崎 明人

  東京大学物性研究所

• 田中 正俊

  横国大院工

• 吉越 章隆

  日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター

• 松田 巌

  東大理

• 安田 哲二

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 寺岡 有殿

  原研

• 青木 健志

  横国大工

• 山崎 紀明

  横国大院工

• 中山 史人

  横国大院工

• 大野 真也

  横国大院工

• 寅丸 雅光

  横国大院工

• 市川 雄一

  横国大院工

• 山崎 貴彦

  横国大院工

• 飯田 貴則

  横国大院工

• 佐藤 和成

  横国大院工

• 青木 健志

  横国大院工

• 西岡 広明

  横国大院工

• 首藤 健一

  横国大院工

• 寅丸 雅光

  横浜国大工

• 飯田 貴則

  横浜国大工

• 佐藤 和成

  横浜国大工

• 青木 健志

  横浜国大工

• 山崎 紀明

  横浜国大工

• 中山 史人

  横浜国大工

• 市川 雄一

  横浜国大工

• 吉越 章隆

  (独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 宮本 泰敬

  NHK放送技術研究所

• 寅丸 雅光

  横国大工

• 飯田 貴則

  横国大工

• 九鬼 隆良

  横国大工

• 三戸部 史岳

  横浜国立大学

• 藤原 賢一

  防衛大応物

• 北嶋 武

  防衛大応物

• 北嶋 武

  防衛大学校

• 吉越 章隆

  原研 放射光科学研セ

• 安田 哲二

  産業技術総合研究所

• 鈴木 隆則

  防衛大大物

• 脇田 創

  横浜国大工

• 田中 正俊

  横国大院・工・物理情報

• 向井 孝三

  東京大学物性研究所

• 井上 大輔

  横浜国立大学工学府物理情報工学専攻

• 垣内 拓大

  愛媛大院・理工

• 新江 定憲

  横国大院・工

• 小柏 洋輔

  群馬大・教

• 大野 真也

  横国大院・工

• 間瀬 一彦

  高エ機構・物構研

• 奥沢 誠

  群馬大・教

• 藤原 賢一

  防衛大学校応用物理学科

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構

• 井上 慧

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 新江 定憲

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 尾形 祥一

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 安部 壮祐

  横国大工

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究所放射光科学研究センター

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門

• 間瀬 一彦

  高エネルギー加速器研究機構

• 吉越 章隆

  日本原子力研究所

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究所

• 小柏 洋輔

  群馬大教育

もっと見る 閉じる

著作論文

• 22pGQ-3 Si(001)面上の吸着構造と反射分光スペクトルパターンとの相関の考察(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21pPSA-20 Si(001)表面への水吸着過程のリアルタイム反射分光(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21pPSA-18 Si(111)-7×7表面上へのLi,Na吸着過程(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 26pPSB-27 Si(001)表面上のアルカリ金属吸着脱離過程のリアルタイム解析(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 26pPSB-23 Si(111)表面上へのアルカリ金属原子(K, Cs)吸着で生成するクラスターのSTM観察(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 29pPSB-48 アルカリ金属原子(K,Cs)吸着で誘起されるSi(111)構造変化の走査トンネル顕微鏡による観察II(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 28pYG-4 Si(111)-(√×√)-Ag表面上に配列したオリゴチオフェン分子の低温STM観察(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSB-16 アルカリ金属原子(K,Cs)吸着で誘起されるSi(111)構造変化の走査トンネル顕微鏡による観察(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 26aYG-2 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態II(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSA-6 Si(001)表面におけるTiシリサイド形成過程へのサーファクタント効果の検討(22pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22aXA-5 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態(22aXA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 表面差分反射分光と反射率差分光を用いたSi(001)表面初期酸化過程のリアルタイム解析
• 酸素存在下におけるSi(001)-2×1上でのチタンシリサイド形成の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
• 29pPSB-56 Si(001)表面におけるO_2,NO,CO反応過程の反射分光による検討(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 29pPSB-52 Ruシリサイドのナノ構造作製と電子状態の測定(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 27aTE-7 Si(001)表面におけるNO吸着構造の反射分光による解析(27aTE 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23aXB-3 Si表面上におけるRuの拡散と表面構造の観察(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22pPSB-3 Si(001)表面上の銀薄膜成長過程のリアルタイム反射分光(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 酸素吸着Ti/Si(001)の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
• Si(111)面におけるRuシリサイドの形成と成長過程
• 25pTD-4 表面光反射分光によるSi(001)表面反応の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 26aTD-2 Ti/Si(001)表面におけるシリサイド形成過程と局所電子状態の考察(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSA-77 Si(001)表面における電子線励起欠陥形成過程の実時間反射分光(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSA-78 Ruシリサイドの形成と局所電子状態の測定(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 24aXB-5 Ti/Si(001)表面における局所電子状態の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 25pPSB-9 水素終端Si(001)表面における表面光反射スペクトルの考察(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 25pPSB-46 Si表面上のチタンの拡散とSi吸収によるシリサイドの形成(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• Si(111)表面上のBr吸着における多臭化物の形成過程
• 24aPS-62 Si(111)-7x7表面上に低温で形成されるカリウムナノクラスターのSTM観察(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• Si(001)初期酸化過程における表面差分反射スペクトルの波長依存性
• 22pPSA-15 オリゴチオフェン超薄膜の表面差分反射分光による評価(22pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 24aPS-64 オリゴチオフェン超薄膜成長過程とSi表面終端構造との相関(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 26pPSB-28 オリゴチオフェン超薄膜成長過程の表面差分反射分光による解析(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 24aPS-63 水吸着Si(100)表面における酸化促進反応の解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23aWX-8 チタン薄膜直下におけるSi(001)酸化促進反応の解析(23aWX 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 26pPSB-29 Si(001)表面の反射率差分光スペクトル構造の温度依存性(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 高温 Si(001)表面上のアルカリ金属原子吸着・脱離過程のリアルタイム光学測定
• 高温Si(001)表面上のアルカリ金属原子吸着・脱離過程のリアルタイム光学測定
• Si(111)表面上のアルカリ金属原子(K, Cs)吸着構造 : 半層程度吸着時に観測されるクラスター形成
• 27pPSA-27 シリコン表面上のカリウムナノクラスターのSTM観察(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 27pPSA-29 高分解能コインシデンス分光によるSi清浄表面の表面サイトを選択した局所価電子状態の研究(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pPSB-16 STMで観察されるSi(111)-7x7に吸着したK原子の表面拡散(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21pHA-3 Si(001)表面上でのCO吸着脱離のダイナミクス(21pHA 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pPSB-17 表面修飾Si(001)表面上のオリゴチオフェン分子の構造と電子状態(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pPSA-17 Si(113)表面上におけるH原子吸着脱離過程のリアルタイム計測(23pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク