井上 慧 | 横国大工
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概要
関連著者
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大野 真也
横国大工
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田中 正俊
横国大工
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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井上 慧
横国大工
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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横山 崇
横浜市大国際総合科学
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豊島 弘明
横国大工
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横山 崇
横浜市立大学生命ナノ
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横山 崇
横浜市大国際総合
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豊島 弘明
横浜国立大学大学院工学研究院
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吉信 淳
東大物性研
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向井 孝三
東大物性研
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吉越 章隆
日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター
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新江 定憲
横国大工
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安田 哲二
半導体MIRAI-産総研ASRC
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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寺岡 有殿
原研
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吉越 章隆
(独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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吉越 章隆
原研 放射光科学研セ
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森本 真弘
横国大工
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安田 哲二
産業技術総合研究所
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西山 文貴
横浜市大国際総合
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脇田 創
横国大工
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浅利 友隆
横国大工
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森本 真弘
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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向井 孝三
東京大学物性研究所
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大野 真也
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構
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井上 慧
横浜国立大学大学院工学研究院
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新江 定憲
横浜国立大学大学院工学研究院
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尾形 祥一
横浜国立大学大学院工学研究院
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寺岡 有殿
日本原子力研究所放射光科学研究センター
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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吉越 章隆
日本原子力研究所
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寺岡 有殿
日本原子力研究所
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新江 定憲
横国大院工
著作論文
- 26pPSB-28 オリゴチオフェン超薄膜成長過程の表面差分反射分光による解析(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 23pPSB-17 表面修飾Si(001)表面上のオリゴチオフェン分子の構造と電子状態(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)