表面第二高調波発声法によるSi(111)表面の塩素吸着・脱離過程の観測
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概要
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- 2001-03-20
著者
-
田中 正俊
横浜国立大学工学部知能物理工学科
-
白尾 徹郎
理化学研究所播磨研究所X線干渉光学研究室
-
首藤 健一
横浜国立大学工学部知能物理工学科
-
佐々木 智英
横浜国立大学工学部
-
白尾 徹郎
横浜国立大学工学部
-
金子 修大
横浜国立大学工学部
-
田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
-
首藤 健一
横浜国立大学工学部
-
白尾 徹郎
理研:横国大工
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