首藤 健一 | 理研

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概要

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関連著者

• 首藤 健一

  理研

• 宗像 利明

  理研

• 宗像 利明

  阪大院理

• 武田 新也

  千葉大工

• 石川 哲也

  SPring-8 理研

• 田中 義人

  理化学研究所X線自由電子レーザー計画推進本部

• 桐村 知行

  横浜国大工

• 田中 義人

  SPring-8

• 石川 哲也

  理化学研究所放射光科学総合研究センター

• 田中 義人

  (独)理化学研究所播磨研究所 放射光科学総合研究センター

• 首藤 健一

  横浜国大工

• 田中 正俊

  横浜国大工

• 石川 哲也

  (独)理化学研究所・播磨研究所・放射光科学総合研究センター

• 桐村 知行

  横浜国大工:spring-8

• 田中 正俊

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 石川 哲也

  理研

• 田中 義人

  理研播磨

• 林 雄二郎

  (独)理化学研究所 播磨研究所 放射光科学総合研究センター

• 林 雄二郎

  横浜国大工

• 田中 正俊

  理研

• 田中 義人

  横浜国大工

• 田中 正俊

  SPring-8

• 武田 新也

  理研

• 田中 義人

  理研

• 林 雄二郎

  SPring-8/理研

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著作論文

• 13aXF-14 塩素吸着 Si(111) 表面における紫外光励起脱離の飛行時間測定(表面界面ダイナミクス : シリコン・ダイヤモンド, 領域 9)
• 28pWR-4 ピコ秒紫外レーザー照射による塩素吸着Si(111)表面の新しい光励起脱離の特性(表面界面ダイナミクス(電子励起・摩擦))(領域9)
• 25pW-13 2光子光電子分光法によるシリコン(111)表面の電子励起状態測定
• 28a-Q-1 2PPEによるSi(001)の励起状態測定
• 28a-YR-7 シリコン表面における吸着分子の2光子光電子分光
• 1p-YF-7 表面吸着分子の高分解能二光子光電子分光

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