井上 慧 | 横国大工
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概要
関連著者
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大野 真也
横国大工
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田中 正俊
横国大工
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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井上 慧
横国大工
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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横山 崇
横浜市大国際総合科学
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豊島 弘明
横国大工
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横山 崇
横浜市立大学生命ナノ
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横山 崇
横浜市大国際総合
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豊島 弘明
横浜国立大学大学院工学研究院
著作論文
- 26pPSB-28 オリゴチオフェン超薄膜成長過程の表面差分反射分光による解析(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 23pPSB-17 表面修飾Si(001)表面上のオリゴチオフェン分子の構造と電子状態(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)