Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製(光記録,磁気記録)
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概要
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次世代垂直磁気記録媒体用のL1_0-FePt規則合金薄膜を作製するため、第三元素を堆積したFe/Pt/X三層膜にアニール処理を施すことによりFePtの特性制御を試みた。第三元素としては熱アシスト磁気記録媒体に適した温度特性を得るためにCuを、FePtの低温形成を目指してAuをそれぞれ使用した。Cu添加膜においてキュリー温度が280℃付近まで低減し、キュリー温度付近では保磁力が1kOe程度まで減少していることが確認できた。また従来FePtの作製にはアニール温度が550℃以上必要であったが、Auを添加することにより従来に比べて低い500℃でのFePtの生成が確認できた。
- 2010-03-12
著者
-
緒方 祐史
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
今井 康晴
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
中川 茂樹
東京工業大学
-
中川 茂樹
東工大
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院電子物理工学専攻
-
緒方 祐史
東京工業大学大学院理工学研究科
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