古橋 匡幸 | 東大物性研
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概要
関連著者
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古橋 匡幸
東大物性研
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吉信 淳
東大物性研
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吉信 淳
東京大学物性研究所
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片山 哲夫
東大物性研
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向井 孝三
東大物性研
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坂口 裕二
東大物性研
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山下 良之
物材機構
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吉本 真也
東大物性研
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大村 彩子
新潟大超域
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山下 良之
東大物性研
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小口 和博
東大物性研
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小板谷 貴典
東大物性研
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筒井 琢仁
東大物性研
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近藤 寛
慶應大理工化学
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近藤 寛
慶応大理工
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近藤 寛
慶応大学
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紅谷 篤史
東大物性研
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大村 彩子
東北大学金属材料研究所
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大久保 悠
東大物性研
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古橋 匡幸
阪大産研
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大村 彩子
東大物性研
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近藤 寛
慶應義塾大学
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向井 孝三
東京大学物性研究所
著作論文
- 23aGP-9 水銀とシリコン基板に挟まれた自己組織化単層膜の赤外反射吸収分光(23aGP 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aGL-9 2-メチルプロペン終端Si(100)基板とF4-TCNQの相互作用(21aGL 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25aRL-6 水素終端Si(111)表面に吸着したF_4-TCNQの電荷移動と配向(25aRL 分子デバイス・DNA,領域7(分子性固体・有機導体))
- 23aXA-10 エチレン終端Si(100)基板に蒸着したF_4-TCNQの電子状態 : NEXAFSと内殻光電子分光による研究(23aXA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aXA-11 Si(111)表面に化学吸着したアルキル分子単層膜の電気伝導特性と絶縁破壊(23aXA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))