井上 慧 | 横国大工

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概要

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関連著者

• 大野 真也

  横国大工

• 田中 正俊

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 井上 慧

  横国大工

• 田中 正俊

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 横山 崇

  横浜市大国際総合科学

• 豊島 弘明

  横国大工

• 横山 崇

  横浜市立大学生命ナノ

• 横山 崇

  横浜市大国際総合

• 豊島 弘明

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 吉信 淳

  東大物性研

• 向井 孝三

  東大物性研

• 吉越 章隆

  日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター

• 新江 定憲

  横国大工

• 安田 哲二

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 寺岡 有殿

  原研

• 吉越 章隆

  (独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 吉越 章隆

  原研 放射光科学研セ

• 森本 真弘

  横国大工

• 安田 哲二

  産業技術総合研究所

• 西山 文貴

  横浜市大国際総合

• 脇田 創

  横国大工

• 浅利 友隆

  横国大工

• 森本 真弘

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 向井 孝三

  東京大学物性研究所

• 大野 真也

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構

• 井上 慧

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 新江 定憲

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 尾形 祥一

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究所放射光科学研究センター

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門

• 吉越 章隆

  日本原子力研究所

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究所

• 新江 定憲

  横国大院工

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著作論文

• 26pPSB-28 オリゴチオフェン超薄膜成長過程の表面差分反射分光による解析(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 23pPSB-17 表面修飾Si(001)表面上のオリゴチオフェン分子の構造と電子状態(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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