23pWX-5 水素修飾Rh(111)表面における吸着シクロヘキサンの超構造形成(23pWX 表面界面電子物性(有機分子),領域9(表面・界面,結晶成長))

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概要

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• 2010-08-18

著者

• 吉信 淳

  東大物性研

• 向井 孝三

  東大物性研

• 吉本 真也

  東大物性研

• 吉信 淳

  東京大学物性研究所

• 小板谷 貴典

  東大物性研

• 向井 孝三

  東京大学物性研究所

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