24aPS-64 オリゴチオフェン超薄膜成長過程とSi表面終端構造との相関(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))

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概要

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• 2010-08-18

著者

• 横山 崇

  横浜市大国際総合科学

• 大野 真也

  横国大工

• 田中 正俊

  横国大工

• 新江 定憲

  横国大工

• 豊島 弘明

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 横山 崇

  横浜市立大学生命ナノ

• 横山 崇

  横浜市大国際総合

• 田中 正俊

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 豊島 弘明

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 新江 定憲

  横国大院工

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