高密度磁気 Hall メモリ素子用Dy_x(Fe_<90>Co_<10>)_<1-x>垂直磁化膜
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
中川 茂樹
東京工業大学
-
ダス サラバヌ
東京工業大学
-
ダス サラバヌ
東京工業大学 大学院理工学研究科 電子物理工学専攻
-
Sarbanoo Das
東京工業大学 大学院理工学研究科 電子物理工学専攻
-
徳力 宣夫
東京工業大学
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院
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