向井 孝三 | 東京大学物性研究所
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概要
関連著者
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向井 孝三
東大物性研
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向井 孝三
東京大学物性研究所
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吉信 淳
東大物性研
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吉本 真也
東大物性研
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小板谷 貴典
東大物性研
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吉信 淳
東京大学物性研究所
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亀島 一輝
東大物性研
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大野 真也
横国大工
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田中 正俊
横国大工
-
豊島 弘明
横国大工
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清水 皇
東大物性研
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塩澤 佑一朗
東大物性研
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原田 洋介
東大物性研
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片山 哲夫
東大物性研
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赤木 和人
東北大WPI
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赤木 和人
東大院理
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赤木 和人
東北大
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清水 皇
東京大学物性研究所
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吉本 真也
東京大学物性研究所
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山下 良之
東京大学物性研究所
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平賀 健太
横国大工
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古橋 匡幸
東大物性研
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山下 良之
物材機構
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横山 崇
横浜市大国際総合科学
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下山 巖
原子力機構
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関口 哲弘
原子力機構
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坂口 裕二
東大物性研
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筒井 琢仁
東大物性研
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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常行 真司
東京大学物性研究所
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横山 崇
横浜市立大学生命ナノ
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井上 慧
横国大工
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赤木 和人
東京大学物性研究所
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長尾 昌志
東大物性研
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横山 崇
横浜市大国際総合
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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梅山 裕史
東京大学物性研究所
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長尾 昌志
分子科学研究所
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村瀬 加内江
東大物性研
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梅山 裕史
東大物性研
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豊島 弘明
横浜国立大学大学院工学研究院
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水澤 岳
東大物性研
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馬場 祐治
原子力研
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平尾 法恵
原子力研
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関口 哲弘
原子力研
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下山 巌
原子力研
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則武 宏幸
東京大学物性研究所
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小板谷 貴典
東京大学物性研究所
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下山 巌
原子力機構量子ビーム
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藤巻 和貴
東大物性研
著作論文
- 21aGL-9 2-メチルプロペン終端Si(100)基板とF4-TCNQの相互作用(21aGL 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aGL-10 F4-TCNQ/Cu(100)の振動と電子状態(21aGL 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25aYH-3 Rh(111)表面におけるシクロヘキサンの吸着状態とCH伸縮振動ソフトモード(ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 23pWX-5 水素修飾Rh(111)表面における吸着シクロヘキサンの超構造形成(23pWX 表面界面電子物性(有機分子),領域9(表面・界面,結晶成長))
- Si(100)表面へのエチレンの環化付加反応における前駆状態の直接観測
- 26pTH-4 エチレン終端Si(100)基板に吸着したF_4-TCNQの電子状態と配向 : 高分解能XPSとNEXAFSによる研究(26pTH 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- OME2000-54 原子レベルで制御されたハイブリッド構造の創成と物性探索
- 28pTN-10 独立駆動型4探針装置によるペンタセン薄膜のトランジスタ特性測定(28pTN 分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- 28pTN-9 化学修飾したSi(100)表面におけるペンタセンの薄膜成長とエネルギーレベルアラインメント(28pTN 分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- 22aHA-3 Pt(997)表面上におけるTTFの吸着状態に関するHREELSおよびHRXPSによる研究(22aHA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aHA-6 Rh(111)表面におけるシクロヘキサンの吸着構造に関する同位体効果(21aHA 表面界面構造(有機化合物),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pTG-11 エチレン終端Si(100)表面に成長させたペンタセン薄膜のF4-TCNQによるエネルギーアラインメント制御(22pTG 界面デバイス・有機表面界面,領域7(分子性固体・有機導体))
- 23pPSB-17 表面修飾Si(001)表面上のオリゴチオフェン分子の構造と電子状態(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 24aCK-8 Cu(100)表面に吸着したカリウム原子の分布と電子状態 : 低温STMによる研究(24aCK 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pPSB-22 表面修飾Si(001)表面上のα-sexithiophene分子の構造と電子状態(26pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 19aFE-1 表面修飾Si(001)表面上のα-sexithiophene超薄膜の構造(19aFE 表面界面構造・水素ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20aHA-10 エチレン終端Si(100)表面とペンタセン薄膜に挟まれたF_4-TCNQの電子状態(20aHA 界面デバイス2,領域7(分子性固体・有機導体))
- 20aHA-9 化学修飾によって制御されたSi(100)基板とF_4-TCNQの相互作用・電子状態(20aHA 界面デバイス2,領域7(分子性固体・有機導体))
- 18pFN-4 Cu(997)に吸着したCO_2におけるFano形状振動ピークの観測(18pFN 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28pXK-7 CO/Pt(997)系におけるステップ近傍の電荷移動挙動 : 高分解能X線光電子分光による研究(28pXK 表面界面電子物性・金属,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pXZA-7 F_4-TCNQ分子を用いたホールドーピングによる自然酸化Si(111)表面の電気伝導度変化(27pXZA 表面界面電子物性・有機分子,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pXZA-2 Rh(111)におけるシクロヘキサンのエネルギー準位アラインメント:界面双極子と終状態効果(27pXZA 表面界面電子物性・有機分子,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28pJA-9 Si(111)表面にアンカーさせたフェニル化合物の構造と電気伝導(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28aJB-2 Cu(111)表面におけるギ酸分解反応のキネティクス(表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))