首藤 健一 | 横浜国立大学工学部
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
首藤 健一
横浜国立大学工学部知能物理工学科
-
大野 真也
横国大工
-
大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
-
田中 正俊
横浜国立大学工学部知能物理工学科
-
首藤 健一
横国大工
-
寅丸 雅光
横浜国立大学工学府
-
飯田 貴則
横浜国立大学工学府
-
田中 正俊
横国大工
-
河村 紀一
NHK放送技研
-
小林 直人
横浜国立大工
著作論文
- 表面差分反射分光と反射率差分光を用いたSi(001)表面初期酸化過程のリアルタイム解析
- 酸素存在下におけるSi(001)-2×1上でのチタンシリサイド形成の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
- 29pPSB-52 Ruシリサイドのナノ構造作製と電子状態の測定(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aXB-3 Si表面上におけるRuの拡散と表面構造の観察(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 酸素吸着Ti/Si(001)の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
- Si(111)面におけるRuシリサイドの形成と成長過程
- 22pPSA-78 Ruシリサイドの形成と局所電子状態の測定(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 24aXB-5 Ti/Si(001)表面における局所電子状態の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 半導体表面からの励起電子誘起脱離(I) : ハロゲン吸着シリコンへの電子・正孔注入の場合
- 25pPSB-9 水素終端Si(001)表面における表面光反射スペクトルの考察(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))