宮本 泰敬 | NHK技研
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概要
関連著者
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宮本 泰敬
NHK技研
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宮本 泰敬
東工大
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町田 賢司
日本放送協会放送技術研究所
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宮本 泰敬
NHK放送技術研究所
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町田 賢司
Nhk放送技術研究所
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林 直人
NHK放送技術研究所
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林 直人
Nhk放送技術研究所 撮像・記録デバイス研究部
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宮本 泰敬
NHK
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玉城 孝彦
Nhk放送技術研究所
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玉城 孝彦
NHK技研
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河村 紀一
NHK放送技研
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中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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青島 賢一
日本放送協会放送技術研究所
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中川 茂樹
東京工業大学
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奥田 治雄
NHK放送技術研究所
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玉城 孝彦
NHK 放送技研
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直江 正彦
東京工業大学 電子物理工学専攻
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久我 淳
NHK放送技術研究所
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宮本 泰敬
東京工業大学工学部電子物理工学科
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直江 正彦
東京工業大学
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久我 淳
日本放送協会 放送技術研究所
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玉城 孝彦
NHK放送技研
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渡邊 健太郎
東北大
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首藤 健一
横国大工
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大野 真也
横国大工
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奥田 治雄
Nhk 放送技研
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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首藤 健一
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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寅丸 雅光
横浜国立大学工学府
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小林 直人
横浜国立大工
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船橋 信彦
NHK放送技術研究所
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葭谷 徹
東工大 電子物理工
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大野 真也
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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首藤 健一
横浜国立大学工学部
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河村 紀一
NHK技研
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町田 賢司
日本放送協会 放送技術研究所
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船橋 信彦
日本放送協会 放送技術研究所
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宮本 泰敬
日本放送協会 放送技術研究所
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宮本 泰敬
東工大 電子物理工
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中川 茂樹
東工大 電子物理工
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直江 正彦
東工大 電子物理工
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町田 賢司
Nhk 放送技研
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青島 賢一
日本放送協会 放送技術研究所
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藤田 欣裕
NHK放送技術研究所
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沼澤 潤二
NHK放送技術研究所
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久我 淳
日本放送協会放送技術研究所
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青島 賢一
NHK放送技術研究所
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西村 高一
東工大
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渡邊 健太郎
東京工業大学電子物理工学科
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葭谷 徹
東京工業大学工学部電子物理工学科
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清水 直樹
日本放送協会放送技術研究所
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中川 茂樹
東工大
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清水 直樹
NHK放送技術研究所
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大谷 義近
東大物性研:理研
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木村 崇
九大稲盛フロンティア
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大谷 義近
東京大学物性研究所
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河村 紀一
日本放送協会放送技術研究所表示・光デバイス
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直江 正彦
東工大
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清水 直樹
日本放送協会 放送技術研究所
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武藤 一利
Nhk放送技術研究所
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直江 正彦
東工大 工
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木村 崇
東京大学物性研究所
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中村 昇一
NHK放送技術研究所
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木村 崇
理研
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渡邊 健太郎
東工大
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渡辺 健太郎
東京工業大学工学部電子物理工学科
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西村 高一
東京工業大学工学部電子物理工学科
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渡邊 健太郎
東工大 電子物理工
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木村 崇
九大稲盛フロンティア研究センター
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武藤 一利
日本放送協会総合技術研究所
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武藤 一利
Nhk 放送技研
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木村 崇
熊大院自然:crest
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奥田 光伸
NHK放送技術研究所撮像・記録デバイス研究部
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奥田 光伸
NHK放送技術研究所
著作論文
- 29pPSB-52 Ruシリサイドのナノ構造作製と電子状態の測定(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aXB-3 Si表面上におけるRuの拡散と表面構造の観察(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- Si(111)面におけるRuシリサイドの形成と成長過程
- 22pPSA-78 Ruシリサイドの形成と局所電子状態の測定(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- Cu下地膜を用いたFe-Co-Al-O膜の磁気特性(磁性薄膜,磁気記録一般)
- 垂直磁気記録用フロントヨーク積層型TMRヘッド解析 : 磁気ヘッド
- 垂直磁気記録用フロントヨーク積層型TMRヘッドの再生特性解析
- 近接配置したCPP-SV素子のスピン注入磁化反転と磁気光学測定(映像情報機器及び一般)
- CoFeスピンバルブ膜の Current-perpendicular-to-plane (CPP)-GMR 特性とその素子形状依存性
- CoFeスピンバルブ膜のCurrent-perpendicular-to-plane(CPP)-GMR特性とその素子形状依存性(HDD及び一般)
- Fe3O4系微小トンネル接合の作製--スピンフィルターの実現を目指して (スピントロニクス 特集号)
- イオンビームスパッタ成膜によるCoFe合金スピンバルブ膜のCPP-GMR特性
- Cu下地膜を用いたFe-Co-Al-O薄膜の磁気特性(ソフト磁性材料)
- Cu下地膜を用いたFe-Co-Al-O膜の磁気特性
- Cu下地膜を用いたFe-Co-Al-O膜の磁気特性
- フロントヨーク積層型TMRヘッドの再生特性シミュレーション
- フロントヨーク積層型TMRヘッドの再生特性シミュレーション
- 垂直磁気記録用フロントヨーク積層型TMRヘッド解析
- イオンビームアシストしたPt-Mn/Co-Fe膜の交換結合
- SC-5-7 垂直磁気記録用フロントヨーク積層型TMRヘッドの再生特性解析
- マルチチャンネルMRヘッドのシミュレーションと素子評価--超高速・大容量記録装置の実現に向けて (超高密度記録技術特集)
- 解説・報告 スピンエレクトロニクスストレージの展望 (超高密度記録技術特集)
- MR2000-16 マルチチャンネルMRヘッドのシミュレーションと素子評価
- Ni-Fe/CuおよびFeMn/Ni-Fe多層膜における界面変調効果
- Krイオンビームスパッタ堆積によるGMR多層膜の特性改善
- Ni-Fe/Cu多層膜における界面へのイオン照射 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- Ni-Fe/Cu多層膜における界面へのイオン照射
- Ni-Fe/Cu多層膜の界面におけるイオン照射効果と磁気抵抗特性の変化
- Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
- Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
- Ni-Fe層によるスピンバルブ中FeMn層配向度制御効果
- GMR素子用Ni-Fe/Cu膜における界面へのイオン照射
- イオンビームスパッタ法によるNi-Fe/Cu巨大磁気抵抗効果多層膜のバッファー層制御特性
- 原子間力顕微鏡を用いた磁性細線上の磁区トラップサイトの作製 (超小型カメラを実現する撮像・記録デバイス技術 特集号)
- 磁性細線の研究動向 (超小型カメラを実現する撮像・記録デバイス技術 特集号)
- 3-3 ホイスラー合金を用いたCPP-GMR素子のスピン注入磁化反転(第3部門 ストレージ&ディスプレイ&センシング&コンシューマエレクトロニクス)