Ni-Fe/Cu多層膜の界面におけるイオン照射効果と磁気抵抗特性の変化
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概要
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- 1996-07-12
著者
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
渡邊 健太郎
東北大
-
中川 茂樹
東京工業大学
-
直江 正彦
東京工業大学 電子物理工学専攻
-
宮本 泰敬
NHK技研
-
宮本 泰敬
東工大
-
宮本 泰敬
東京工業大学工学部電子物理工学科
-
渡邊 健太郎
東京工業大学電子物理工学科
-
直江 正彦
東京工業大学
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