13aXF-14 塩素吸着 Si(111) 表面における紫外光励起脱離の飛行時間測定(表面界面ダイナミクス : シリコン・ダイヤモンド, 領域 9)
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2004-08-25
著者
-
田中 義人
理研播磨
-
石川 哲也
SPring-8 理研
-
田中 義人
理化学研究所X線自由電子レーザー計画推進本部
-
林 雄二郎
(独)理化学研究所 播磨研究所 放射光科学総合研究センター
-
桐村 知行
横浜国大工
-
首藤 健一
理研
-
林 雄二郎
横浜国大工
-
田中 正俊
理研
-
田中 義人
SPring-8
-
石川 哲也
理化学研究所放射光科学総合研究センター
-
田中 義人
理研
-
田中 義人
(独)理化学研究所播磨研究所 放射光科学総合研究センター
-
首藤 健一
横浜国大工
-
田中 正俊
横浜国大工
-
石川 哲也
(独)理化学研究所・播磨研究所・放射光科学総合研究センター
-
桐村 知行
横浜国大工:spring-8
-
田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
-
林 雄二郎
SPring-8/理研
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